JP2012020917A5 - - Google Patents

Claims (3)

1. シーメンス法による多結晶シリコンの気相成長に用いられる反応炉の内壁面を洗浄するための反応炉洗浄装置であって、
   鉛直方向に移動可能な垂直軸と、
   前記垂直軸の先端に取り付けられた自転可能な回転部材と、
   前記回転部材に取り付けられ前記垂直軸の周りを公転可能なノズル支持体と、
   前記ノズル支持体の動力を前記回転部材に伝える動力伝達手段と、
   前記ノズル支持体に取り付けられた少なくとも２本のノズルとを備え、
   前記ノズルの先端から前記反応炉の内壁面までの距離（Ｄ）と前記ノズルの口径（ｒ）は２００≦Ｄ／ｒ≦５００を満足し、
   前記ノズル支持体は前記ノズルから高圧噴射される洗浄水の噴射反動力により自転し、
   該ノズル支持体の自転は前記動力伝達手段を介して前記回転部材に伝達されて該回転部材を前記垂直軸を軸に自転せしめるとともに前記ノズル支持体を前記垂直軸の周りを公転せしめ、前記ノズルから噴射圧３０〜２００ＭＰａの洗浄水が三次元方向に高圧噴射されることを特徴とする反応炉洗浄装置。
2. 前記ノズル支持体が前記垂直軸の周りを１回転公転する間に該ノズル支持体が自転する回数が、端数を有する非自然数となるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の反応炉洗浄装置。
3. シーメンス法による多結晶シリコンの気相成長に用いられる反応炉の内壁面を洗浄するための反応炉洗浄方法であって、
   先端が洗浄水の噴射部であるノズルであって、該噴射部の口径（ｒ）が反応炉の内壁面までの距離（Ｄ）との関係において２００≦Ｄ／ｒ≦５００を満足するノズルで洗浄水を高圧噴射し、
   該洗浄水の噴射反動力により前記ノズルの支持体を自転させ、
   該ノズルの支持体の自転の動力を、鉛直方向に移動可能な垂直軸の先端に取り付けられた自転可能な回転部材に伝達させ、
   該動力伝達により前記回転部材を前記垂直軸を軸に自転せしめるとともに前記ノズルの支持体を前記垂直軸の周りを公転せしめ、前記ノズルから噴射圧３０〜２００ＭＰａの洗浄水を三次元方向に高圧噴射させ、
   前記回転部材の高さを維持した状態で前記反応炉の内壁面を所定時間洗浄した後に前記回転部材の高さを変えて前記内壁面の洗浄を少なくとも１回実行することを特徴とする反応炉洗浄方法。