JP2012013686A

JP2012013686A - 干渉計

Info

Publication number: JP2012013686A
Application number: JP2011123835A
Authority: JP
Inventors: Katsutoshi Watanabe; 克俊渡邉; Yoichi Mori; 洋一森; Kunihiko Matsumura; 国彦松村; Tsuneyasu Okabe; 恒康岡部
Original assignee: Tochigi Nikon Corp
Current assignee: Tochigi Nikon Corp
Priority date: 2010-06-02
Filing date: 2011-06-01
Publication date: 2012-01-19
Anticipated expiration: 2031-06-01
Also published as: JP5759270B2

Abstract

【課題】コスト及び測定時間を抑えるとともに、非球面を含む様々な表面形状を効率良く測定することが可能な干渉計を提供する。
【解決手段】光源２、コリメートレンズ３、フォーカシングレンズ４、及び空間フィルタ５と、空間フィルタ５からの光束を平行光にする第１ビームエキスパンダーレンズ６及び第２ビームエキスパンダーレンズ８と、第２ビームエキスパンダーレンズ８から射出された平行光を収束させる収束レンズ９と、光束を分割し、参照レンズ１２と被検レンズ１３に導くとともに、参照レンズ１２と被検レンズ１３からの反射光を重ね合わせて射出する
ビームスプリッター１１と、ビームスプリッター１１から射出された光を受光するスクリーン１４と、スクリーン１４が受光した光をＣＣＤカメラ１８で撮像する撮像光学系１７と、ＣＣＤカメラ１８から得られた画像（干渉縞）を取り込み、表面形状を解析する形状解析部１９とを備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、干渉計に関する。

被検物の被検面の形状を測定する干渉計のうち多く普及しているものとしてフィゾー型
干渉計が挙げられる。フィゾー型干渉計では、参照面を有するフィゾーレンズを適宜交換
することにより、被検物における平面形状及び球面形状等の様々な形状を測定することが
可能となっている。また、非球面形状の計測については、例えばフィゾーレンズと被検面
との間にＣＧＨ（Computer Generated Hologram）という回折光学素子を配置する手法が
ある。

このＣＧＨを使用すると光線を非球面に対して垂直に入射させることが可能となるため
、参照面からの反射光と被検面からの反射光とを合成させて干渉縞が得られ、高精度に表
面形状を測定することが可能となる（例えば、特許文献１を参照）。また、原子間力プロ
ーブを用いて、針状のプローブと被検面との間の原子間力（斥力）が一定になるようにし
た状態でプローブに被検面を走査させることにより超高精度に非球面形状を測定する装置
も公知となっている。

特開平７−２２９７２１号公報

しかしながら、上述したＣＧＨは高価な光学素子であり、さらにＣＧＨは測定対象の表
面形状毎に設ける必要があるためコストが高くなるという課題がある。また、ＣＧＨと被
検面との間における位置調整は高精度に行う必要があるが、レンズ変更のたびに上記位置
調整を行わなければならないため容易にレンズの種類を変更できないという課題もある。
そして、上述した原子間力プローブを使用する方法は、超高精度に測定することは可能な
ものの、測定にかかる時間が長く大量の非球面レンズを効率的に測定するには適さないと
いう課題があった。

このように、上述したＣＧＨ又は原子間力プローブを用いた方法は、高精度に面形状を
測定したい場合は有益な方法となるが、大量の被検物の表面形状を効率良く測定する場合
においては、コストと時間がかかり過ぎるため有益な方法とは言えない。

本発明は、上述したような課題に鑑みてなされたものであり、コスト及び測定時間を抑
えるとともに、非球面を含む様々な表面形状を効率良く測定することが可能な干渉計を提
供することを目的とする。

このような目的を達成するため、本発明に係る干渉計は、近赤外光を射出する光源部と
、前記光源部から射出された光を平行光に変換するコリメートレンズと、前記コリメート
レンズから射出された平行光を拡大するビームエキスパンダー部と、前記ビームエキスパ
ンダー部から射出された平行光に対して挿抜可能に設けられ、前記平行光に挿入されたと
き前記平行光を収束する収束レンズと、前記ビームエキスパンダー部によって拡大された
平行光もしくは収束レンズによって収束された収束光を分割して被検物の被検面及び参照
物の参照面に導き、前記被検面及び前記参照面から反射された二つの反射光を重ね合わせ
て射出する光路分割重合部と、前記光路分割重合部によって重ね合わされた光束を干渉縞
として取得する干渉縞取得部とを備えたことを特徴とする。

