JP5547652B2 - 現像性向上化合物を有する輻射線感光性要素 - Google Patents
現像性向上化合物を有する輻射線感光性要素 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5547652B2 JP5547652B2 JP2010539426A JP2010539426A JP5547652B2 JP 5547652 B2 JP5547652 B2 JP 5547652B2 JP 2010539426 A JP2010539426 A JP 2010539426A JP 2010539426 A JP2010539426 A JP 2010539426A JP 5547652 B2 JP5547652 B2 JP 5547652B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substituted
- group
- unsubstituted
- groups
- imageable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/36—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
- B41M5/368—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/20—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by inorganic additives, e.g. pigments, salts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
Description
水性アルカリ現像剤可溶性の高分子バインダー、現像性向上化合物、及び輻射線吸収化合物を含む画像形成性層
を有するポジ型画像形成性要素であって、
現像性向上化合物が、少なくとも1つのアミノ基及び少なくとも1つのカルボン酸基を有する有機化合物である、
ポジ型画像形成性要素を提供する。
上記式中:
R1及びR2は独立して、水素、置換型もしくは無置換型アルキル、置換型もしくは無置換型シクロアルキル、又は置換型もしくは無置換型アリール基であり、
Aは、鎖内に少なくとも1つの、炭素、窒素、硫黄、又は酸素原子を有する置換型又は無置換型の有機連結基であり、Aはまた−[N(R1)(R2)]nに直接に結合された置換型又は無置換型アリーレン基を含み、
mは1〜4の整数であり、そして
nは1〜4の整数である。
水性アルカリ現像剤可溶性の高分子バインダー、現像性向上化合物、及び輻射線吸収色素とを含む最も外側の単一の画像形成性層を有し、
現像性向上化合物が、下記構造(DEC1):
上記式中:
R1及びR2は独立して、水素、又は置換型もしくは無置換型アルキル、置換型もしくは無置換型シクロアルキル、又は置換型もしくは無置換型アリール基であり、
Aは、−[N(R1)(R2)]nに直接に結合された置換型又は無置換型フェニレンを有する有機連結基であり、
Bは、単結合、又は鎖内に少なくとも1つの、炭素、酸素、硫黄、又は窒素原子を有する有機連結基であり、
mは1又は2の整数であり、
nは1又は2の整数であり、
高分子バインダーが、フェノール樹脂、又は下記構造(PVAc):
によって表される、総反復単位を基準として少なくとも40モル%且つ最大80モル%までの反復単位を含むポリ(ビニルアセタール)を含む、
ポジ型赤外線感光性画像形成性要素を含む。
A) 本発明の画像形成性要素を像様露光して、露光された領域と非露光領域とを提供する工程、そして
B) 主として前記露光された領域だけを除去するように前記像様露光された要素を現像して、前記画像形成され、現像された要素内に画像を提供する工程
を含んで成る、画像を形成する方法を提供する。
文脈が特に示すのでない限り、「画像形成性要素」という用語は、本発明の態様を意味するものとする。さらに、「輻射線感光性組成物」という用語は、本発明における有用な配合の組成物を意味するものとする。
本明細書に記載された輻射線感光性組成物は、プリント基板(PCB)生産におけるレジスト・パターン、薄膜・厚膜回路、レジスタ、キャパシタ、インダクタ、マルチチップ・デバイス、集積回路、及びアクティブ半導体デバイスを形成するために使用することができる。加えて、輻射線感光性組成物は、親水性表面を備えた基板を有する平版印刷版を提供するために使用することができるポジ型画像形成性要素を提供するために使用することができる。他の画像形成性要素が当業者には容易に明らかである。
画像形成性要素を提供するために有用な輻射線感光性組成物は、一次高分子バインダーとして、1種又は2種以上の水性アルカリ溶剤(現像剤)可溶性高分子バインダーを含む。これらの一次高分子バインダーは、種々のフェノール樹脂及びポリ(ビニルアセタール)を含む。一次バインダーとして有用なポリマーの重量平均分子量(Mw)は、標準的な手順を用いて測定して、一般に少なくとも5,000であり、そして最大15,000であってよく、そして典型的には約20,000〜約60,000である。最適なMwは、具体的なポリマークラス及びその使用に伴って変化し得る。
上記式中:
Aは、下記構造(Ia):
Bは、下記構造(Ib):
Cは、下記構造(Ic):
Dは、下記構造(Id):
Eは、下記構造(Ie):
mは約5〜約40モル%(典型的には約15〜約35モル%)であり、nは約10〜約60モル%(典型的には約20〜約40モル%)であり、pは0〜約20モル%(典型的には0〜約10モル%)であり、qは1〜約20モル%(典型的には約1〜約15モル%)であり、そしてrは約5〜約49モル%(典型的には約15〜約49モル%)である。
上記式中:
Aは、下記構造(Ia−A):
Bは、下記構造(Ib−A):
上記式中、Xは直接の単結合又は−O−CH2−基である。
約2〜約10モル%の構造(Ic−A)によって表される反復単位、
約2〜約25モル%の構造(Id−A)及び(Ie−A)の両方によって表される反復単位、
約1〜約15モル%の構造(If−A)によって表される反復単位、及び
約15〜約30モル%の構造(Ig−A)によって表される反復単位
で存在する。
下記構造(I−AA):
上記式中:
Aは、下記構造(Ia−A):
Bは、下記構造(Ib−A):
Cは、下記構造(Ic−A):
Dは、下記構造(Id−A):
Eは、下記構造(Ie−A):
Fは、下記構造(If−A):
Gは、下記構造(Ig−A):
上記式中、
R、R’、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、上で規定した通りであり、
