JP2011516726A - 構造化クロム固体粒子層およびその生産方法 - Google Patents
構造化クロム固体粒子層およびその生産方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011516726A JP2011516726A JP2011502245A JP2011502245A JP2011516726A JP 2011516726 A JP2011516726 A JP 2011516726A JP 2011502245 A JP2011502245 A JP 2011502245A JP 2011502245 A JP2011502245 A JP 2011502245A JP 2011516726 A JP2011516726 A JP 2011516726A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- particle layer
- solid particle
- chromium
- structured
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D15/00—Electrolytic or electrophoretic production of coatings containing embedded materials, e.g. particles, whiskers, wires
- C25D15/02—Combined electrolytic and electrophoretic processes with charged materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
- C25D5/12—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
- C25D5/14—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium two or more layers being of nickel or chromium, e.g. duplex or triplex layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/18—Electroplating using modulated, pulsed or reversing current
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/615—Microstructure of the layers, e.g. mixed structure
- C25D5/617—Crystalline layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/625—Discontinuous layers, e.g. microcracked layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/627—Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/10—Bearings
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16J—PISTONS; CYLINDERS; SEALINGS
- F16J9/00—Piston-rings, e.g. non-metallic piston-rings, seats therefor; Ring sealings of similar construction
- F16J9/26—Piston-rings, e.g. non-metallic piston-rings, seats therefor; Ring sealings of similar construction characterised by the use of particular materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12806—Refractory [Group IVB, VB, or VIB] metal-base component
- Y10T428/12826—Group VIB metal-base component
- Y10T428/12847—Cr-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12993—Surface feature [e.g., rough, mirror]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
Description
(a)以下を含む電解質中に機械要素を入れる工程、
100g/l〜400g/lの無水クロム酸に相当する量のCr(VI)化合物、
1〜8g/lの硫酸、
5〜18g/lの1〜6個の炭素原子を有する脂肪族スルホン酸、
0.01〜10μmのサイズの固体粒子、および
0.5g/l未満の無機フッ化物化合物
(b)前記機械要素上に、20〜100A/dm2の電流密度および12%以下の電流
効率で電気分解によりクロム含有層を堆積させる工程、次に、
(c)電流の向きを反転させ、固体粒子を層の微小クラックに埋め込む工程、および
任意選択で工程(b)と工程(c)を繰り返す工程
からなる方法によりさらに達成される。
好都合であることが分かっており、Cr(VI)化合物として好ましく使用される。
「無機フッ化物化合物」は、本発明の意味では、水性溶媒中で、単純なフッ化物イオン(F-)または複雑なフッ化物イオン(例えばHF2 -、BF4 -、SiF6 2-等)へ部分的にまたは完全に解離することが可能なフッ化物化合物を意味し、特に、フッ化塩およびフッ化物含有無機酸(例えばHF、HBF4、H2SiF6ならびにその塩類(例えばMIF、MI
BF4、MI 2SiF6、MIIF2、MII(BF4)2、MIISiF6、MIはアルカリイオン(
Li+、Na+、K+、Rb+、Cs+)を表し、MIIはアルカリ土類イオン(Be2+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+)を表す。)が挙げられる。電解質は好ましくは0.25g
