JP2011508259A5

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Publication number: JP2011508259A5
Application number: JP2010539426A
Authority: JP
Filing date: 2008-12-05
Publication date: 2013-02-14
Anticipated expiration: 2028-12-05

Claims

基板を含んで成るポジ型画像形成性要素であって、該基板上に：
水性アルカリ現像剤可溶性の高分子バインダー、現像性向上化合物、及び輻射線吸収化合物含む画像形成性層を有し、
前記現像性向上化合物が、下記構造（ＤＥＣ）：

［上記式中：
Ｒ ₁ 及びＲ ₂ は独立して、水素、又は炭素原子数１〜６の置換型もしくは無置換型アルキル、又は置換型もしくは無置換型シクロアルキルであり、
Ａは、鎖内に少なくとも１つの、炭素、窒素、硫黄、又は酸素原子を有する置換型又は無置換型の有機連結基であり、Ａはまた−［Ｎ（Ｒ ₁ ）（Ｒ ₂ ）］ _n
（ここで、ｍは１〜４の整数であり、そしてｎは１〜４の整数である）
に直接に結合された置換型又は無置換型アリーレン基を含む］
によって表される、
ポジ型画像形成性要素。
Ａが、−［Ｎ（Ｒ ₁ ）（Ｒ ₂ ）］ _n に直接に結合された置換型又は無置換型フェニレン基を含み、そしてｍ及びｎは独立して１又は２である、請求項１に記載の要素。
現像性向上化合物として、１種又は２種以上の、アミノ安息香酸、ジメチルアミノ安息香酸、アミノサリチル酸、インドール酢酸、もしくはアニリノ二酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、又はこれらの組み合わせを含む、請求項１又は２に記載の要素。
前記画像形成性要素内の最外層である単一の画像形成性層の総乾燥重量を基準として、前記高分子バインダーが３０〜９５重量％の被覆量で存在し、前記現像性向上組成物が１〜３０重量％の被覆量で存在し、そして前記輻射線吸収化合物が、１〜２５重量％の被覆量で存在する赤外線吸収化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の要素。
前記高分子バインダーが、フェノール樹脂、又は
下記構造（ＰＶＡｃ）：

（上記式中、Ｒ及びＲ’は独立して、水素、又は置換型もしくは無置換型アルキル、置換型もしくは無置換型シクロアルキル、又はハロ基であり、そしてＲ ² は置換型又は無置換型の、フェノール、ナフトール、又はアントラセノール基である）
によって表される、総反復単位を基準として少なくとも４０モル％且つ最大８０モル％までの反復単位を含むポリ（ビニルアセタール）を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の要素。
アルミニウム含有基板を含んで成り、該基板上に：
水性アルカリ現像剤可溶性の高分子バインダー、現像性向上化合物、及び輻射線吸収色素を含む最も外側の単一の画像形成性層を有し、そして
前記高分子バインダーが、フェノール樹脂、又は下記構造（ＰＶＡｃ）：

（上記式中、Ｒ及びＲ’は独立して、水素、又は置換型もしくは無置換型アルキル、置換型もしくは無置換型シクロアルキル、又はハロ基であり、そしてＲ ² は置換型又は無置換型の、フェノール、ナフトール、又はアントラセノール基である）
によって表される、総反復単位を基準として少なくとも４０モル％且つ最大８０モル％までの反復単位を含むポリ（ビニルアセタール）を含む、
請求項１〜５のいずれか１項に記載の要素。
４−アミノ安息香酸、４−（Ｎ，Ｎ’−ジメチルアミノ）安息香酸、アニリノ二酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、３−インドール酢酸、及び４−アミノサリチル酸のうちの１種又は２種以上を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の要素。
Ａ）請求項１〜７のいずれか１項に記載のポジ型画像形成性要素を像様露光して、露光された領域と非露光領域とを提供する工程、そして
Ｂ）主として前記露光された領域だけを除去するように前記像様露光された要素を現像して、前記画像形成され、現像された要素内に画像を提供する工程
を含んで成る、画像を形成する方法。
前記画像形成性要素が、赤外線吸収色素を含有しており、７００〜１２００ｎｍの波長のところで画像形成され、そして前記画像形成性要素が、前記画像形成性層内の高分子バインダーとして、フェノール樹脂又はポリ（ビニルアセタール）を含む、請求項８に記載の方法。