以上のように構成される本発明の干渉計においては、コスト及び測定時間を抑えるとと
もに、非球面を含む様々な表面形状を効率良く測定することができる。

本発明に係る干渉計の概略構成図である。上記干渉計において、第２ビームエキスパンダーレンズ及び収束レンズを光路から外した状態を示す図である。上記干渉計において、第１ビームエキスパンダーレンズを光路から外した状態を示す図である。上記干渉計における被検レンズ用フォルダの概略構成図である。上記干渉計におけるスクリーン上の干渉縞の径と被検レンズの径との位置関係の一例を示す図である。上記干渉計におけるレンズ切替装置の構成の一例を示す斜視図である。

以下、図面を参照しながら、本発明に係る干渉計の実施形態について説明する。本実施
形態における干渉計１は、図１に示すように、参照レンズ１２を測定基準として、被検レ
ンズ１３の被検面の表面形状を測定するために用いられる装置である。干渉計１は、光源
２と、コリメートレンズ３と、フォーカシングレンズ４と、空間フィルタ５と、第１ビー
ムエキスパンダーレンズ６と、第１平面ミラー７と、第２ビームエキスパンダーレンズ８
と、収束レンズ９と、収束レンズ駆動部１０と、ビームスプリッター１１と、参照レンズ
１２と、スクリーン１４と、スクリーン駆動部１５と、第２平面ミラー１６と、撮像光学
系１７と、ＣＣＤカメラ１８と、形状解析部１９とを備えて構成される。被検レンズ１３
は、ビームスプリッター１１の上方に設けられた後述の被検レンズ用フォルダ２０のレン
ズ載置部２１ａ（図４参照）に載置された状態で、その被検面が測定される。

光源２は、１０００ｎｍ以上１６００ｎｍ以下の光を射出する。本実施形態では、光源
２は、波長１０３０ｎｍの近赤外光を射出し、コリメートレンズ３に導く。光源２から射
出される近赤外光は、波長帯域が狭く、可干渉距離が長いレーザー光である。コリメート
レンズ３は、光源２から射出された光を平行光にする。フォーカシングレンズ４は、コリ
メートレンズ３から射出された平行光を収束する。空間フィルタ５は、フォーカシングレ
ンズ４の焦点位置に配置され、レーザー光のノイズを除去する。第１ビームエキスパンダ
ーレンズ６及び第２ビームエキスパンダーレンズ８は、フォーカシングレンズ４により収
束され空間フィルタ５から射出された光束を再度平行光にする。

第１ビームエキスパンダーレンズ６、第２ビームエキスパンダーレンズ８及び収束レン
ズ９は、それぞれ光軸に対して垂直な方向に移動させて光路内に挿抜可能に設けられてお
り、例えば、図２のように第２ビームエキスパンダーレンズ８及び収束レンズ９を光路か
ら外したり、図３のように第１ビームエキスパンダーレンズ６のみを光路から外したりし
て、第１ビームエキスパンダーレンズ６、または第２ビームエキスパンダーレンズ８及び
収束レンズ９を光路に挿入させるか否かを選択することができるようになっている。

例えば、図２に示すように、第２ビームエキスパンダーレンズ８及び収束レンズ９を光
路内から外す場合、参照レンズ１２及び被検レンズ１３には、ビームスプリッター１１を
介して第１ビームエキスパンダーレンズ６から射出された平行光が入射する。これにより
、被検レンズ１３の被検面が平面又は曲率が小さい面である場合に、被検面に略垂直に光
を入射させることができるため、反射光がビームスプリッター１１の外部に漏れることが
なく、平面基板、凸面、凹面に限らず、曲率の小さい球面や非球面の形状測定を行うこと
ができる。

また、図３に示すように、第１ビームエキスパンダーレンズ６のみを光路から外す場合
、第２ビームエキスパンダーレンズ８により射出された平行光は、収束レンズ９により収
束され、ビームスプリッター１１を介して参照レンズ１２及び被検レンズ１３に入射する
。第２ビームエキスパンダーレンズ８は、第１ビームエキスパンダー６よりも焦点距離が
長いため、第１ビームエキスパンダー６を使用する場合より、拡大した平行光を射出する
ことができる。これにより、収束レンズ９による収束角を大きくすることができる。従っ
て、被検レンズ１３の被検面の曲率が大きい球面又は非球面であっても、被検面に略垂直
に光を入射させることができるため、反射光がビームスプリッター１１の外部に漏れるこ
とがなく、凸面、凹面に限らず、曲率の大きい球面レンズや非球面レンズの形状測定を行
うことができる。

収束レンズ９は、収束レンズ駆動部１０により、図１及び図３の矢印に示すように、光
軸方向に移動可能に設けられている。なお、収束レンズ９には、球面収差が補正されたダ
ブレット（図１参照）又は非球面レンズを用いることが好ましい。この構成により、凸面
、凹面に限らず、曲率が大きく且つ外径が小さい被検レンズ１３を用いた場合でも干渉縞
を得ることができる。例えば、球面収差を補正していない収束レンズ９を用いて、曲率が
大きく外径が小さい被検レンズ１３の形状を測定した場合、被検レンズ１３へ入射する収
束角の大きい光線が、被検レンズ１３へ入射する収束角の小さい光線よりも内側に入るよ
うになるため、正常な干渉縞が得られないという問題が発生する。

ビームスプリッター１１は、上述した第１ビームエキスパンダーレンズ６又は収束レン
ズ９から射出された光束を分割し、参照レンズ１２及び被検レンズ１３に導く。ここで、
良好な干渉縞を得るためには、基準となる参照レンズ１２（参照面）側の光路長と、被検
レンズ１３（被検面）側の光路長とを同じにする必要があるが、例えばビームスプリッタ
ー１１としてプレート型ビームスプリッターを用いた場合、光路長を同一にするためには
、参照面側又は被検面側のいずれかの光路に光路長補正用部材を設けなければならない。
これに対し、キューブ型ビームスプリッターを用いた場合、上記のような光路長補正用部
材を設けなくても、参照レンズ１２（参照面）側の光路長と被検レンズ１３（被検面）側
の光路長を同じにすることができる。また、キューブ型ビームスプリッターを用いた場合
、スクリーン１４に投影される干渉縞の像の歪みを抑えることができるという利点もある
。以上の理由により、ビームスプリッター１１としては、キューブ型ビームスプリッター
を用いた方が好ましい。なお、ビームスプリッター１１における光の透過面及び反射面の
基板面精度（凹凸の差の最大値）は、測定の精度に影響を及ぼすため、λ／１０以下であ
ることが好ましい（波長λ＝632.8nm）。

被検レンズ１３は、図４に示すように、被検レンズ用フォルダ２０のレンズ載置部２１
ａに載置させた状態で、その被検面の測定が行うことができる。被検レンズ用フォルダ２
０は、ビームスプリッター１１の上方に設けられ、レンズ位置決め部材２１と、蓋体２２
とを備えて構成される。レンズ位置決め部材２１は、断面凹形状のレンズ載置部２１ａと
、レンズ載置部２１ａの凹部底面の中央部に上下に貫通して形成された貫通孔２１ｂとを
有する。この構成によれば、貫通孔２１ｂの下方に位置するビームスプリッター１１によ
り分割された光が、当該貫通孔２１ｂを通ってレンズ載置部２１ａに載置された被検レン
ズ１３の被検面に照射されるようになっている。なお、貫通孔２１ｂの径の大きさは、被
検レンズ１３の外周縁部がレンズ載置部２１ａに載るように、被検レンズ１３の被検面よ
り大きく、被検レンズ１３の外径よりも小さい。また、貫通孔２１ｂの中心は、被検レン
ズ１３の中心及び光軸と略一致している。蓋体２２は、レンズ載置部２１ａの前記凹部開
口に対して開閉可能に設けられている。被検レンズ１３は、この蓋体２２を開放してレン
ズ載置部２１ａの凹部に載置され、この状態で蓋体２２を被せられて測定される。このよ
うな構成の被検レンズ用フォルダ２０により、測定対象の被検レンズ１３は、レンズ載置
部２１ａへの載置及び測定を速やかに行うことができ、作業の効率化を図ることができる
。

ビームスプリッター１１は、参照レンズ１２及び被検レンズ１３からの反射光を重ね合
わせて射出する。

スクリーン１４は、ビームスプリッター１１から射出された光を受光する。本実施形態
では、ビームスプリッター１１から射出された光は、スクリーン１４に干渉縞として投影
される。なお、スクリーン１４として、例えば、光を拡散させるすりガラス状のものを用
いることができる。また、スクリーン１４は、図１〜図３の矢印で示すように、スクリー
ン駆動部１５により光軸方向に移動可能に設けられている。このようにスクリーン１４を
光軸方向に移動させることにより、スクリーン１４上の画像（干渉縞）の拡大または縮小
を行うことができる。

スクリーン１４で受光された光（干渉縞）は、第２平面ミラー１６により撮像光学系１
７に導かれ、ＣＣＤカメラ１８により撮像される。そして、撮像された画像は、形状解析
部１９に取り込まれ、形状解析される。

形状解析部１９は、画像解析のために用いられるパーソナルコンピュータ（ＰＣ）等を
備えて構成される。形状解析部１９は、ＣＣＤカメラ１８により撮影された画像（例えば
、干渉縞画像）から被検レンズ１３の形状を解析するが、そのために必要な情報を取得す
るため、測定対象の被検レンズ１３の形状に関する情報（曲率半径、非球面係数、コーニ
ック係数等）が入力される形状情報入力部２０ａ（図示略）と、収束レンズ９、参照レン
ズ１２及びスクリーン１４の光路上の位置情報を検出する位置検出部２０ｂ（図示略）と
を有し、形状情報入力部２０ａに入力された形状情報及び位置検出部２０ｂにより検出さ
れた光路上の位置情報に基づき、光源２から射出された光の光線経路を算出して光線追跡
できるようになっている。そして、形状解析部１９は、上記のように光線追跡を行った結
果に基づいて収束レンズ９及びスクリーン１４の光路上における最適位置を算出し、収束
レンズ駆動部１０及びスクリーン駆動部１５に対して、収束レンズ９及びスクリーン１４
を前記最適位置に移動するように制御信号を出力する。形状解析部１９が出力した制御信
号を受信した収束レンズ駆動部１０及びスクリーン駆動部１５は、収束レンズ９及びスク
リーン１４を上記最適位置に移動させる。

なお、本実施形態ではスクリーン１４が受光した像は干渉縞であり、形状解析部１９は
、被検レンズ１３の被検面の径と前記干渉縞の径との関係が（例えば、図５のａ又はｃの
曲線ではなくｂの直線で示すように）線形となり、前記干渉縞の位置が被検レンズ１３の
被検面の位置を的確に示すように、収束レンズ９及びスクリーン１４の光路上における最
適位置を補正する。具体的には、形状解析部１９は、上記のように被検レンズ１３の被検
面の径とスクリーン１４の前記干渉縞の径との関係が線形となるように、上記形状等の情
報に基づいて内部プログラムの補正関数により補正される。

以上のように構成される干渉計装置１において、第１ビームエキスパンダーレンズ６、
第２ビームエキスパンダーレンズ８及び収束レンズ９を光路内から挿抜させる手段として
レンズ切替装置３０を備えている。以下、レンズ切替装置３０について述べるが、説明を
簡潔にするため、図６において、第２ビームエキスパンダーレンズ８に対して収束レンズ
９が設けられている方向（すなわち、紙面上方）を上方向、ＬＭガイド３２に対して第１
ビームエキスパンダーレンズ６が設けられる方向（紙面右上方向）を前方向、図６の紙面
左上方向を左方向として定義する。

レンズ切替装置３０は、図６に示すように、レンズ保持部材３１と、ＬＭガイド３２と
、一対のストッパ３３，３３と、マイクロメータ３４とを有して構成される。レンズ保持
部材３１は、第２ビームエキスパンダーレンズ８及び収束レンズ９を上下に並んで保持す
るとともに、第１ビームエキスパンダーレンズ６を第２ビームエキスパンダーレンズ８及
び収束レンズ９の下方の右斜め前方に保持する。ＬＭガイド３２は、レンズ切替装置３０
の下部に設けられ、該装置の長手方向（紙面左右方向）に延びたレール３２ａと、レンズ
保持部材３１が固定されてレール３２ａに沿って移動自在なスライダー３２ｂとからなる
。一対のストッパ３３，３３は、ＬＭガイド３２のレール３２ａの両端部に設けられ、ス
ライダー３２ｂがレール３２ａ上から脱落しないように、スライダー３２ｂの移動範囲を
制限する。マイクロメータ３４は、収束レンズ９を光軸方向（図中上下）に移動させるも
のであり、手動で収束レンズ９の光軸方向の位置を最適化する場合に使用する。

このような構成を有するレンズ切替装置３０は、図示は省略するが、その前側下方に光
源２、コリメートレンズ３、対物レンズ４及び空間フィルタ５が位置し、レンズ保持部材
３１に保持された第２ビームエキスパンダーレンズ８の下方に第１平面ミラー７が位置し
、同じくレンズ保持部材３１に保持された収束レンズ９の上方にビームスプリッター１１
、参照レンズ１２及び被検レンズ１３が位置するように、干渉計装置１内に設置される。

そして、レンズ切替装置３０は、図６に示すように、レンズ保持部材３１をＬＭガイド
３２のスライダー３２ｂによりレール３２ａの右端側へとスライド移動させ、第２ビーム
エキスパンダーレンズ８及び収束レンズ９を光路に挿入し、第１ビームエキスパンダーレ
ンズ６を光路から外すと、光源２から射出された光は、コリメートレンズ３、対物レンズ
４、空間フィルタ５をこの順で透過した後に、第１平面ミラー７で上方に向かって反射さ
れ、第２ビームエキスパンダーレンズ８、収束レンズ９をこの順で透過して、ビームスプ
リッター１１にその下方から入射するようになっている。

また、図６の位置から、レンズ保持部材３１をＬＭガイド３２のスライダー３２ｂによ
りレール３２ａの左端側へとスライド移動させ、第２ビームエキスパンダーレンズ８及び
収束レンズ９を光路から外し、第１ビームエキスパンダーレンズ６を光路に挿入すると、
光源２から射出された光は、コリメートレンズ３、対物レンズ４、空間フィルタ５をこの
順で透過した後に、第１ビームエキスパンダーレンズ６を経て、第１平面ミラー７により
上方に反射され、ビームスプリッター１１にその下方から入射するようになっている。

このようにレンズ切替装置３０では、第１ビームエキスパンダーレンズ６のみを光路に
挿入するか、あるいは第２ビームエキスパンダーレンズ８及び収束レンズ９を光路に挿入
するかにより、ビームスプリッター１１に入射させる光を平行光にするか、あるいは収束
光にするかを選択することができる。

つまり、本実施形態における干渉計装置１は、レンズ切替装置３０により、収束レンズ
９が光路に対して挿抜可能に設けられている。従って、収束レンズ９を光路から外した場
合は、平行光束が参照レンズ１２の参照面及び被検レンズ１３の被検面に導かれるため、
平面基板、曲率が小さい球面レンズや非球面レンズ等の被検面の形状測定を好適に行うこ
とができる。また、収束レンズ９を光路内に挿入した場合は、収束光が参照レンズ１２の
参照面及び被検レンズ１３の被検面に導かれるため、凸面、凹面に限らず、曲率が大きな
球面レンズや非球面レンズの被検面の形状測定を好適に行うことができる。

なお、本実施形態では、レンズ切替装置３０を用いて、第２ビームエキスパンダーレン
ズ８と収束レンズ９とを同時に光路に対して挿抜させる例について説明したが、第２ビー
ムエキスパンダーレンズ８と収束レンズ９とを別々に光路に対して挿抜させるように構成
してもよい。

また、本実施形態における干渉計装置１は、レンズ切替装置３０により、第１ビームエ
キスパンダーレンズ６と第２ビームエキスパンダーレンズ８とが別々に光路に対して挿抜
可能に設けられている。この構成により、参照レンズ１２及び被検レンズ１３に入射させ
る光の光束の径を変更することが可能となり、これらレンズ６，８を被検レンズ１３の被
検面の大きさに応じて使い分けることができる

以上のように、本実施形態における干渉計装置１では、ビームスプリッター１１により
分割された後の光束の波面精度は、参照レンズ１２側及び被検レンズ１３側の両光路で同
一になるようにする必要があるため、ビームスプリッター１１の面精度や、光束を分割し
た後の光路に光学素子を設ける場合は前記光学素子の面精度及び配置等に細心の注意を払
う必要がある。しかしながら、干渉計装置１は、光束を分割する前において光路長に差が
発生しないように構成されているため、各光学素子の面や配置について従来のフィゾー干
渉計と比較して高い精度が必要ないという点で優れている。

ここまで、本発明の好ましい実施の態様を説明してきたが、本発明はこれに限定される
ことはない。

例えば、本実施形態では、１０００ｎｍ以上１６００ｎｍ以下の波長を有する近赤外線
を射出する光源２を用いた例について示してきたが、光源２の波長としては必ずしも上記
に限定されず、例えば、可視光を用いることも可能である。しかしながら、上記波長範囲
を有する近赤外光を使用することにより、例えば可視光領域に対応した反射防止コートが
塗布された参照レンズまたは被検レンズに対しても、参照面及び検出面から比較的高い反
射率の光が得られ、被検面を良好に測定することが可能となる。

また、本実施形態では、スクリーン１４に写した干渉縞を撮像光学系１７に撮像させる
例について説明したが、このスクリーン１４を省略して、干渉縞を直接ＣＣＤカメラ１８
に投影させることも可能である。

また、本実施形態では、図１等に示すように、光源２の後段にコリメートレンズ３、対
物レンズ４、空間フィルタ５及び第１平面ミラー７が設けられ、スクリーン１４の後段に
第２平面ミラー１６が設けられた例について説明したが、これらレンズ群及びミラー群の
構成については上記に限定されることはなく、適宜変更可能である。

また、本実施形態では、スクリーン１４として、すりガラス状のものを用いた例につい
て説明したが、光源２から射出された近赤外光を受光したときに可視光を発光する機能を
備えたものを用いてもよい。例えば、近赤外光を受光するとその強弱に応じて可視光を発
光するエレクトロントラッピング（Electron Trapping）剤が表面に塗布されたＩＲセン
サーカードを用いることも可能である。このような構成により、スクリーン１４上の近赤
外光を受光した部分から発せられた可視光に基づく像、すなわち干渉縞を目視することが
可能になる。その結果、画像を取得するために使用する撮像光学系１７として、可視光領
域に対応したものを使用することができるため、赤外光領域に対応したものと比べて、入
手しやすくコストを抑えることが可能である。

なお、ＩＲセンサーカードに使用されているエレクトロントラッピング剤によっては、
近赤外光照射の前に、（４５０〜５００ｎｍの波長の光を含む）可視光により予備励起し
、この予備励起のプロセスを経て初めて近赤外光の受光による可視光発光が可能となるも
のがある。その場合は、エレクトロントラッピング剤を励起するため、４５０ｎｍ以上５
００ｎｍ以下の波長を含む光を射出する励起用光源２３を備え（図１参照）、前記可視光
に基づく像（干渉縞）を観測または解析する前に、予め励起用光源２３から前記可視光を
照射してエレクトロントラッピング剤を励起する構成とするのが好ましい。

また、このような予備励起が必要なエレクトロントラッピング剤である場合、近赤外光
を連続して照射すると、（可逆的ではあるが変換効率が経時的に変化し、）エレクトロン
トラッピング剤から発光される可視光強度が徐々に弱くなる。そこで、励起用光源２３は
、通常点灯してエレクトロントラッピング剤を励起するが、前記可視光に基づく像（干渉
縞）の観測時又は解析時には消灯し、近赤外光（励起光）を連続して照射しないようにし
て可視光発光強度を確保できるようにする。

なお、上述では、スクリーン１４として、薄板表面にエレクトロントラッピング剤が塗
布された構成のＩＲセンサーカードを用いたが、これに限定されるものではない。例えば
、薄板の材料としてエレクトロントラッピング剤を含有する構成のＩＲセンサーカード等
、スクリーン１４は、光源２から射出された近赤外光を受光したときに可視光を発光する
機能を有したものであればよい。

１干渉計２光源（光源部）
３コリメートレンズ
６第１ビームエキスパンダーレンズ（ビームエキスパンダー部）
８第２ビームエキスパンダーレンズ（ビームエキスパンダー部）
９収束レンズ１０収束レンズ駆動部（移動部）
１１ビームスプリッター（光路分割重合部）
１２参照レンズ（参照物）１３被検レンズ（被検物）
１４スクリーン（干渉縞取得部、スクリーン部）
１５スクリーン駆動部（移動部）１７撮像光学系（干渉縞取得部）
１９形状解析部（形状情報入力部）
２０被検レンズ用フォルダ（被検物載置部）
２１ａレンズ載置部（被検物載置部）

Claims

近赤外光を射出する光源部と、
前記光源部から射出された光を平行光に変換するコリメートレンズと、
前記コリメートレンズから射出された平行光を拡大するビームエキスパンダー部と、
前記ビームエキスパンダー部から射出された平行光に対して挿抜可能に設けられ、前記
平行光に挿入されたとき前記平行光を収束する収束レンズと、
前記ビームエキスパンダー部によって拡大された平行光もしくは収束レンズによって収
束された収束光を分割して被検物の被検面及び参照物の参照面に導き、前記被検面及び前
記参照面から反射された二つの反射光を重ね合わせて射出する光路分割重合部と、
前記光路分割重合部によって重ね合わされた光束を干渉縞として取得する干渉縞取得部
とを備えたことを特徴とする干渉計。
前記ビームエキスパンダー部は、エキスパンダーレンズとして光路に対し挿抜可能な第
１エキスパンダーレンズ及び第２エキスパンダーレンズからなり、
前記第１エキスパンダーレンズまたは前記第２エキスパンダーレンズのいずれかを選択
して前記光路に挿入して前記平行光の光束の大きさを変更できるように構成されたことを
特徴とする請求項１に記載の干渉計。
前記収束レンズに、通過する光により発生する球面収差を補正する球面収差補正手段が
含まれていることを特徴とする請求項１または２に記載の干渉計。
前記光路分割重合部は、キューブ型ビームスプリッターであることを特徴とする請求項
１〜３のいずれかに記載の干渉計。
前記干渉縞取得部は、前記光路分割重合部から射出された前記反射光を受光するスクリ
ーン部を備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の干渉計。
前記スクリーン部は、前記光路分割重合部から射出された光の光軸方向に移動可能に設
けられることを特徴とする請求項５に記載の干渉計。
前記収束レンズは、前記ビームエキスパンダー部から射出された平行光の光軸方向に移
動可能に設けられることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の干渉計。
被検物の被検面の形状情報を入力する形状情報入力部と、
前記形状情報入力部から入力された形状情報に基づいて、前記収束レンズ及び前記スク
リーン部を光軸方向に移動させる移動部とを備えることを特徴とする請求項５〜７のいず
れかに記載の干渉計。
検査対象の被検物を、前記被検物の被検面に前記光路分割重合部により導かれた光が入
射する位置に、位置決めして載置させる被検物載置部を備えることを特徴とする請求項１
〜８のいずれかに記載の干渉計。
前記光源部から射出される光の波長は、１０００ｎｍ以上１６００ｎｍ以下であること
を特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の干渉計。
前記光路分割重合部から射出された前記二つの反射光を受光するスクリーン部と、
可視光を受光する撮像素子を持つ撮像光学系とを有し、
前記スクリーン部は、前記光源部から射出された前記波長の光を受光したときに可視光
を発光する機能を備え、
前記撮像光学系は、前記スクリーン部から発せられた可視光に基づく像を前記撮像素子
により受光することを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の干渉計。
前記スクリーン部は、その表面に、前記光源部から射出された前記波長の光を受光した
ときに可視光を発光する発光物質を含有する塗料が塗布されていることを特徴とする請求
項１１に記載の干渉計。
前記発光物質は、エレクトロントラッピング剤であることを特徴とする請求項１２に記
載の干渉計。
前記エレクトロントラッピング剤を励起するため、４５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波
長を含む光を射出する励起用光源を有することを特徴とする請求項１３に記載の干渉計。
前記スクリーン部は、ＩＲセンサーカードであることを特徴とする請求項１１〜１４の
いずれかに記載の干渉計。