JP2016017749A - 干渉計測装置系の調整システムおよびその調整方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】干渉計測装置を用いた光学素子または集光光学系の性状計測において、干渉計測装置と被検光学素子または被検集光光学系とのアライメント時間を短縮する調整システムを提供する。【解決手段】干渉計測装置2から射出され被検光学素子または被検光学系を介した反射光51を投影面3に投影する。投影面に投影された反射光の位置から干渉計測装置と光学素子4または集光光学系の位置ずれを同定する。同定した結果に基づき、干渉計測装置と被検光学素子または被検集光光学系とのアライメントを行う。【選択図】図1
Description
本発明は、干渉計測によって、光学素子や集光光学系等の被検体の光学性能を測定する干渉計測装置系の調整システム及びその調整方法に関する。
干渉計測装置系は、干渉計測装置と、被検体(光学素子や集光光学系等)から構成される。
干渉計測装置系は、干渉計測装置から射出された射出光と、当該射出光が被検体で反射された反射光との位相差を用いて、被検体の光学性能を計測する(例えば特許文献1参照)。
干渉計測装置系は、干渉計測装置から射出された射出光と、当該射出光が被検体で反射された反射光との位相差を用いて、被検体の光学性能を計測する(例えば特許文献1参照)。
干渉計測装置系による被検体の性状測定においては、計測前の準備として、被検体を介した反射光が干渉計測装置の干渉計に戻るように、干渉計測装置と被検体との位置合わせ(測定アライメント)を、予め高精度に実行しておく必要がある。
被検体が大型の光学素子や集光光学系である場合、干渉計測装置と被検体との微小な位置ずれが、干渉計測光のずれに大きく影響する。それゆえ、干渉計測装置と被検体の測定アライメントには、当該被検体が大型の場合は特に多くの時間を要するという課題があった。
被検体が大型の光学素子や集光光学系である場合、干渉計測装置と被検体との微小な位置ずれが、干渉計測光のずれに大きく影響する。それゆえ、干渉計測装置と被検体の測定アライメントには、当該被検体が大型の場合は特に多くの時間を要するという課題があった。
通常、測定アライメントは、干渉計測装置と被検体の両者の位置もしくは向きを任意に動かして粗調整を実施して反射光を捉えた後、各々を微調整していく方法で行う。
粗調整の作業は干渉計測装置や被検体を、反射光が存在すると推定される範囲で任意に動かして調べるが、推定した範囲で反射光が存在する割合は低く、計測前の準備において多くの時間を必要としている。測定アライメントを効率的に行うことは、被検体の計測作業の効率を向上させる上で、極めて重要である。
粗調整の作業は干渉計測装置や被検体を、反射光が存在すると推定される範囲で任意に動かして調べるが、推定した範囲で反射光が存在する割合は低く、計測前の準備において多くの時間を必要としている。測定アライメントを効率的に行うことは、被検体の計測作業の効率を向上させる上で、極めて重要である。
この発明は係る課題を解決するためになされたものであり、計測開始前に行う干渉計測装置と被検体の測定アライメントを、短時間で実施可能な干渉計測装置系の調整システムを提供することを目的とする。
この発明に係る干渉計測装置系の調整システムは、光軸に沿って計測光を被検体に射出する干渉計測装置と、前記干渉計測装置を搭載し、前記干渉計測装置を前記光軸の垂直方向に沿って移動させる干渉計測装置移動手段と、前記計測光が被検体で反射された反射光の光路上に配置される投影面と、前記投影面を前記光軸の垂直方向に沿って移動させる投影面移動手段と、被検体を搭載し、前記被検体を前記光軸の垂直方向に移動させる被検体移動手段と、前記干渉計測装置移動手段と、前記被検体移動手段と、前記投影面移動手段と信号線で接続され、前記投影面に照射された前記反射光の位置に基づき、前記干渉計測装置移動手段、被検体移動手段、投影面移動手段の移動量を演算し、前記干渉計測装置と前記被検体との位置合わせを制御する演算制御手段とを備える。
本発明に係る干渉計測装置系の調整システムによれば、大型被検体であっても、干渉計測装置と、被検光学素子や被検集光光学系等の被検体との測定アライメントの時間を、短縮できる。
実施の形態1.
以下、この発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。
図1はこの発明の実施の形態1に係る干渉計測装置系の調整システムの構成図であり、図2はその調整方法を説明する作業フローの図である。
以下、この発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。
図1はこの発明の実施の形態1に係る干渉計測装置系の調整システムの構成図であり、図2はその調整方法を説明する作業フローの図である。
図1において、干渉計測装置系の調整システム100は、干渉計測装置移動手段1と、干渉計測装置2と、投影面3と、被検体移動手段5と、投影面移動手段6と、演算制御手段7から構成される。
干渉計測装置2は、干渉計測装置2の光軸(Z軸)に沿って、被検体4に向けて計測光50を射出する光源であり、可干渉光を出射するレーザ光源である。
干渉計測装置移動手段1は、干渉計測装置系の調整システム100の筐体(図示せず)に設置され、干渉計測装置2を搭載して、干渉計測装置2を光軸(Z軸)に対して垂直方向(X軸、Y軸)に沿って移動させることができる。具体的には、移動手段1は、X軸、Y軸に沿って移動するXYステージである。
干渉計測装置移動手段1は、干渉計測装置系の調整システム100の筐体(図示せず)に設置され、干渉計測装置2を搭載して、干渉計測装置2を光軸(Z軸)に対して垂直方向(X軸、Y軸)に沿って移動させることができる。具体的には、移動手段1は、X軸、Y軸に沿って移動するXYステージである。
被検体移動手段5は、被検体4を搭載し、被検体4を干渉計測装置2の光軸垂直方向(X軸、Y軸)の面に沿って移動するXYステージである。
投影面3は、干渉計測装置2から射出された計測光50が被検体4で反射された反射光51の光路上に配置される板であり、投影面3上に照射された反射光51の位置が確認できるようになっている。投影面3は投影面移動手段6に固定される。
投影面移動手段6は、干渉計測装置2の光軸垂直方向(X軸、Y軸)に沿って移動するXYステージである。
投影面3は、干渉計測装置2から射出される計測光50の光路を遮らない位置に配置される。または、投影面3の一部には通過穴31が開けられており、計測光50はこの通過穴31を通って被検体4に照射されるようにしてもよい。または、投影面3は計測光50を透過する特性を有しており、計測光50は投影面3を透過して被検体4に照射されるようにしてもよい。
演算制御手段7は、干渉計測装置移動手段1や被検体移動手段5や投影面移動手段6と信号線で接続されており、制御信号により各移動手段のX軸、Y軸方向の移動を制御する。演算制御手段7は、各種演算を行うCPU、CPUが演算を行う際にワーキングエリアとして用いられたり、一時的にデータを記憶したりするためのRAM、およびCPUに所定の演算を行わせるためのプログラムが格納されたROMなどを有している。
演算制御手段7は干渉計測装置2とも接続され、干渉計測装置2のON/OFF動作を行う。
また、演算制御手段7は投影面3と接続し、計測光50が被検体4で反射された反射光51の位置とその大きさの情報を取得することもできる。
演算制御手段7は干渉計測装置2とも接続され、干渉計測装置2のON/OFF動作を行う。
また、演算制御手段7は投影面3と接続し、計測光50が被検体4で反射された反射光51の位置とその大きさの情報を取得することもできる。
ここで、投影面3に照射された反射光51の位置と大きさを同定する方法について説明する。
本実施の形態に係る投影面3は、反射光51が照射される側の面に感光材料を備える。投影面3が感光材料を備えることで、投影面3の感光部領域とその軌跡で反射光の位置と大きさを同定することができる。
投影面3が感光材料や受光素子を備えていない場合には、反射光の領域を目で確認した後、投影面にマーキングして反射光の位置と大きさを同定することができる。
本実施の形態に係る投影面3は、反射光51が照射される側の面に感光材料を備える。投影面3が感光材料を備えることで、投影面3の感光部領域とその軌跡で反射光の位置と大きさを同定することができる。
投影面3が感光材料や受光素子を備えていない場合には、反射光の領域を目で確認した後、投影面にマーキングして反射光の位置と大きさを同定することができる。
また、投影面3は、反射光51が照射される側の面にアレイ状の受光素子を備えるようにしてもよい。
アレイ状の受光素子は反射光51を受光し、反射光の強度に応じた出力を演算制御手段7に出力する。
演算制御手段7は受光素子からの出力に基づいて、投影面3上の反射光51の位置を取得できる。
アレイ状の受光素子は反射光51を受光し、反射光の強度に応じた出力を演算制御手段7に出力する。
演算制御手段7は受光素子からの出力に基づいて、投影面3上の反射光51の位置を取得できる。
このようにして、演算制御手段7は、その受光強度から反射光51の位置を取得できる。
また、演算制御手段7は、感光材料の発光の大きさや、受光素子の受光強度分布から、反射光51の形状を取得できる。
また、演算制御手段7は、感光材料の発光の大きさや、受光素子の受光強度分布から、反射光51の形状を取得できる。
被検体4は、レンズやミラー等の光学素子、あるいはこれらの光学素子から構成される集光光学系であり、製品試験としてこの干渉計測装置系によって面形状等の光学性能が計測される。
なお、光学素子または集光光学系4におけるレンズやミラーの組み合わせは特に限定されるものではなく、単体の集光レンズやミラーを用いて構成されるものでも、複数のミラーやレンズを組み合わせて構成されるものでもよい。
なお、光学素子または集光光学系4におけるレンズやミラーの組み合わせは特に限定されるものではなく、単体の集光レンズやミラーを用いて構成されるものでも、複数のミラーやレンズを組み合わせて構成されるものでもよい。
次に、本実施の形態に係る干渉計測装置系の調整システムの動作を説明する。
図2は、干渉計測装置系の調整システムの調整方法を説明するフロー図である。
図2は、干渉計測装置系の調整システムの調整方法を説明するフロー図である。
図2において、まず、演算制御手段7により、干渉計測装置2から計測光を射出し、計測光が光学素子または集光光学系4(被検対象物)で反射された反射光が干渉計測装置に入射されるかどうかを確認する(S20)。
ここで反射光51が干渉計測装置2に入射されている場合、干渉計測装置2と被検体4の測定アライメントは完了している。干渉計測装置2に入射されているか否かは、干渉計測装置2の出力により確認できる。
反射光が干渉計測装置に入射されていない場合、本調整システムにより、測定アライメントを実施する。
ここで反射光51が干渉計測装置2に入射されている場合、干渉計測装置2と被検体4の測定アライメントは完了している。干渉計測装置2に入射されているか否かは、干渉計測装置2の出力により確認できる。
反射光が干渉計測装置に入射されていない場合、本調整システムにより、測定アライメントを実施する。
反射光51が干渉計測装置2に入射されていない場合、投影面3上の反射光51の位置と大きさを同定する(S21)。
反射光51の位置と大きさの同定は目視であってもよいし、先述のように投影面3に設けたアレイ状の受光素子の出力から同定するようにしてもよい。
投影面3上に照射された反射光51が明瞭でない場合、移動手段6によって投影面3の位置を調整する。
反射光51の位置と大きさの同定は目視であってもよいし、先述のように投影面3に設けたアレイ状の受光素子の出力から同定するようにしてもよい。
投影面3上に照射された反射光51が明瞭でない場合、移動手段6によって投影面3の位置を調整する。
反射光51の位置と大きさを同定した後、干渉計測装置1または被検体4を、移動装置1または移動装置5で一定量移動させる(S22)。
そして、移動後の反射光51の位置と大きさを同定する(S23)。
次に、移動前後における反射光51の移動量と大きさの変化を算出する(S24)。
干渉計測装置1または被検体4の移動量と、当該移動前後における反射光51の移動量と大きさの変化に基づき、所定の計算式によりアライメント調整に必要となる干渉計測装置1または被検体4の移動量を算出する(S25)。
算出した移動量をもとに干渉計測装置1または被検体4を移動させる(S26)。
移動後、計測光50が被検体4で反射された反射光51が干渉計測装置2に入射されるか否か(S20)を確認する。
反射光51が干渉計測装置2に入射されるまで、S20〜S26を繰り返すことで、 アライメント調整が完了する。
反射光51が干渉計測装置2に入射されるまで、S20〜S26を繰り返すことで、 アライメント調整が完了する。
このように、本実施の形態に係る干渉計測装置系の調整システム100は、光軸(Z軸)に沿って被検体4に向けて計測光50を射出する干渉計測装置2と、干渉計測装置2を搭載し、干渉計測装置2を光軸(Z軸)垂直方向(X軸、Y軸)の面内に沿って移動させる干渉計測装置移動手段1と、干渉計測装置2から射出された計測光50が被検体4で反射された反射光51の光路上に配置される投影面3と、投影面3を光軸垂直方向(X軸、Y軸)の面内に沿って移動させる投影面移動手段6と、被検体4を搭載し、被検体4を光軸垂直方向(X軸、Y軸)の面内を移動させる被検体移動手段5と、干渉計測装置移動手段1、被検体移動手段5、投影面移動手段6、投影面3と接続され、投影面3に照射された反射光51の位置と大きさに基づき、干渉計測装置と被検体との位置合わせのために干渉計測装置移動手段1、被検体移動手段5、投影面移動手段6の移動量を演算し制御する演算制御手段7から構成される。