/l未満の無機フッ化物化合物、特に好ましくは0.1g/l未満、最も好ましくは0.05g/l未満の無機フッ化物化合物を含む。
堆積工程(b)における電流密度は20〜100A/dm2、好ましくは30〜80A
/dm2である。本発明の方法で選択される電流密度が高いほど、構造は密になる。つま
り、構造化クロム固体粒子層の凹部が密になる程、凹部が占めるスペースが多くなる。極性反転工程(c)の間の作動は好ましくは5〜100A/dm2の電流密度、特に好まし
くは20〜80A/dm2の電流密度で起こる。本発明の方法の間、温度は45〜95℃
、好ましくは50〜90℃、特に好ましくは60〜80℃であってよい。
、意図した使用および所望の構造化クロム固体粒子層の厚さに依存して、1〜100反復、工程(b)および(c)が繰り返される。すなわち、2〜101サイクルの工程(b)および(c)が好ましいことが判明した。意図した使用に依存して、構造化クロム固体粒子層全体は約20〜800μmの層厚さを有する。30〜500μmの層厚さが好ましく、50〜300μmのの層厚さが特に好ましい。
(a)以下を含む電解質中に機械要素を入れる工程、
100g/l〜400g/lの無水クロム酸に相当する量のCr(VI)化合物、
1〜8g/lの硫酸、
5〜18g/lの1〜6個の炭素原子を有する脂肪族スルホン酸、
0.01〜10μmのサイズの固体粒子、および
0.5g/l未満の無機フッ化物化合物
(b)前記機械要素上に、20〜100A/dm2の電流密度および12%以下の電流
効率で電気分解によりクロム含有層を堆積させる工程、次に
(c)電流の向きを反転させ、固体粒子を層の微小クラックに埋め込む工程、
任意選択で工程(b)と工程(c)を繰り返す工程、および
工程(b)を繰り返す工程。
よび濃度、電流密度、およびアノード対カソード(ワークピース)の表面積比)に依存して特定のCr(III)/Cr(VI)比が生ずる。例えば、他に変化がない条件では、アノードがより大きな表面積を有するほどCr(III)含量はより小さくなる。クロムめっき電解質は、一般に、数回使用される。新たに調製した電解質で方法の初めに特定のCr(III)含量を直ちに得るために、還元剤(例えばショ糖)を電解質に加えてもよい。
ある。0.1〜200g/lの固体粒子が電解質に含まれると有利であることが判明した。特に好ましくは0.5〜50g/lの固体粒子、最も好ましくは1〜20g/lの固体粒子が電解質に含まれる。
、クロム/バナジウム合金層および/またはクロム/ジルコニウム合金層を生産するために、密なカソード膜を形成する10g/l〜200g/lの少なくとも1つの化合物が追加化合物として電解質に含まれてもよく、かかる化合物は、モリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸アルカリ、モリブデン酸アルカリ土類、バナジウム酸アンモニウム、バナジウム酸アルカリ、バナジウム酸アルカリ土類、ジルコニウム酸アンモニウム、ジルコニウム酸アルカリおよびジルコニウム酸アルカリ土類から選択される。Li+、Na+およびK+をアルカリイオンとして使用することが可能である。アルカリ土類イオンの例はMg2+
およびCa2+である。WO2004/050960に述べられているように、上記列挙された成分は電解析出中に密なカソード膜を形成する。特に好ましい実施形態では、成分は(NH4)6Mo7O24・4H2Oであり、これは構造化クロム固体粒子層の構成に特に好都合である。
本発明の構造化クロム固体粒子層は、固体粒子がクラックに埋め込まれたクラックのネットワークを備え、クラック密度は10〜250/mmであり、固体粒子層の粒径が0.01〜10μmの範囲であり、層全体における固体粒子の割合が1〜30体積%であり、クロム固体粒子層が層の表面に凹部を備えた微細構造を有し、前記凹部が占める表面積の割合が5〜80%である。
0μmを超える場合に、有利であることが判明した。凹部の最大延長部は凹部を端から端まで測定した場合の凹部の最大サイズであり、凹部の端は突出領域から陥没領域(凹部)までの遷移部である。この遷移部は、図1−3に明るい色で見ることが可能である。例えば幅が10μmで長さが40μmの凹部は、30μmを超える最大延長部を備えた凹部の上記定義に入るだろうが、幅が20μmで長さが20μmの凹部はこの定義には入らないだろう。図3に示されるように、迷路構造の場合、最大延長部は、迷路の凹部の一端からもう一方の端まで直線上で測定される。
表面積、特に好ましくは8〜80/mm2表面積、最も好ましくは12〜60/mm2表面積である。さらに、構造化クロム固体粒子層の表面積全体に対する30μmを超える最大延長部を有する凹部が占める表面積の割合は、5−80%であることが好ましい。30μmを超える最大延長部を有する凹部が占める表面積の割合は、特に好ましくは10〜70%、特には15〜60%である。30μmを超える最大延長部を有する凹部の深さは、好ましくは3μmよりも大きく、特に好ましくは5μmよりも大きく、最も好ましくは10μmよりも大きい。
ることが可能である。しかしながら、表面積の割合はエッチングプロセスの強度および持続時間に依存するため、クラック表面積の割合は広い範囲内で変わる場合があり、一般に2〜30%である。
「表面または層に施される層」は、本発明の意味では、表面または層に直接施される層と、暫定的な層に施される層との両方を意味する。層Aに施される層Cは、層構造A、Cおよび層状構造A、B、Cで存在し、Bは中間層であり、Aは機械要素に面する層である。
「PVD層」は、本発明の意味では、機械要素に対しPVD(物理蒸着法)により堆積させられた層を意味する。PVD法はそれ自体当業者に周知である。基本的な層材料が、大半は約1−1000Paの減圧下で、レーザ、イオンまたは電子ビームにより、もしくはアーク放電により蒸発させられ、気化され、PDV層が材料蒸気の凝縮により基板上に形成される。必要ならば適切なプロセスガスも加えることが可能である。
層またはCVD層として適切である。好ましいPVD層またはCVD層はDLC(ダイヤモンド様カーボン)層である。これらは、炭素含有ガスからPVD法またはCVD法により堆積可能な無定形炭素層である。これらはPVD法またはPECVD(プラズマ増強化学蒸着法)法により特に堆積可能である。より好ましくは、PVD層またはCVD層は、チタン窒化物化合物またはクロム窒化物化合物を含み、特には式TiNxの窒化チタン、
式TiNxAyのチタン窒化物化合物、式CrNxの窒化クロム、および式CrNxAyのク
ロム窒化物化合物であり、Aは炭素(C)、ホウ素(B)、酸素(O)、および/または、例えばシリコン(Si)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タングステン(W)、アルミニウム(Al)、タンタル(Ta)、ジルコニウム(Zr)等の硬質材料形成元素であり、式中、xおよびyは互いに独立して0.1〜1.5である。好ましくはxとyは互いに独立して0.3〜1.2であり、特に好ましくは0.5〜1である。例えば、窒化チタン(TiNx)、チタン炭素窒化物(TiCyNx)、酸化チタン窒化物(TiOyNx
)、チタン窒化アルミニウム(TiAlyNx)、窒化クロム(CrNx)、クロム炭素窒
化物(CrCyNx)、酸化クロム窒化物(CrOyNx)、クロム窒化アルミニウム(CrAlyNx)または多元素化合物、例えば、クロムアルミニウムシリコン窒化物、クロムアルミニウムジルコニウム窒化物、クロムアルミニウムシリコンジルコニウム窒化物を使用することが可能であり、詳しくはCrAlaSibNx、CrAlaZrbNxまたはCrAlaSibZrcNxの式のものであり、式中、a、b、cおよびxは互いに独立して0.1
〜1.5であり、好ましくは0.1〜1.2、特に好ましくは0.2〜1である。本発明の多層配列では、上記のさらなる元素を含み得るクロム窒化物化合物がPVD層またはCVD層として特に好ましく使用される。PVD層またはCVD層は上記に挙げた化合物から成ることが特に好ましい。
そのような2層コーティングの慣らし運転後、構造化クロム固体、固体粒子層および構造の凹部に残っている慣らし運転層の上昇から表面が形成され、したがって慣らし運転層の特に有利な特性が達成される。
実施例1:
以下の基本組成のクロム電解質を生産する:
無水クロム酸 200g/l
硫酸 3.0g/l
メタンスルホン酸 9.5g/l
ダイヤモンド粒子 50g/l(多結晶、0.25〜0.40μmのサイズ)
ピストンリングを慣習的な前処理後、電解質に浸漬し、70℃で以下の電流プログラム
に供する:
工程1 1分 100A/dm2(カソード接続)
工程2 20分 70A/dm2(カソード接続)
工程3 1分 60A/dm2(アノード接続)
工程4 5分 100A/dm2(カソード接続)
電流効率は工程1および4で11%、工程2で9.5%である。Cr(III)含量は10g/lのCr2O3に相当する。工程2および3を5回繰り返す。
実施例2:
以下の基本組成のクロム電解質を生産する:
無水クロム酸 300g/l
硫酸 6.0g/l
メタンスルホン酸 14g/l
ダイヤモンド粒子 50g/l(多結晶、0.25〜0.40μmのサイズ)
慣習的な前処理後、ピストンリングを電解質に浸漬し、70℃で以下の電流プログラムに供する:
工程1 40分 40A/dm2(カソード接続)
工程2 3分 15A/dm2(アノード接続)
工程3 40分 40A/dm2(カソード接続)
工程1および3の電流効率は8%である。Cr(III)含量は9g/lのCr2O3に相当する。工程1および2を5回繰り返す。
比較例1:
WO2004/050960A1に従った構造化硬質クロム層の生産。
無水クロム酸CrO3 250g/l
硫酸H2SO4 2.5g/l
メタンスルホン酸 4g/l
(NH4)6Mo7O24・4H2O 100g/l
ピストンリングを慣習的な前処理後、電解質へ導入し、30分間、40A/dm2、5
5℃にて8.5%のカソード電流効率でコーティングする。
比較例2:
WO2001/004386A1に従った非構造化クロムダイヤモンド層を備えたコーティング。
250g/l CrO3 クロム酸
1.5g/l H2SO4 硫酸
10g/l K2SiF6 ヘキサフルオロケイ酸カリウム
0.2〜0.4μmの平均粒度を有する50g/lの単結晶ダイヤモンド粒子を攪拌により上記電解質に分散し、クロムめっきの間、懸濁状態に保持する。クロムめっきは60℃の温度で起こる。先ず、クロムめっきされるピストンリングを、第1段階でカソード接続し、65A/dm3の電流密度、23%の電流効率で8分間クロムめっきする。第2段
階で、極性を反転し、先に堆積させたクロム層のクラックのネットワークを60A/dm3の電流密度で1分間機械要素のアノード接続により拡大し、ダイヤモンド粒子を充填す
る。このサイクル、すなわち8分間のカソードクロムめっきと1分間のアノードエッチングを、合計5回繰り返す。
比較例3:
クロムダイヤモンド粒子層が上に配置された構造化硬質クロム層
比較例1に記載の上記手順に従い、ピストンリングに先ず構造化硬質クロム層を設け、次に、比較例2に記載の上記手順に従い、非構造化クロムダイヤモンド粒子層を設ける。クロムダイヤモンド粒子層は一部、下に位置する硬質クロム層の構造をとる。
Claims (11)
- 固体粒子が埋め込まれたクラックのネットワークを備えた構造化クロム固体粒子層であって、
クラック密度は10〜250/mmであり、
固体粒子層の粒径が0.01〜10μmの範囲であり、
層全体における固体粒子の割合が1〜30体積%であり、
クロム固体粒子層が層の表面に凹部を備えた微細構造を有し、
前記凹部が占める表面積の割合が5〜80%であることを特徴とする構造化クロム固体粒子層。 - 層が表面積1mm2当たり平均3〜100個の凹部を有し、凹部の最大延長部は30μm
を超えることを特徴とする請求項1に記載の構造化クロム固体粒子層。 - 30μmを超える最大延長部を有する前記凹部は、全表面積に対して5〜80%の割合を占め、深さが5μmよりも大きいことを特徴とする請求項1または2に記載の構造化クロム固体粒子層。
- 前記固体粒子は9以上のモース硬度を有する硬質材料からなる粒子であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の構造化クロム固体粒子層。
- 前記固体粒子は0.25〜0.45μmのサイズのダイヤモンド粒子であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の構造化クロム固体粒子層。
- 前記表面の微細構造は、カップ状、迷路状、および柱状のうちの少なくともいずれか一つであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の構造化クロム固体粒子層。
- 構造化クロム固体粒子層の生産方法であって、
(a)以下を含む電解質中に機械要素を入れる工程、
100g/l〜400g/lの無水クロム酸に相当する量のCr(VI)化合物、
1〜8g/lの硫酸、
5〜18g/lの1〜6個の炭素原子を有する脂肪族スルホン酸、
0.01〜10μmのサイズの固体粒子、および
0.5g/l未満の無機フッ化物化合物