mは少なくとも30モル%であり、nは少なくとも20モル%であり、mとnとの和(m+n)は60モル%以下であり、
pは、約2〜約10モル%であり、
q及びrは独立して約2〜約25モル%であり、
sは、約1〜約15モル%であり、そして
tは、約15〜約30モル%である。
(1) スルホンアミド(−SO2NH−R)、
(2) 置換型スルホンアミドに基づく酸基(以後、活性イミド基と呼ぶ)[例えば−SO2NHCOR、SO2NHSO2R、−CONHSO2R]、
(3) カルボン酸基(−CO2H)、
(4) スルホン酸基(−SO3H)、及び
(5) リン酸基(−OPO3H2)。
上述の基(1)〜(5)におけるRは、水素又は炭化水素基を表す。
上記式中:
R1及びR2は上で規定した通りであり、Aは、−[N(R1)(R2)]nに直接に結合された置換型又は無置換型フェニレンを有する有機連結基であり、Bは、単結合、又は鎖内に少なくとも1つの炭素、酸素、硫黄、又は窒素原子を有する有機連結基であり、mは1又は2の整数であり、nは1又は2の整数である。「B」有機連結基は、Bがアリーレン基を含有することが必要とされないことを除けば、Aが上で規定されたのと同じように規定することができ、また通常Bはこれが存在するならばAとは異なる。
上記tは1〜6であり、sは0、1、又は2であり、そしてvは1〜3であり、但しsとvとの和が3であることを条件とする。sが1である場合には、R7は、水素、又はアルキル、アルキルアミン、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アリールアミン、又はヘテロアリール基であり、そして、sが2である場合には、複数のR7基は、同じか又は異なるアルキル、アルキルアミン、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アリールアミン、又はヘテロアリール基であり、或いは、2つのR7基は、窒素原子と一緒に、置換型又は無置換型の複素環を形成することもできる。R8及びR9は独立して水素、又はアルキル基である。
一般に、画像形成性要素は、画像形成性層を形成するために、1種又は2種以上の高分子バインダー、現像性向上化合物、及び典型的には輻射線吸収化合物(下記)、並びに他の任意選択的な添加物を、好適な基板に好適に適用することによって形成される。この基板は、配合物の適用の前に、下記のような種々の方法で処理又は塗布することができる。例えば、基板は、改善された付着性又は親水性のために「中間層」を提供するように処理することができ、そして画像形成層は中間層上に適用される。
本発明の画像形成性要素は、例えば印刷版前駆体、印刷胴、印刷スリーブ、及び印刷テープ(可撓性印刷ウェブを含む)を含むいかなる有用な形態をも有することができる。例えば、画像形成性部材は、平版印刷版を形成するための平版印刷版前駆体である。
BF-03は、Chang Chun Petrochemical Co. Ltd.(台湾)から入手した、加水分解率98%(Mw=15,000)のポリ(ビニルアセタール)を表す。
BIS-TRISは、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−2,2’,2’’−ニトリロトリエタノールを表す。
クリスタル・バイオレット(C. I. 42555)は、Basic Violet 3又はヘキサメチルパラローザニリンクロリド(λmax=588nm)である。
DMABAは、4−(ジメチルアミノ)安息香酸を表す。
DMSOは、ジメチルスルホキシドを表す。
IAAは、3−インドール酢酸を表す。
LB 9900は、Hexion Specialty Chemicals AG (ドイツ国)から入手したレゾール樹脂である。
MEKは、メチルエチルケトンを表す。
MSAは、メタンスルホン酸(99%)を表す。
PASAは、4−アミノ−2−ヒドロキシ安息香酸を表す。
Polyfox(登録商標) PF 652は、Omnova Solutions Inc. (オハイオ州Fairlawn)から入手した界面活性剤である。
S 0094は、FEW Chemicals (ドイツ国)から入手したIR色素(λmax=813nm)である。
Sudan Black Bは、Acros Organics (ベルギー国Geel)から入手可能な中性ジアゾ色素(C. U. 26150)である。
TEAはトリエタノールアミンである。
TETRAKISは、Acros Organicsから得られたN,N,N’,N’−テトラキス(2−ヒドロキシプロピル)−エチレンジアミンを表す。
THPEは、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタンを表す。
BF-03(50g)を、水冷凝縮器、滴下漏斗、及び温度計を備えた、DMSO(200g)を含有する反応容器に添加した。連続的に攪拌しながら、混合物をこれが透明な溶液になるまで、80℃で30分間にわたって加熱した。次いで温度を60℃に調節し、そしてDMSO(50g)中のMSA(2.7g)を添加した。15分間にわたって、反応混合物にブチルアルデヒド(10.4g)の溶液を添加し、そしてこれを1時間にわたって55〜60℃で維持した。DMSO(100g)中の2−ヒドロキシベンズアルデヒド(サリチル酸アルデヒド、39g)を、反応混合物を添加した。次いで、反応混合物をアニゾール(350g)で希釈し、そして真空蒸留を開始した。アニゾール:水共沸混合物を反応混合物から蒸留した(0.1%未満の水が溶液中に残った)。反応混合物を室温まで冷却し、そしてDMSO(30g)中に溶解されたTEA(8g)で中和し、次いで6kgの水とブレンドした。結果として生じた沈殿ポリマーを水で洗浄し、濾過し、そして50℃で24時間にわたって真空中で乾燥させることにより、86gの乾燥ポリマーAを得た。
本発明の4種の画像形成性要素、及び本発明以外の2種の比較例要素を、以下のように調製した。
発明例1〜4:
ポリマーA 22.18g
LB 9900(PM中49%) 24.49g
S 0094 IR色素 1.000g
クリスタル・バイオレット 0.800g
Sudan Black 0.800g
現像性向上化合物(表I) 3.100g
PF 652(PM中10%) 1.150g
PM 273.0g
MEK 161.5g
ポリマーA 20.81g
LB 9900(PM中49%) 23.41g
S 0094 IR色素 0.960g
クリスタル・バイオレット 0.770g
Sudan Black 0.770g
BIS-TRIS 2.300g
TETRAKIS 1.150g
PF 652(PM中10%) 1.150g
PM 273.0g