反射光51が照射される投影面3には感光材料が塗布されており、反射光51の位置と大きさを同定することが可能となっている。
あるいは、反射光51が照射される投影面3にはアレイ状の受光素子は配置され、アレイ状の受光素子の受信強度に基づき、反射光51の位置と大きさを同定することが可能となっている。
反射光51が照射される投影面3には感光材料が塗布されており、反射光51の位置と大きさを同定することが可能となっている。
あるいは、反射光51が照射される投影面3にはアレイ状の受光素子は配置され、アレイ状の受光素子の受信強度に基づき、反射光51の位置と大きさを同定することが可能となっている。
本発明に係る干渉計測装置系の調整システムによれば、演算制御手段7の動作により自動で、干渉計測装置と被検体との測定アライメントを行うことができるので、測定アライメントの時間を短縮できる。
また、本発明に係る干渉計測装置系の調整システムによれば、人による作業では調整の難しかった大型の被検体であっても、干渉計測装置と被検体との測定アライメントを容易に行うことができるので、計測作業の全体の効率を向上させることができる。
また、本発明に係る干渉計測装置系の調整システムによれば、人による作業では調整の難しかった大型の被検体であっても、干渉計測装置と被検体との測定アライメントを容易に行うことができるので、計測作業の全体の効率を向上させることができる。
なお、本実施の形態では干渉計測装置移動手段1、被検体移動手段5、投影面移動手段6はXYステージとしたが、回転方向の調整機構も備えた調整ステージであってもよい。
1 干渉計測装置移動手段、2 干渉計測装置、3 投影面、4 被検体(光学素子、集光光学系)、5 被検体移動手段、6 投影面移動手段、7 演算制御手段、31 投影面3に設けられた通過穴、50 計測光、51 反射光、100 干渉計測装置系の調整システム。
Claims (4)
- 光軸に沿って計測光を被検体に射出する干渉計測装置と、
前記干渉計測装置を搭載し、前記干渉計測装置を前記光軸の垂直方向に沿って移動させる干渉計測装置移動手段と、
前記計測光が被検体で反射された反射光の光路上に配置される投影面と、
前記投影面を前記光軸の垂直方向に沿って移動させる投影面移動手段と、
被検体を搭載し、前記被検体を前記光軸の垂直方向に移動させる被検体移動手段と、
前記干渉計測装置移動手段と、前記被検体移動手段と、前記投影面移動手段と信号線で接続され、前記投影面に照射された前記反射光の位置に基づき、前記干渉計測装置移動手段、被検体移動手段、投影面移動手段の移動量を演算し、前記干渉計測装置と前記被検体との位置合わせを制御する演算制御手段と、
を備えることを特徴とする干渉計測装置系の調整システム。 - 前記投影面には感光材料が塗布され、前記反射光の照射位置を表示することを特徴とする請求項1記載の干渉計測装置系の調整システム。
- 前記投影面にはアレイ状の受光素子が配置され、前記演算制御手段は、前記受光素子で受光した前記反射光の強度に基づき、前記投影面に照射された前記反射光の位置を取得することを特徴とする請求項1記載の干渉計測装置系の調整システム。
- 光軸に沿って計測光を被検体に射出する干渉計測装置と、
前記干渉計測装置を搭載し、前記干渉計測装置を前記光軸の垂直方向に沿って移動させる干渉計測装置移動手段と、
前記計測光が被検体で反射された反射光の光路上に配置される投影面と、
前記投影面を前記光軸の垂直方向に沿って移動させる投影面移動手段と、
被検体を搭載し、前記被検体を前記光軸の垂直方向に移動させる被検体移動手段を備えた干渉計測装置系の調整システムを用い、
前記投影面に照射された前記反射光の位置に基づき、前記干渉計測装置移動手段、前記被検体移動手段を移動させて、前記干渉計測装置と前記被検体のアライメントを行うことを特徴とする干渉計測装置系の調整システムの調整方法
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---|---|---|---|
JP2014138452A JP2016017749A (ja) | 2014-07-04 | 2014-07-04 | 干渉計測装置系の調整システムおよびその調整方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2019159759A1 (ja) * | 2018-02-19 | 2021-01-28 | 株式会社村上開明堂 | 操作検出装置及び操作検出方法 |
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2014
- 2014-07-04 JP JP2014138452A patent/JP2016017749A/ja active Pending
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