JP2012015491A5 - 半導体装置 - Google Patents

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  1. 第1のチャネル形成領域を有する第1のトランジスタと、
    第2のチャネル形成領域を有する第2のトランジスタとを有し、
    前記第1のチャネル形成領域は、酸化物半導体を有し、
    前記第2のチャネル形成領域は、酸化物半導体を有し、
    前記第1のトランジスタのゲートは、前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方と、前記第2のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第1のチャネル形成領域の膜厚は、前記第2のチャネル形成領域の膜厚より厚いことを特徴とする半導体装置。
  2. 第1のトランジスタと、第2のトランジスタを有し、
    前記第1のトランジスタは、
    第1のチャネル形成領域を有する第1の酸化物半導体層と、
    前記第1の酸化物半導体層と重なる領域を有する第1のゲート電極と、
    前記第1の酸化物半導体層と電気的に接続される第1の導電層及び第2の導電層とを有し、
    前記第2のトランジスタは、
    第2のチャネル形成領域を有する第2の酸化物半導体層と、
    前記第2の酸化物半導体層と重なる領域を有する第2のゲート電極と、
    前記第2の酸化物半導体層と電気的に接続される前記第1の導電層及び第3の導電層とを有し、
    前記第1の導電層は、前記第1のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方として機能する領域と、前記第2のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方として機能する領域と、を有し、
    前記第2の導電層は、前記第1のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方として機能する領域を有し、
    前記第3の導電層は、前記第2のトランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方として機能する領域を有し、
    前記第1の導電層と、前記第1のゲート電極とは電気的に接続され、
    前記第1のチャネル形成領域の膜厚は、前記第2のチャネル形成領域の膜厚より厚いことを特徴とする半導体装置。
  3. 請求項2において、
    前記第1の導電層と、前記第1のゲート電極とは、第4の導電層を介して電気的に接続されることを特徴とする半導体装置。
  4. 請求項2又は3において、
    前記第1の酸化物半導体層と前記第1の導電層との間に、第1のバッファ層を有し、
    前記第1の酸化物半導体層と前記第2の導電層との間に、第2のバッファ層を有し、
    前記第2の酸化物半導体層と前記第1の導電層との間に、第3のバッファ層を有し、
    前記第2の酸化物半導体層と前記第3の導電層との間に、第4のバッファ層を有することを特徴とする半導体装置。
  5. 請求項2乃至4のいずれか一において、
    前記第1の酸化物半導体層のチャネル長方向の長さは、前記第1のゲート電極のチャネル長方向の長さより小さく、
    前記第2の酸化物半導体層のチャネル長方向の長さは、前記第2のゲート電極のチャネル長方向の長さより大きいことを特徴とする半導体装置。
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