MEK 154.5g
比較例1の評価も下記表Iに示す。
ポリマーA 20.81g
LB 9900(PM中49%) 23.41g
S 0094 IR色素 0.960g
クリスタル・バイオレット 0.770g
Sudan Black 0.770g
THPE 3.450g
PF 652(PM中10%) 1.150g
PM 273.0g
MEK 154.5g
比較例2の評価も下記表Iに示す。
Claims (5)
- 基板を含んで成るポジ型画像形成性要素であって、該基板上に:
水性アルカリ現像剤可溶性の高分子バインダー、現像性向上化合物、及び輻射線吸収化合物含む画像形成性層を有し、
前記現像性向上化合物が、下記構造(DEC):
R1及びR2は独立して、水素、又は炭素原子数1〜6の置換型もしくは無置換型アルキル基、又は置換型もしくは無置換型シクロアルキル基であり、
Aは、鎖内に少なくとも1つの、炭素、窒素、硫黄、又は酸素原子を有する置換型又は無置換型の有機連結基であり、Aはまた−[N(R1)(R2)]n
(ここで、mは1〜4の整数であり、そしてnは1〜4の整数である)
に直接に結合された置換型又は無置換型アリーレン基を含む]
によって表され、
該画像形成性層の総乾燥重量を基準として、該高分子バインダーが30〜95重量%の被覆量で存在し、該現像性向上化合物が1〜30重量%の被覆量で存在し、そして該輻射線吸収化合物が、1〜25重量%の被覆量で存在する赤外線吸収化合物である、
ポジ型画像形成性要素。 - Aが、−[N(R1)(R2)]nに直接に結合された置換型又は無置換型フェニレン基を含み、そしてm及びnは独立して1又は2である、請求項1に記載の要素。
- 現像性向上化合物として、1種又は2種以上の、アミノ安息香酸、ジメチルアミノ安息香酸、アミノサリチル酸、又はこれらの組み合わせを含む、請求項1又は2に記載の要素。
- A) 請求項1〜4のいずれか1項に記載のポジ型画像形成性要素を像様露光して、露光された領域と非露光領域とを提供する工程、そして
B) 主として前記露光された領域だけを除去するように前記像様露光された要素を現像して、前記画像形成され、現像された要素内に画像を提供する工程
を含んで成る、画像を形成する方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/959,492 US8088549B2 (en) | 2007-12-19 | 2007-12-19 | Radiation-sensitive elements with developability-enhancing compounds |
US11/959,492 | 2007-12-19 | ||
PCT/US2008/013405 WO2009085093A1 (en) | 2007-12-19 | 2008-12-05 | Radiation-sensitive elements with developability-enhancing compounds |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011508259A JP2011508259A (ja) | 2011-03-10 |
JP2011508259A5 JP2011508259A5 (ja) | 2013-02-14 |
JP5547652B2 true JP5547652B2 (ja) | 2014-07-16 |
Family
ID=40416923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010539426A Expired - Fee Related JP5547652B2 (ja) | 2007-12-19 | 2008-12-05 | 現像性向上化合物を有する輻射線感光性要素 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8088549B2 (ja) |
EP (1) | EP2222469B1 (ja) |
JP (1) | JP5547652B2 (ja) |
CN (1) | CN101903177B (ja) |
WO (1) | WO2009085093A1 (ja) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8084189B2 (en) * | 2008-05-22 | 2011-12-27 | Eastman Kodak Company | Method of imaging and developing positive-working imageable elements |
US8298750B2 (en) | 2009-09-08 | 2012-10-30 | Eastman Kodak Company | Positive-working radiation-sensitive imageable elements |
US8329383B2 (en) * | 2009-11-05 | 2012-12-11 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors |
EP2366545B1 (en) | 2010-03-19 | 2012-12-05 | Agfa Graphics N.V. | A lithographic printing plate precursor |
US8939080B2 (en) | 2010-11-18 | 2015-01-27 | Eastman Kodak Company | Methods of processing using silicate-free developer compositions |
US8530143B2 (en) * | 2010-11-18 | 2013-09-10 | Eastman Kodak Company | Silicate-free developer compositions |
US20120129093A1 (en) * | 2010-11-18 | 2012-05-24 | Moshe Levanon | Silicate-free developer compositions |
US8647811B2 (en) * | 2012-01-12 | 2014-02-11 | Eastman Kodak Company | Positive-working lithographic printing plate precursors |
US20130255515A1 (en) | 2012-03-27 | 2013-10-03 | Celin Savariar-Hauck | Positive-working lithographic printing plate precursors |
EP2941349B1 (en) | 2013-01-01 | 2017-07-19 | AGFA Graphics NV | (ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
US9229325B2 (en) | 2014-02-25 | 2016-01-05 | Eastman Kodak Company | Method for making lithographic printing plates |
EP2933278B1 (en) | 2014-04-17 | 2018-08-22 | Agfa Nv | (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
EP2944657B1 (en) | 2014-05-15 | 2017-01-11 | Agfa Graphics Nv | (Ethylene, Vinyl Acetal) Copolymers and Their Use In Lithographic Printing Plate Precursors |
ES2660063T3 (es) | 2014-06-13 | 2018-03-20 | Agfa Nv | Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica |
EP2963496B1 (en) | 2014-06-30 | 2017-04-05 | Agfa Graphics NV | A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers |
EP3032334B1 (en) | 2014-12-08 | 2017-10-18 | Agfa Graphics Nv | A system for reducing ablation debris |
EP3130465B1 (en) | 2015-08-12 | 2020-05-13 | Agfa Nv | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
US9588429B1 (en) | 2015-09-03 | 2017-03-07 | Eastman Kodak Company | Lithographic developer composition and method of use |
EP3429864A1 (en) | 2016-03-16 | 2019-01-23 | Agfa Nv | Method and apparatus for processing a lithographic printing plate |
EP3637188A1 (en) | 2018-10-08 | 2020-04-15 | Agfa Nv | An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor |
EP3778253A1 (en) | 2019-08-13 | 2021-02-17 | Agfa Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
US11633948B2 (en) | 2020-01-22 | 2023-04-25 | Eastman Kodak Company | Method for making lithographic printing plates |
US11760081B2 (en) | 2020-09-04 | 2023-09-19 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and method of use |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1335517A (en) | 1972-08-17 | 1973-10-31 | Oce Van Der Grinten Nv | Light-sensitive reprographic elements sensitised with quinone diazides containing aromatic amino acids in the light-sensitive layer |
US5238771A (en) * | 1988-05-31 | 1993-08-24 | Konica Corporation | Lithographic printing plate utilizing aluminum substrate with photosensitive layer containing o-naphthoquinonediazide sulfonic acid ester, alkali soluble resin and select additive |
JP2645587B2 (ja) * | 1989-03-29 | 1997-08-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 微細パターン形成材料及び微細パターン形成方法 |
JP3317597B2 (ja) * | 1994-10-18 | 2002-08-26 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型感光性組成物 |
US5713287A (en) | 1995-05-11 | 1998-02-03 | Creo Products Inc. | Direct-to-Press imaging method using surface modification of a single layer coating |
US6174646B1 (en) * | 1997-10-21 | 2001-01-16 | Konica Corporation | Image forming method |
US6255033B1 (en) * | 1999-07-30 | 2001-07-03 | Creo, Ltd. | Positive acting photoresist compositions and imageable element |
US20040091811A1 (en) * | 2002-10-30 | 2004-05-13 | Munnelly Heidi M. | Hetero-substituted aryl acetic acid co-initiators for IR-sensitive compositions |
WO2004018662A2 (en) | 2002-08-19 | 2004-03-04 | Dsm Ip Assets B.V. | Cellulases and hemicellulases and uses thereof |
US7270932B2 (en) * | 2004-02-06 | 2007-09-18 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Imaging composition and method |
US7144676B2 (en) * | 2004-02-06 | 2006-12-05 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Imaging compositions and methods |
DE602005000609T2 (de) * | 2004-03-16 | 2007-11-29 | Fujifilm Corp. | Positiv arbeitende photoempfindliche Zusammensetzung |
JP4391285B2 (ja) * | 2004-03-26 | 2009-12-24 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
JP2006058430A (ja) | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP4384575B2 (ja) * | 2004-09-27 | 2009-12-16 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP4498177B2 (ja) * | 2005-03-15 | 2010-07-07 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型感光性組成物及びそれを用いた画像記録材料 |
US7175969B1 (en) * | 2006-07-18 | 2007-02-13 | Eastman Kodak Company | Method of preparing negative-working radiation-sensitive elements |
-
2007
- 2007-12-19 US US11/959,492 patent/US8088549B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-12-05 JP JP2010539426A patent/JP5547652B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-12-05 CN CN200880121530.4A patent/CN101903177B/zh active Active
- 2008-12-05 EP EP08868020.2A patent/EP2222469B1/en not_active Not-in-force
- 2008-12-05 WO PCT/US2008/013405 patent/WO2009085093A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8088549B2 (en) | 2012-01-03 |
JP2011508259A (ja) | 2011-03-10 |
WO2009085093A1 (en) | 2009-07-09 |
CN101903177B (zh) | 2013-04-03 |
EP2222469B1 (en) | 2014-01-15 |
US20090162783A1 (en) | 2009-06-25 |
EP2222469A1 (en) | 2010-09-01 |
CN101903177A (zh) | 2010-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5547652B2 (ja) | 現像性向上化合物を有する輻射線感光性要素 | |
JP5314051B2 (ja) | ポジ型画像形成性要素の画像形成および現像方法 | |
US7544462B2 (en) | Radiation-sensitive composition and elements with basic development enhancers | |
JP5134015B2 (ja) | ポジ型輻射線感光性組成物および要素 | |
US7955779B2 (en) | Radiation-sensitive compositions and elements with solvent resistant poly(vinyl acetal)s | |
JP5658258B2 (ja) | ポジ型放射感受性画像形成性要素 | |
JP2012500419A (ja) | ポジ型平版印刷版前駆体の処理 | |
JP2009541795A (ja) | 分岐ヒドロキシスチレンポリマーを含むポジ型画像形成性要素 | |
JP5612598B2 (ja) | ポリ(ビニルヒドロキシアリールカルボン酸エステル)を含有する輻射線感受性組成物及び要素 | |
JP4898821B2 (ja) | エポキシ樹脂を含有する多層画像形成性要素 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111202 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111202 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130515 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130521 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130820 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140415 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140515 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5547652 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |