JP2012004335A - 低欠陥の一体型窓を有する化学機械研磨パッド - Google Patents
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Abstract
【解決手段】研磨面と一体型窓とを有する研磨層を含む化学機械研磨パッドであって;一体型窓が研磨層に一体化されており;一体型窓が硬化剤とイソシアナート末端プレポリマーポリオールとのポリウレタン反応生成物であり;イソシアナート末端プレポリマーポリオール中に含まれる未反応NCO部分と反応して一体型窓を形成する硬化性アミン部分を硬化剤が含み;硬化剤およびイソシアナート末端プレポリマーポリオールが、アミン部分:未反応NCO部分の化学量論量比1:1〜1:1.25で提供され;一体型窓が0.1容積%未満の空隙率を有しており;一体型窓が5〜25%の圧縮永久歪みを示す。
【選択図】なし
Description
一体型窓として化学機械研磨層に一体化するために、窓ブロックが次のように製造された。表1に示されるような様々な量の硬化剤(すなわち、MBCA)およびイソシアナート末端プレポリマーポリオール(すなわち、ケムツラ(Chemtura)から入手可能なL325)が混合され、型に入れられた。この型の内容物は次いで、オーブン中で18時間硬化された。オーブンの設定温度は、最初の20分間については93℃;次の15時間40分については104℃;次いで、最後の2時間で21℃に低下させた。次いで、従来の手段による研磨パッドケーキへの組み込みを容易にするために、窓ブロックが切断されてプラグにされた。
上述のように製造された窓ブロック物質のサンプルが、ASTM方法D395−03メソッドAに示された手順に従って試験され、圧縮永久歪みを決定した。その試験の結果が表2に示される。
研磨パッド
同じ研磨層配合物が使用されて、(a)NH2対NCO化学量論量比0.78:1.00を有する上記表1に記載された窓比較1に従って、従来の一体型窓組成物を有する対照の研磨パッド、および(b)NH2対NCO化学量論量比1:1.05を有する上記表1に記載された実施例3に従って、本発明の一体型窓組成物を有する研磨パッドを製造した。従来の窓配合物を有する対照の研磨パッドおよび本発明の窓配合物を有する研磨パッドは両方とも、50ミルの厚みであり、15ミルの深さの環状溝を有していた。研磨層配合物は両方とも、ロームアンドハースエレクトロニックマテリアルズCMPインコーポレイテッドから入手可能なSubaIV商標サブパッド物質上に積層された。
アプライドマテリアルズミラ(Applied Materials Mirra登録商標)200mm研磨剤および上述の研磨パッドを用いて銅ブランケットウェハが研磨された;20.7kPaの研磨押し付け力;化学機械研磨組成物(エポックマテリアルカンパニーリミテッド(Epoch Material Co.,Ltd)から入手可能なEPL2361)および200ml/分の流速;93rpmのテーブル回転速度;87rpmのキャリア回転速度;キニク ディアグリッド(Kinik Diagrid登録商標)AD3CG181060コンディショナー、完全なその場でのコンディショニング、48.3kPaのコンディショニング押し付け力、および62.1kPaの押し付け力の中断での20分間のコンディショニングの中断、続いて10分間の、48.3kPaの押し付け力での中断。銅ブランケットウェハ上のひっかき傷の計数は、パターン形成されていないウェハ表面については、KLA テンコル(Tencor)SP−1検査装置を用いて、研磨の0時間後、2.5時間後、5時間後、7.5時間後および10時間後に決定された。これらのひっかき傷計数検査の結果は表3に示される。
示された研磨条件下で10時間の連続ウェハ研磨の後で、研磨面での一体型窓プロファイルを測定し、研磨面から窓の外側への膨らみの程度を決定した。窓比較1の一体型窓物質は、100μmより大きな平均膨らみを示したが、実施例3の一体型窓物質は40μm未満の平均膨らみを示した。
Claims (9)
- 研磨面と一体型窓とを有する研磨層を含む化学機械研磨パッドであって;
一体型窓が研磨層に一体化されており;
一体型窓が硬化剤とイソシアナート末端プレポリマーポリオールとのポリウレタン反応生成物であり;
イソシアナート末端プレポリマーポリオール中に含まれる未反応NCO部分と反応して一体型窓を形成する硬化性アミン部分を硬化剤が含み;
硬化剤およびイソシアナート末端プレポリマーポリオールが、アミン部分:未反応NCO部分の化学量論量比1:1〜1:1.25で提供され;
一体型窓が0.1容積%未満の空隙率を有しており;
一体型窓が5〜25%の圧縮永久歪みを示し;
研磨面が、磁性基体、光学基体および半導体基体から選択される基体を研磨するのに適合されている;
化学機械研磨パッド。 - 一体型窓が研磨面に対して平行な面で楕円形の断面を有する、請求項1に記載の化学機械研磨パッド。
- イソシアナート末端プレポリマーポリオールがイソシアナート末端ポリテトラメチレンエーテルグリコールを含む、請求項1に記載の化学機械研磨パッド。
- イソシアナート末端プレポリマーポリオールが8.75〜9.40重量%の未反応NCO部分を含む、請求項1に記載の化学機械研磨パッド。
- イソシアナート末端ポリテトラメチレンエーテルグリコールが9.00〜9.25重量%の未反応NCO部分を含む、請求項3に記載の化学機械研磨パッド。
- 一体型窓が、670nmで20〜50%の光透過性を示す、請求項1に記載の化学機械研磨パッド。
- プラテンを有する化学機械研磨装置を提供し;
磁性基体、光学基体および半導体基体から選択される少なくとも1種の基体を提供し;
請求項1に記載の化学機械研磨パッドを選択し;
プラテンに化学機械研磨パッドを取り付け;並びに、
研磨層の研磨面で前記少なくとも1種の基体を研磨する;
ことを含む、磁性基体、光学基体および半導体基体から選択される基体を化学機械研磨する方法。 - プラテンを有する化学機械研磨装置を提供し;
磁性基体、光学基体および半導体基体から選択される少なくとも1種の基体を提供し;
研磨層を有する化学機械研磨パッドであって、研磨層はその中に形成された一体型窓を含み、一体型窓が5〜25%の圧縮永久歪みを示す、化学機械研磨パッドを選択し;
プラテンに化学機械研磨パッドを取り付け;並びに、
研磨層の研磨面で前記少なくとも1種の基体を研磨する;
ことを含む、磁性基体、光学基体および半導体基体から選択される基体を化学機械研磨する方法。 - 10時間基体を研磨した後で、研磨面において、一体型窓が研磨層から外側に50μm以下膨らんでいる、請求項7に記載の方法。
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