(b)前記機械要素上に、20〜100A/dm2の電流密度および12%以下の電流
効率で電気分解によりクロム含有層を堆積させる工程、次に、
(c)電流の向きを反転させ、固体粒子を層の微小クラックに埋め込む工程、および
任意選択で工程(b)と工程(c)を繰り返す工程
からなる方法。 - 方法の最後に、工程(c)の後で工程(b)が繰り返されることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 電解質が、4〜16g/lのCr2O3に相当する量のCr(III)をさらに含むことを特徴とする請求項7または8に記載の方法。
- 請求項7〜9のいずれか一項に記載の方法により得られる構造化クロム固体粒子層。
- 請求項1〜6または10のいずれか一項に記載の構造化クロム固体粒子層コーティングが施された表面を備えた機械要素、特にピストンリングであって、該構造化クロム固体粒子
層の下に配置された少なくとも1つの層および該構造化クロム固体粒子層の上に配置された少なくとも1つの層のうちの少なくとも一方を任意選択でさらに備えた機械要素、特にピストンリング。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102008017270.7 | 2008-04-04 | ||
DE102008017270A DE102008017270B3 (de) | 2008-04-04 | 2008-04-04 | Strukturierte Chrom-Feststoffpartikel-Schicht und Verfahren zu deren Herstellung sowie beschichtetes Maschinenelement |
PCT/EP2009/000384 WO2009121443A1 (de) | 2008-04-04 | 2009-01-22 | Strukturierte chrom-feststoffpartikel-schicht und verfahren zu deren herstellung |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011516726A true JP2011516726A (ja) | 2011-05-26 |
JP2011516726A5 JP2011516726A5 (ja) | 2012-01-26 |
JP5743883B2 JP5743883B2 (ja) | 2015-07-01 |
Family
ID=40586169
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011502245A Expired - Fee Related JP5743883B2 (ja) | 2008-04-04 | 2009-01-22 | 構造化クロム固体粒子層およびその生産方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8337687B2 (ja) |
EP (1) | EP2260127B1 (ja) |
JP (1) | JP5743883B2 (ja) |
KR (1) | KR101589892B1 (ja) |
CN (1) | CN102007231B (ja) |
BR (1) | BRPI0907065A2 (ja) |
DE (1) | DE102008017270B3 (ja) |
MX (1) | MX2010010923A (ja) |
PT (1) | PT2260127E (ja) |
WO (1) | WO2009121443A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012246539A (ja) * | 2011-05-27 | 2012-12-13 | Osaka Municipal Technical Research Institute | 金属材およびその製造方法、並びに該金属材を使用したダイ |
JP2015511688A (ja) * | 2012-03-16 | 2015-04-20 | フェデラル−モーグル ブルシェイド ゲーエムベーハーFederal−Mogul Burscheid Gmbh | クロム固体粒子の摩耗防止層及び耐食性のフランク面を有するピストンリング |
KR20200092935A (ko) * | 2017-11-30 | 2020-08-04 | 페데랄-모굴 부르샤이트 게엠베하 | 피스톤 링 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102618908A (zh) * | 2011-01-31 | 2012-08-01 | 新确有限公司 | 固定磨粒金属丝的制造方法 |
DE102011084052B4 (de) | 2011-10-05 | 2024-05-29 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Beschichteter Kolbenring mit scharfer Ölabstreifkante |
DE102011084051B4 (de) | 2011-10-05 | 2020-03-12 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Beschichteter Kolbenring mit radial zunehmender Schichtdicke und Verfahren zu dessen Herstellung |
JP5793205B2 (ja) * | 2012-12-11 | 2015-10-14 | 株式会社リケン | ピストンリング用溶射被膜、ピストンリング、及びピストンリング用溶射被膜の製造方法 |
DE102013209863A1 (de) | 2013-05-28 | 2014-12-04 | Schaeffler Technologies Gmbh & Co. Kg | Beschichtetes Bauteil |
CH708659A2 (de) * | 2013-10-03 | 2015-04-15 | Bräcker Ag | Spinn- oder Zwirnring. |
CN104847523A (zh) * | 2015-03-08 | 2015-08-19 | 安庆帝伯格茨活塞环有限公司 | 一种铬层中镶嵌金刚石粒子的复合涂层活塞环 |
US9945481B2 (en) | 2016-07-07 | 2018-04-17 | Federal-Mogul Llc | Polymer coating in cracked piston ring coating |
JP6417438B2 (ja) * | 2017-03-22 | 2018-11-07 | 株式会社リケン | 複合クロムめっき皮膜、及び当該皮膜を有するピストンリング |
EP3477248B1 (de) * | 2017-10-26 | 2023-06-07 | Heinrich Georg GmbH Maschinenfabrik | Inspektionssystem und verfahren zur fehleranalyse |
CN109023488B (zh) * | 2018-08-16 | 2020-06-16 | 四川理工学院 | 一种微裂纹硬铬复合镀层及其制备方法 |
US11149851B2 (en) * | 2018-09-13 | 2021-10-19 | Tenneco Inc. | Piston ring with wear resistant coating |
CN109885952A (zh) * | 2019-02-28 | 2019-06-14 | 西南石油大学 | 一种井周裂缝网络模型的建立方法 |
US11255432B2 (en) * | 2019-04-05 | 2022-02-22 | Raytheon Technologies Corporation | Low friction, wear resistant piston seal |
DE102020105003A1 (de) * | 2020-02-26 | 2021-08-26 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Kolbenring mit Hartchromschicht und verbessertem Einlaufverhalten |
CN111441023A (zh) * | 2020-04-29 | 2020-07-24 | 金堆城钼业股份有限公司 | 一种钼表面阻氧膜及其制备方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10130892A (ja) * | 1996-09-05 | 1998-05-19 | Teikoku Piston Ring Co Ltd | 複合Crめっき皮膜およびこれを有する摺動部材 |
JPH10130891A (ja) * | 1996-09-05 | 1998-05-19 | Teikoku Piston Ring Co Ltd | 複合Crめっき皮膜およびこれを有する摺動部材 |
WO2005073437A1 (ja) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Kabushiki Kaisha Riken | 複合クロムめっき皮膜並びにその皮膜を有する摺動部材及びその製造方法 |
JP2005240180A (ja) * | 2004-01-30 | 2005-09-08 | Riken Corp | 複合クロムめっき皮膜を有する摺動部材及びその製造方法 |
JP2006508243A (ja) * | 2002-11-29 | 2006-03-09 | フェデラル−モーグル ブルシャイト ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 構造化硬質クロム層の製造方法 |
JP2007533852A (ja) * | 2004-04-21 | 2007-11-22 | フェデラル−モーグル ブルシャイト ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 構造化硬質クロム層の製造およびコーティングの製造 |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US60945A (en) * | 1867-01-01 | shepardson | ||
US131558A (en) * | 1872-09-24 | Improvement in toilet-brackets | ||
NL271581A (ja) | 1960-11-22 | |||
FR1597909A (ja) | 1968-02-03 | 1970-06-29 | ||
DD103391A5 (ja) | 1972-03-07 | 1974-01-20 | ||
GB1492702A (en) | 1974-01-23 | 1977-11-23 | Vintage Curacao Nv | Electroplating process for chrome |
CS214553B1 (cs) | 1979-11-30 | 1984-02-28 | Ladislav Herbansky | Sposob galvan iekého nanášania funkčněj vrstvy odolnéj Hlavně proti otěru |
US4468293A (en) | 1982-03-05 | 1984-08-28 | Olin Corporation | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength |
JPS60127339A (ja) | 1983-12-15 | 1985-07-08 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | メツキ用ポリフエニレンエ−テル系樹脂組成物 |
DE3402554A1 (de) | 1984-01-26 | 1985-08-08 | LPW-Chemie GmbH, 4040 Neuss | Abscheidung von hartchrom auf einer metallegierung aus einem waessrigen, chromsaeure und schwefelsaeure enthaltenden elektrolyten |
US4588481A (en) | 1985-03-26 | 1986-05-13 | M&T Chemicals Inc. | Chromium plating bath for producing non-iridescent, adherent, bright chromium deposits at high efficiencies and substantially free of cathodic low current density etching |
DE3531410A1 (de) * | 1985-09-03 | 1987-03-05 | Goetze Ag | Galvanische hartchromschicht |
US5196108A (en) | 1991-04-24 | 1993-03-23 | Scot Industries, Inc. | Sucker rod oil well pump |
DE4211881C2 (de) | 1992-04-09 | 1994-07-28 | Wmv Ag | Verfahren zum elektrochemischen Aufbringen einer strukturierten Oberflächenbeschichtung |
DE4334122C2 (de) | 1992-04-09 | 1995-11-23 | Wmv Ag | Verfahren zum elektrochemischen Aufbringen einer Oberflächenbeschichtung und Anwendung des Verfahrens |
US5415763A (en) | 1993-08-18 | 1995-05-16 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | Methods and electrolyte compositions for electrodepositing chromium coatings |
US5958207A (en) | 1994-10-01 | 1999-09-28 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Process for applying a surface coating |
JP3293828B2 (ja) | 1993-10-07 | 2002-06-17 | ハイデルベルガー ドルツクマシーネン アクチエンゲゼルシヤフト | 表面被覆のための電気的適用方法 |
IT1267394B1 (it) | 1994-02-18 | 1997-02-05 | Ind S R L | Procedimento per la realizzazione di riporti galvanici compositi in cromo duro con una fase dispersa e riporto anti-usura realizzato con |
DE4432512C2 (de) | 1994-09-13 | 1998-12-17 | Lpw Chemie Gmbh | Verwendung eines Verfahrens zur elektrolytischen Abscheidung von Chromschichten |
DE69711722T2 (de) * | 1996-11-11 | 2002-08-08 | Teikoku Piston Ring Co., Ltd. | Galvanische Komposit-Chrom-Beschichtung und damit beschichtetes Gleitteil |
DE19828545C1 (de) | 1998-06-26 | 1999-08-12 | Cromotec Oberflaechentechnik G | Galvanisches Bad, Verfahren zur Erzeugung strukturierter Hartchromschichten und Verwendung |
JP3918142B2 (ja) | 1998-11-06 | 2007-05-23 | 株式会社日立製作所 | クロムめっき部品、クロムめっき方法およびクロムめっき部品の製造方法 |
DE19929090A1 (de) | 1999-06-24 | 2000-12-28 | Duralloy Ag Haerkingen | Verfahren zur Beschichtung eines Werkstückes mit einem Schmierstoff |
DE19931829A1 (de) * | 1999-07-08 | 2001-01-18 | Federal Mogul Burscheid Gmbh | Galvanische Hartchromschicht |
DE10001888A1 (de) | 2000-01-19 | 2001-07-26 | Rheinmetall W & M Gmbh | Verfahren zur Innenbeschichtung eines Waffenrohres |
US6478943B1 (en) | 2000-06-01 | 2002-11-12 | Roll Surface Technologies, Inc. | Method of manufacture of electrochemically textured surface having controlled peak characteristics |
ES2310985T3 (es) | 2000-11-11 | 2009-02-01 | Enthone, Inc. | Procedimiento para la deposicion electrolitica a partir de una solucion que contiene cromo. |
DE102005059367B4 (de) | 2005-12-13 | 2014-04-03 | Enthone Inc. | Elektrolytzusammensetzung und Verfahren zur Abscheidung rissfreier, korrosionsbeständiger und harter Chrom- und Chromlegierungsschichten |
-
2008
- 2008-04-04 DE DE102008017270A patent/DE102008017270B3/de active Active
-
2009
- 2009-01-22 CN CN2009801095345A patent/CN102007231B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-01-22 JP JP2011502245A patent/JP5743883B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-01-22 PT PT97267041T patent/PT2260127E/pt unknown
- 2009-01-22 WO PCT/EP2009/000384 patent/WO2009121443A1/de active Application Filing
- 2009-01-22 BR BRPI0907065-6A patent/BRPI0907065A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2009-01-22 EP EP09726704.1A patent/EP2260127B1/de not_active Not-in-force
- 2009-01-22 KR KR1020107022119A patent/KR101589892B1/ko active IP Right Grant
- 2009-01-22 US US12/936,158 patent/US8337687B2/en active Active
- 2009-01-22 MX MX2010010923A patent/MX2010010923A/es active IP Right Grant
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10130892A (ja) * | 1996-09-05 | 1998-05-19 | Teikoku Piston Ring Co Ltd | 複合Crめっき皮膜およびこれを有する摺動部材 |
JPH10130891A (ja) * | 1996-09-05 | 1998-05-19 | Teikoku Piston Ring Co Ltd | 複合Crめっき皮膜およびこれを有する摺動部材 |
JP2006508243A (ja) * | 2002-11-29 | 2006-03-09 | フェデラル−モーグル ブルシャイト ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 構造化硬質クロム層の製造方法 |
WO2005073437A1 (ja) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Kabushiki Kaisha Riken | 複合クロムめっき皮膜並びにその皮膜を有する摺動部材及びその製造方法 |
JP2005240180A (ja) * | 2004-01-30 | 2005-09-08 | Riken Corp | 複合クロムめっき皮膜を有する摺動部材及びその製造方法 |
JP2007533852A (ja) * | 2004-04-21 | 2007-11-22 | フェデラル−モーグル ブルシャイト ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 構造化硬質クロム層の製造およびコーティングの製造 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012246539A (ja) * | 2011-05-27 | 2012-12-13 | Osaka Municipal Technical Research Institute | 金属材およびその製造方法、並びに該金属材を使用したダイ |
JP2015511688A (ja) * | 2012-03-16 | 2015-04-20 | フェデラル−モーグル ブルシェイド ゲーエムベーハーFederal−Mogul Burscheid Gmbh | クロム固体粒子の摩耗防止層及び耐食性のフランク面を有するピストンリング |
KR20200092935A (ko) * | 2017-11-30 | 2020-08-04 | 페데랄-모굴 부르샤이트 게엠베하 | 피스톤 링 |
JP2021504633A (ja) * | 2017-11-30 | 2021-02-15 | フェデラル−モグル・ブルシャイト・ゲーエムベーハーFederal−Mogul Burscheid Gmbh | ピストンリング |
KR102662928B1 (ko) * | 2017-11-30 | 2024-05-02 | 페데랄-모굴 부르샤이트 게엠베하 | 피스톤 링 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102007231A (zh) | 2011-04-06 |
PT2260127E (pt) | 2015-02-03 |
WO2009121443A1 (de) | 2009-10-08 |
KR20110008027A (ko) | 2011-01-25 |
CN102007231B (zh) | 2012-08-08 |
BRPI0907065A2 (pt) | 2015-07-07 |
US8337687B2 (en) | 2012-12-25 |
US20110115167A1 (en) | 2011-05-19 |
EP2260127B1 (de) | 2014-10-15 |
EP2260127A1 (de) | 2010-12-15 |
KR101589892B1 (ko) | 2016-01-27 |
DE102008017270B3 (de) | 2009-06-04 |
JP5743883B2 (ja) | 2015-07-01 |
MX2010010923A (es) | 2011-04-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5743883B2 (ja) | 構造化クロム固体粒子層およびその生産方法 | |
Xie et al. | Wear and corrosion resistant coatings on surface of cast A356 aluminum alloy by plasma electrolytic oxidation in moderately concentrated aluminate electrolytes | |
Pezzato et al. | Tribological and corrosion behavior of PEO coatings with graphite nanoparticles on AZ91 and AZ80 magnesium alloys | |
Elias et al. | Electrodeposition of laminar coatings of Ni–W alloy and their corrosion behaviour | |
US6503642B1 (en) | Hard-chrome plated layer | |
Karakurkchi et al. | Electrodeposition of iron–molybdenum–tungsten coatings from citrate electrolytes | |
US20140076263A1 (en) | Aluminum alloy member, aluminum alloy piston for internal combustion engine and manufacturing method thereof | |
JP6369748B2 (ja) | アルミニウム部材の表面被覆方法及び表面被覆アルミニウム部材並びに内燃機関用ピストン | |
Priyadarshi et al. | A review on mechanical, tribological and electrochemical performance of ceramic particle-reinforced Ni-based electrodeposited composite coatings | |
Lee et al. | A study on the corrosion and wear behavior of electrodeposited Ni-WP coating | |
US9758895B2 (en) | Alumina-coated co-deposit and an electrodeposition method for the manufacture thereof | |
Belozerov et al. | The influence of the conditions of microplasma processing (microarc oxidation in anode-cathode regime) of aluminum alloys on their phase composition | |
CN104562105A (zh) | 一种活塞环采用镍钴硫化钨纳米晶合金电镀代替镀硬铬所使用的电镀液及其生产工艺 | |
JP4156762B2 (ja) | Si系アルミニウム合金の表面処理方法 | |
US20080226938A1 (en) | Wear resistant ceramic coated aluminum alloy article and method for making same | |
WO2015147162A1 (ja) | アルミニウム部材の表面被覆方法及び表面被覆アルミニウム部材並びに内燃機関用ピストン | |
Subbotina et al. | Structure and properties of microarc oxide coatings on high-temperature aluminum alloy | |
CN110872721B (zh) | 有阳极氧化皮膜的金属成型体及制造方法、活塞及内燃机 | |
CN107059089A (zh) | Zl109铝合金微弧氧化耐磨陶瓷层工艺 | |
DE102007038188A1 (de) | Verschleißfest beschichtetes Maschinenelement und Verfahren zu dessen Herstellung | |
Deqing et al. | Composite plating of hard chromium on aluminum substrate | |
Sergeyev et al. | Analysis of physical and mechanical properties of Galvanic-plasma wear-resistant coatings | |
JP7445778B2 (ja) | 硬質クロム層及び改善された慣らし運転挙動を有するピストンリング | |
Shihai et al. | Study on wear behavior of plasma electrolytic oxidation coatings on aluminum alloy | |
Sergeyev et al. | Experimental Study Of The Wear Resistance Of A Coated Rotor In A Rotary Engine Using The Galvanic Plasma Method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111130 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111130 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20120224 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20120227 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130927 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131029 |
|
AA92 | Notification of invalidation |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971092 Effective date: 20131119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131203 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141014 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141029 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150407 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150428 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5743883 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |