JPH05158239A

JPH05158239A - ネガ型感光性組成物

Info

Publication number: JPH05158239A
Application number: JP3344085A
Authority: JP
Inventors: Toshiaki Aoso; 利明青合; Tadayoshi Kokubo; 忠嘉小久保
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1991-12-03
Filing date: 1991-12-03
Publication date: 1993-06-25

Abstract

(57)【要約】【目的】高感度でかつ高解像力であるネガ型感光性組成
物を提供する。更に、露光後の処理工程条件による性能
の変動が小さいフオトレジスト組成物を提供する。【構成】ネガ型感光性組成物が、（ａ）水に不溶でア
ルカリ水に可溶な樹脂、（ｂ）活性光線又は放射線の照
射により酸を発生する化合物、（ｃ）酸の作用により架
橋し得る基を少なくとも１個有する化合物、及び（ｄ）
５０℃以上で塩基を発生する化合物、を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、特定のアルカリ可溶性
樹脂と輻射線感応性の酸発生剤、酸によって架橋反応を
誘起される物質とを含有して成る、紫外線、遠紫外線、
Ｘ線、電子線、分子線、γ線、シンクロトロン放射線等
の輻射線に感応するネガ型フオトレジスト組成物に関す
るものであり、更に詳しくは解像力、及び感度に優れ、
かつ現像残りによる微小欠陥が実質上発生しないネガ型
フオトレジスト組成物に関するものである。本発明によ
るネガ型フオトレジストは、半導体ウエハー、又はガラ
ス、セラミツクス、金属等の基板上にスピン塗布法又は
ローラー塗布法で０．５〜３μｍの厚みに塗布される。
その後、加熱、乾燥し、露光マスクを介して回路パター
ン等を紫外線照射などにより焼き付け、更に必要に応じ
露光後加熱工程（ＰＥＢ）を経てから現像すればネガ画
像が得られる。更にこの画像をマスクとしてエツチング
する事により基板にパターン状の加工を施すことができ
る。代表的な応用分野はＩＣなどの半導体製造工程、液
晶、サーマルヘツドなどの回路基板の製造、更にその他
のフオトフアブリケーシヨン工程である。またこの画像
と支持基板とのインクへの親和性の差を利用して平版印
刷版に適用することもできる。

【０００２】

【従来の技術】半導体基板の加工の高集積度化に伴いフ
オトレジストの高解像力化が求められている。しかし、
環化ゴムとビスアジドなどの光架橋剤とからなるネガレ
ジストは現像過程で膨潤を起こし、解像力を損なう事が
知られている。ノボラック樹脂とナフトキノンジアジド
等の溶解抑止剤からなるポジ型フオトレジストではかか
る膨潤が起こらず、高い解像力が得られる。従って現在
半導体の微細加工はポジ型レジストを用いたリソグラフ
ィーが中心となっている。

【０００３】結合剤としてのノボラック樹脂は、膨潤せ
ずに現像液に可溶であることがこのような利点をもたら
している。またノボラック樹脂はレジストに高いプラズ
マエッチ耐性を与え、しかも水性アルカリで現像可能に
するなどの利点をもたらす。従って、特に半導体の微細
加工用途などには、レジストの基剤となる結合剤として
最も望ましいものの一つである。

【０００４】ナフトキノンジアジドとノボラック樹脂か
らなるポジ型フオトレジストに於いては、高解像力を得
るための種々の材料設計上の試みがなされており、数多
くの特許、文献が開示されている。例えば、ポジ型フオ
トレジストに於いては解像力を支配する因子として、ナ
フトキノンジアジド化合物によるノボラック樹脂の溶解
抑制作用が重要であることが判っている。この効果が大
きいほど、現像過程で露光部と未露光部の溶解コントラ
ストが大きくとれるためである。このような溶解抑制作
用の本質については、ノボラック樹脂や感光剤の分子構
造と関連させて、近年多くのことが判ってきている。例
えば、ＳＰＩＥマイクロリソグラフィーシンポジウムの
講演論文集、第９２０巻３４９号、第１２６２巻４７６
頁、同４９３頁などはこの溶解抑制効果をノボラック樹
脂の分子構造や物理的性質と関係づけて論じており、こ
の他にも多数の文献、特許がかかる視点を論じている。

【０００５】一方、加工のためのパターン転写に於い
て、形成させるパターンやマスクの種類によっては、レ
ジストはポジ像でなくネガ像を形成するものの方が望ま
れる場合もある。ノボラック樹脂を結合剤として用いた
ネガレジストとしては、ビスアジド等の光架橋剤を含有
するものが知られているが、現像のラチチュードが狭
く、また光架橋剤の光吸収が大きいため、レジストパタ
ーンの断面形状が逆台形を呈するという重大な欠点があ
る。

【０００６】別に光酸発生剤と、酸を触媒としてノボラ
ック樹脂等の結合剤に硬化反応を起こす添加剤とを組み
合わせてノボラック樹脂に添加し、ネガ型感光性樹脂組
成物を得る方法がある。この方法に於いては、露光に続
く反応過程で触媒反応に基づく化学的な反応収率の増幅
が期待できるので、感光剤の添加量、即ち光吸収成分の
量を減ずることができる。それ故ネガ型に特有の上記の
断面形状の問題を解決することが可能であり、微細加工
用のレジスト材料として有望と期待できる。また、化学
的な増幅を伴う反応系であることから高い量子収率、即
ち高い感度が期待できる。従って、この感光性組成物を
平版印刷用の感光層として用いれば、レーザー光での描
画等にも適した高感度刷版に利用することができる。

【０００７】かかる光硬化性樹脂組成物については次の
ような先行技術が知られている。すなわち特公昭５４−
２３５７４号公報は有機ハロゲン化物からなる光酸発生
剤と組合せ、ノボラック樹脂を光硬化させる技術を開示
している。西独公開特許２０５７４７３号公報には、ジ
アゾ化合物からなる光酸発生剤とメチロール化メラミン
などからなる光硬化性組成物の結合剤としてノボラック
などのフェノール樹脂を適用できることが記載されてい
る。特開昭６０−２６３１４３号公報は光酸発生剤とメ
ラミン樹脂などの酸硬化性アミノブラスト樹脂、それに
一般的なノボラック樹脂からなる組成物を開示してお
り、水性現像可能で熱安定性の高いネガ画像が得られる
としている。特開昭６２−１６４０４５号公報はかかる
組成物の光酸発生剤として、遠紫外域に光吸収を有する
有機ハロゲン化物が有利に使えることを述べている。同
様に特開平２−５２３４８号公報は類似の系の光酸発生
剤として、特定領域のｐＫａ値を持つ有機ハロゲン化物
が有利であることを述べている。特開平２−１５４２６
６号公報は同様な光硬化性組成物の光酸発生剤としてオ
キスムスルフォン酸エステル類が有効であることを示し
ている。また別な例としては、特開平２−１４６０４４
号公報が、特定のトリクロロトリアジン基を有する光酸
発生剤とアルコキシ化メラミンにｍ−クレゾールを３０
％以上含有するノボラック樹脂を組み合わせた組成物
が、高エネルギー線露光用に有用であることを述べてい
る。更に、欧州特許３９７４６０Ａ号公報には、同様な
組成物に於いて分岐度の高いノボラック樹脂を用いるこ
とが示されている。

【０００８】これらの公報においても、同じノボラック
樹脂を用いた酸硬化性感光性樹脂組成物については、短
波長に適合させることで高い解像力を得る試みの他は、
多くは述べられていない。これはネガ型レジストに於
て、高解像力を得るための分子や素材システムの機能設
計の指針はポジ型のそれとは根本的に異なるために、こ
れらの多くの知識がそのまま利用できないことに一つの
原因がある。例えば、特開平２−１４６０４４号にはノ
ボラック樹脂を用いた酸硬化型のネガレジストに於い
て、ｍ−クレゾール含量の高いノボラック樹脂を用いた
ものが、高い残膜率と良好なパターン形状を与えること
が示唆されているが、これは必ずしもポジレジストでは
成立しない。従って、酸硬化型のネガレジストの高解像
力化は、試行錯誤的に素材の探索が行われているのが現
状であり、適用素材の構造と解像力との関係を的確に技
術予測するのは未だに困難である。更に、上記光酸発生
剤、酸硬化剤を組み合わせたネガ系では、光により発生
した酸の拡散によつて、露光後現像までの経時時間を変
えた場合、もしくは酸による硬化を促進する為の露光後
加熱工程（ＰＥＢ）の条件（加熱温度、加熱時間）を変
えた場合、感度及びレジストパターンの形状等が大きく
変動するという問題があつた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかし、半導体デバイ
スの高集積度化は年々急速度で進行するものとみられ、
回路焼付けの主工程たるリソグラフィー工程の一層の高
解像力化への対応が望まれている。しかし上記の従来技
術の範囲では、必ずしも今後望まれる高い解像力を得る
ことができず、また高い解像力を得ようとすると、著し
く感度が損なわれたり、パターンの間にスカムと呼ぶ現
像残りが発生したりした。このような現像残りは、その
後のエッチングによるパターン転写の際に微小欠陥とな
って、半導体デバイスの動作不良を引き起こす原因とな
る。従って本発明の目的は、高感度でかつ高解像力であ
るネガ型感光性組成物を提供することにある。本発明の
他の目的は、露光後の処理工程条件による性能の変動が
小さいフオトレジスト組成物を提供することにある。こ
の感光性組成物は、半導体加工用のマイクロフオトレジ
ストとして特に有用であるが、その高感度という特徴を
生かして平版用の感光性印刷版に利用することもでき
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】発明者らは、上記諸特性
に留意し、鋭意検討した結果本発明を完成させるに至っ
た。即ち、本発明の目的は、（ａ）水に不溶でアルカリ
水に可溶な樹脂、（ｂ）活性光線又は放射線の照射によ
り酸を発生する化合物、（ｃ）酸の作用により架橋し得
る基を少なくとも１個有する化合物、及び（ｄ）５０℃
以上で塩基を発生する化合物、を含有することを特徴と
するネガ型感光性組成物により達成された。以下に、本
発明の感光性組成物の各成分について詳細に説明する。

【００１１】成分（ａ）：アルカリ可溶性樹脂成分（ａ）の、水に不溶でアルカリ水に可溶な樹脂とし
ては、好ましくは、フエノール性水酸基、カルボン酸
基、スルホン酸基、イミド基、スルホンアミド基、Ｎ−
スルホニルアミド基、Ｎ−スルホニルウレタン基、活性
メチレン基等のｐＫａ１１以下の酸性水素原子を有する
ポリマーである。好適なアルカリ可溶性ポリマーとして
は、ノボラツクフエノール樹脂、具体的にはフエノール
ホルムアルデヒド樹脂、ｏ−クレゾール−ホルムアルデ
ヒド樹脂、ｍ−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ｐ
−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、キシレノール−
ホルムアルデヒド樹脂、もしくはこれらの共縮合物等が
ある。更に、特開昭５０−１２５８０６公報に記載され
ている様に、上記のようなフエノール樹脂と共に、ｔ−
ブチルフエノールホルムアルデヒド樹脂の様な、炭素数
３〜８のアルキル基で置換されたフエノールもしくはク
レゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用しても
よい。また、Ｎ−（４−ヒドロキシフエニル）メタクリ
ルアミドのようなフエノール性ヒドロキシ基含有モノマ
ーを共重合成分とするポリマー、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−イソプロペニルフエ
ノール、ｐ−イソプロペニルフエノール等の、単独もし
くは共重合のポリマー、更にまたはこれらのポリマーを
部分エーテル化、部分エステル化したポリマーも使用で
きる。

【００１２】更に、アクリル酸、メタクリル酸等のカル
ボキシル基含有モノマーを共重合成分とするポリマー、
特開昭６１−２６７０４２に記載のカルボキシル基含有
ポリビニルアセタール樹脂、特開昭６３−１２４０４７
に記載のカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂も好適に
使用される。更にまた、Ｎ−（４−スルフアモイルフエ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−フエニルスルホニルメタ
クリルアミド、マレイミドを共重合成分とするポリマ
ー、特開昭６３−１２７２３７に記載のメチレン基含有
モノマーも使用できる。

【００１３】これらの中で特に好ましいのは、ｍ−クレ
ゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−クレゾール、及び２，５
−キシレノール、３，５−キシレノール等のキシレノー
ルの内、１種以上を組み合わせた共縮合ノボラツク樹脂
である。この様な樹脂の製造法としては、例えば、ｍ／
ｐ−クレゾールノボラック樹脂の場合、ｍ−クレゾール
とｐ−クレゾールとをモノマーとして用い、この両成分
を実質的にフォルムアルデヒドで共縮合して作る。両成
分の使用比率はポリマー中のｍ−クレゾールの含有率と
して２０％以上の範囲のものを用いる。好ましいｍ−ク
レゾール含量は４０％以上であり、更に好ましくは６０
％以上かつ９５％以下のものを用いたものが良い。この
ようなノボラック樹脂を製造するには種々の方法をとる
ことができる。例えば、ｍ−クレゾールとｐ−クレゾー
ルを所定の割合に混合しておいて、フォルマリン水溶液
を添加し、触媒の添加量を適宜変化させ、トリエチルア
ミンでこれを縮合する方法をとることが可能である。

【００１４】また、モノマーとパラフォルムアルデヒド
をトルエンのような非極性溶媒に溶解し、加圧条件下で
高温に加熱することによっても製造できる。またｍ／ｐ
−混合クレゾールに対して、特開昭５９−１６２５４２
号、同６０−１５９８４６号明細書の実施例に示された
ような２価金属の塩を反応触媒に用いる方法も適用でき
る。

【００１５】これらの製造法はいずれもハイオルソノボ
ラックの合成法として知られているものにあたる。従っ
て、ノボラックを製造する上では、上記に限らず、ハイ
オルソノボラックを合成する手法が好ましい方法として
いずれも適用できる。

【００１６】こうして得られたノボラック樹脂の重量平
均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー
（ＧＰＣ）で測定してポリスチレン換算の表示を行った
ときに、１０００から３００００の範囲にあることが好
ましい。１０００未満では未露光部の現像後の膜減りが
大きく、３００００を超えると感度が著しく低下してし
まう。特に好ましい範囲は２０００から１５０００であ
る。

【００１７】本発明のノボラック樹脂に於いて、縮合反
応によって得られた樹脂を分別して、その分子量分布を
調整して用いることができる。特に、ダイマー等の低分
子成分を取り除くことによって、ダイマー成分の含量が
１５重量％未満のものを使用すれば、現像性・耐熱性が
特に改善されるので、好ましい。ダイマー成分を調整す
る方法としては、例えば、常法に従ってノボラック樹脂
を合成した後、メタノール、エタノール、アセトン、メ
チルエチルケトン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等
の極性溶媒に溶解し、次いで水又は水−極性溶媒混合物
に入れて樹脂成分を沈澱させる方法がある。別の方法と
しては、アルカリ可溶性樹脂の合成の際、所定時間反応
後、通常は１５０℃〜２００℃で減圧留去を行って水、
未反応のモノマー、ホルムアルデヒド、等除いているの
に対し、２３０℃以上、好ましくは２５０℃以上で１０
ｍｍＨｇ以下の減圧留去を行うことにより、ダイマー成
分を効率良く留去することができる。上記アルカリ可溶
性樹脂は単一で使用できるが、数種の混合物として使用
してもよい。本発明の組成物に於いて、これらのアルカ
リ可溶性樹脂は皮膜形成に必要な濃度で存在させるが、
これは全固形分の４０重量％以上、好ましくは６０〜９
５％、更に好ましくは７０〜９０％の範囲で用いる。

【００１８】成分（ｂ）：活性光線もしくは放射線の
照射により酸を発生する化合物本発明で使用される活性光線または放射線の照射により
分解して酸を発生する化合物としては、光カチオン重合
の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消
色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用さ
れている公知の光により酸を発生する化合物およびそれ
らの混合物を適宜に選択して使用することができる。

【００１９】たとえば S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.E
ng.,18,387(1974)、T.S.Bal etal,Polymer,21,423(198
0)等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056号、同 Re 27,992号、特願平3-140,140
号等に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker etal,Macrom
olecules,17,2468(1984)、C.S.Wen etal,Teh,Proc.Con
f.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第
4,069,055号、同4,069,056号等に記載のホスホニウム
塩、J.V.Crivello etal,Macromorecules,10(6),1307(19
77)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第10
4,143号、米国特許第339,049号、同第410,201号、特開
平2-150,848号、特開平2-296,514号等に記載のヨードニ
ウム塩、J.V.Crivello etal,Polymer J.17,73(1985)、
J.V.Crivello etal.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.
Watt etal,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789
(1984)、J.V.Crivello etal,Polymer Bull.,14,279(198
5)、J.V.Crivello etal,Macromorecules,14(5),1141(19
81)、J.V.Crivello etal,J.PolymerSci.,Polymer Chem.
Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693 号、同3,902,1
14号同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特
許第4,933,377号、同161,811号、同410,201号、同339,0
49号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827
号、獨国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,
581号等に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello etal,M
acromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello etal,
J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed., 17,1047(1979)等に
記載のセレノニウム塩、C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.R
ad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)等に記載のアル
ソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第3,905,815号、
特公昭46-4605号、特開昭48-36281号、特開昭55-32070
号、特開昭60-239736号、特開昭61-169835号、特開昭61
-169837号、特開昭62-58241号、特開昭62-212401号、特
開昭63-70243号、特開昭63-298339号等に記載の有機ハ
ロゲン化合物、K.Meier etal,J.Rad.Curing,13(4),26(1
986)、T.P.Gill etal,Inorg.Chem.,19,3007(1980)、D.
Astruc,Acc.Chem.Res.,19(12),377(1896)、特開平2-161
445号等に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、S.Hayas
e etal,J.Polymer Sci.,25,753(1987)、E.Reichmanis e
tal,J.Pholymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,23,1(1985)、Q.
Q.Zhu etal,J.Photochem.,36,85,39,317(1987)、B.Amit
etal,Tetrahedron Lett.,(24)2205(1973)、D.H.R.Barton
et al,J.Chem Soc.,3571(1965)、P.M.Collins etal,J.C
hem.SoC.,Perkin I,1695(1975)、M.Rudinstein etal,Tet
rahedron Lett.,(17),1445(1975)、J.W.Walker etalJ.A
m.Chem.Soc.,110,7170(1988)、S.C.Busman etal,J.Imagi
ng Technol.,11(4),191(1985)、H.M.Houlihan etal,Maco
rmolecules,21,2001(1988)、P.M.Collins etal,J.Chem.S
oc.,Chem.Commun.,532(1972)、S.Hayase etal,Macromole
cules,18,1799(1985)、E.Reichmanis etal,J.Electroche
m.Soc.,Solid State Sci.Technol.,130(6)、F.M.Houliha
n etal,Macromolcules,21,2001(1988)、欧州特許第029
0,750号、同046,083号、同156,535号、同271,851号、同
0,388,343号、米国特許第3,901,710号、同4,181,531
号、特開昭60-198538号、特開昭53-133022号等に記載の
０−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、M.TU
NOOKA etal,Polymer Preprints Japan,35(8)、G.Berner
etal,J.Rad.Curing,13(4)、W.J.Mijs etal,Coating Tec
hnol.,55(697),45(1983),Akzo、H.Adachi etal,Polymer
Preprints,Japan,37(3)、欧州特許第0199,672号、同8451
5,199,672号、同044,115,0101,122号、米国特許第618,5
64号、同4,371,605号、同4,431,774号、特開昭64-18143
号、特開平2-245756号、特願平3-140109号等に記載のイ
ミノスルフォネ−ト等に代表される光分解してスルホン
酸を発生する化合物、特開昭61-166544号等に記載のジ
スルホン化合物を挙げることができる。

【００２０】また、これらの光により酸を発生する基、
あるいは化合物をポリマーの主鎖または側鎖に導入した
化合物、たとえば、M.E.Woodhouse etal,J.Am.Chem.So
c.,104,5586(1982)、S.P.Pappas etal,J.Imaging Sc
i.,30(5),218(1986)、S.Kondoetal,Makromol.Chem.,Rap
id Commun.,9,625(1988)、Y.Yamadaetal,Makromol.Che
m.,152,153,163(1972)、J.V.Crivello etal,J.PolymerS
ci.,Polymer Chem.Ed.,17,3845(1979)、米国特許第3,84
9,137号、獨国特許第3914407、特開昭63-26653号、特開
昭55-164824号、特開昭62-69263号、特開昭63-146038
、特開昭63-163452号、特開昭62-153853号、特開昭63-
146029号等に記載の化合物を用いることができる。さら
にV.N.R.Pillai,Synthesis,(1),1(1980)、A.Abad etal,
Tetrahedron Lett.,(47)4555(1971)、D.H.R.Barton eta
l,J.Chem.Soc.,(C),329(1970)、米国特許第3,779,778
号、欧州特許第126,712号等に記載の光により酸を発生
する化合物も使用することができる。

【００２１】上記活性光線または放射線の照射により分
解して酸を発生する化合物の中で、特に有効に用いられ
るものについて以下に説明する。

【００２２】（１）トリハロメチル基が置換した下記一
般式（Ｉ）で表されるオキサゾール誘導体または一般式
（ＩＩ）で表されるＳ−トリアジン誘導体。

【００２３】

【化１】

【００２４】式中、Ｒ¹ は置換もしくは未置換のアリー
ル基もしくはアルケニル基、Ｒ² は置換もしくは未置換
のアリール基、アルケニル基もしくはアルキル基、もし
くは−ＣＹ₃を示す。Ｙは塩素原子または臭素原子を示
す。具体的には以下の化合物を挙げることができるがこ
れに限定されるものではない。

【００２５】

【化２】

【００２６】

【化３】

【００２７】

【化４】

【００２８】（２）下記の一般式（ＩＩＩ）で表される
ヨードニウム塩、または一般式（ＩＶ）で表されるスル
ホニウム塩。

【００２９】

【化５】

【００３０】ここでＡｒ¹ 、Ａｒ² は各々独立に置換も
しくは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基とし
ては、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシ
ル基、アルコキシカルボニル基、ヒロドキシ基、メルカ
プト基およびハロゲン原子が挙げられる。Ｒ³，Ｒ⁴，Ｒ
⁵は各々独立に、置換もしくは未置換のアルキル基、も
しくはアリール基を示す。好ましくは炭素数６〜１４の
アリール基、炭素数１〜８のアルキル基およびそれらの
置換誘導体である。好ましい置換基としては、アリール
基に対しては炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数１〜
８のアルキル基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒロドキ
シ基およびハロゲン原子であり、アルキル基に対しては
炭素数１〜８のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコ
シキカルボニル基である。Ｚ^-は対アニオンを示し、た
とえはＢＦ₄ ^-、ＡｓＦ6^-、ＰＦ6^-、ＳｂＦ6^-、Ｓｉ
Ｆ₆ ^-、ＣｌＯ₄ ^-、ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-、ＢＰｈ₄ ^-、ナフタレン
−１−スルホン酸アニオン等の縮合多核芳香族スルホン
酸アニオン、アントラキノンスルホン酸アニオン、スル
ホン酸基含有染料等を挙げることができるがこれらに限
定されるものではない。またＲ³，Ｒ⁴，Ｒ⁵ のうちの２
つおよびＡｒ¹ 、Ａｒ² はそれぞれの単結合または置
換基を介して結合してもよい。具体例としては以下に示
す化合物が挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。

【００３１】

【化６】

【００３２】

【化７】

【００３３】

【化８】

【００３４】

【化９】

【００３５】

【化１０】

【００３６】

【化１１】

【００３７】

【化１２】

【００３８】

【化１３】

【００３９】

【化１４】

【００４０】

【化１５】

【００４１】

【化１６】

【００４２】

【化１７】

【００４３】一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）で示される上
記オニウム塩は公知であり、たとえばJ.W.Knapczyk eta
l,J.Am.Chem.Soc.,91,145(1969)、A.L.Maycok etal,J.O
rg.Chem.,35,2532,(1970)、E.Goethas etal ,Bull.Soc.
Chem.Belg.,73,546,(1964)、H.M.Leicester、J.Ame.Che
m.Soc.,51,3587(1929)、J.V.Crivello etal,J.Polym.Ch
em.Ed.,18,2677(1980) 、米国特許第2,807,648 号およ
び同4,247,473号、特開昭53-101,331号等に記載の方法
により合成することができる。

【００４４】（３）下記一般式（Ｖ）で表されるジスル
ホン誘導体または一般式（ＶＩ）で表されるイミドスル
ホネート誘導体。

【００４５】

【化１８】

【００４６】式中Ａｒ³、Ａｒ⁴ は各々独立に置換もし
くは未置換のアリール基を示す。Ｒ⁶は置換もしくは未
置換のアルキル基、もしくはアリール基を示す。Ａは置
換もしくは未置換のアルキレン基、アルケニルン基、も
しくはアリーレン基を示す。具体例としては以下に示す
化合物が挙げられるが、これに限定されるものではな
い。

【００４７】

【化１９】

【００４８】

【化２０】

【００４９】

【化２１】

【００５０】

【化２２】

【００５１】

【化２３】

【００５２】本発明の組成物に於いて、前記酸発生剤は
全固形分中の０．０１〜２０重量％、好ましくは０．３
〜１０％、更に好ましくは１〜５％の範囲で用いる。酸
発生剤の量が少なすぎる場合には高感度が得られず、更
に画像の膜減りが増加して形状が悪化する。多すぎる場
合には現像残りが増加したり、画像の断面形状が逆台形
を呈したりするので好ましくない。また用いようとする
光酸発生剤の吸収波長が露光波長と充分重なっているこ
とが望ましいが、これがうまく合致しない場合には、種
々の分光増感剤の添加によってこれを補うことができ
る。このような方法の具体例は例えば、特開平３−８７
７４８号公報、米国特許４１０２０１号、欧州特許４２
２５７０Ａ号公報などに開示されている。

【００５３】成分（ｃ）：酸硬化性化合物本発明の酸硬化性化合物としては、酸触媒のもとで、あ
るいは加熱との併用で架橋、または重合反応によりノボ
ラック樹脂のアルカリへの溶解性を減ずる化合物を包含
している。このような化合物の典型的なものの一つはフ
ォルムアルデヒドプレカーサーとしてのメチロール基、
あるいは置換されたメチロール基を有する化合物であ
り、下記一般式で表される構造を含むものである。

【００５４】（Ｒ⁷Ｏ−ＣＨ₂）n−Ａ−（ＣＨ₂−ＯＲ⁸）m 上記式中、Ａは式ＢまたはＢ−Ｙ−Ｂで示される基であ
り、Ｂは置換、もしくは非置換の単核、もしくは縮合多
核方向族炭化水素または酸素、硫黄、窒素含有の複素環
化合物を意味する。Ｙは単結合、またはＣ₁〜Ｃ₄のアル
キレン、置換アルキレン、アリーレン、置換アリーレ
ン、アリールアルキレン、もしくは−Ｏ−、−Ｓ−、−
ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、−Ｃ
ＯＮＨ−結合、及びこれらの結合を一部に有するような
置換、または非置換のアルキレン基を意味する。またＹ
はフェノール樹脂のような重合体であってもよい。
Ｒ⁷、及びＲ⁸は、互いに同一、または別個のＨ、Ｃ₁〜
Ｃ₄のアルキル、シクロアルキル、置換もしくは非置換
のアリール、アルカリール、アリールアルキル、または
アシル基を意味する。n は１〜３、m は０〜３の範囲で
ある。

【００５５】このような化合物の具体例としては様々な
アミノブラスト類またはフェノブラスト類、即ち尿素−
フォルムアルデヒド、メラミン−フォルムアルデヒド、
ベンゾグアナミン−フォルムアルデヒド、グリコールウ
リル−フォルムアルデヒド樹脂やそれらの単量体、もし
くはオリゴマーがある。これらは、塗料用のベヒクルな
どの用途に多く製造者のものが市販されている。例え
ば、アメリカンサイアナミッド社が製造するＣｙｍｅｌ
（登録商標）３００、３０１、３０３、３５０、３７
０、３８０、１１１６、１１３０、１１２３、１１２
５、１１７０など、あるいは三和ケミカル社製ニカラッ
ク（登録商標）Ｍｗ３０、Ｍｘ４５、Ｂｘ４０００など
のシリーズをその典型例として上げることができる。こ
れらは１種類でも２種以上を組み合わせて用いてもよ
い。

【００５６】また別な具体例としては、フォルムアルデ
ヒドプレカーサーとなり得るようなメチロール化または
アルコキシメチル化されたフェノール誘導体がある。こ
れらは単量体として用いても、レゾール樹脂、ベンジル
エーテル樹脂のように樹脂化されたものを用いてもよ
い。

【００５７】また酸硬化性化合物の別な系統として、シ
ラノール基を有する化合物、例えば特開平２−１５４２
６６号公報、同２−１７３６４７号公報に開示されてい
るような化合物を用いることもできる。

【００５８】本発明の組成物中で、これらの酸硬化性化
合物は全固形物中の１〜６０重量％、好ましくは３〜４
０％、更に好ましくは１０〜３０％の割合で用いる。

【００５９】成分（ｄ）：加熱により塩基を発生する
化合物本発明の成分（ｄ）は、加熱により塩基を発生する化合
物であり、加熱温度としては５０℃以上、む好ましくは
７０℃以上、更に好ましくは９０℃以上である。具体的
には、本発明の好ましい実施態様においては、下記一般
式（ＶＩＩ），（ＶＩＩＩ）及び（ＩＸ）で示される化
合物を挙げることができる。

【００６０】

【化２４】

【００６１】式中、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹及びＲ¹²は、同一
でも異なっていてもよく、水素原子、アルキルもしくは
アリール基を示す。

【００６２】アルキル基としては、直鎖、分枝または環
状のものであり、好ましくは炭素原子数が１〜８個のも
のである。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、イソプロピル
基、イソブチル基、２−エチルヘキシル基等が含まれ
る。これらのアルキル基に、例えば塩素原子のようなハ
ロゲン原子、例えばメトキシ基のような炭素原子数１〜
６個のアルコキシ基、例えばフエニル基のようなアリー
ル基、例えばフエノキシ基のようなアリールオキシ基等
の置換したものも含まれ、具体的には、モノクロロメチ
ル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモ
メチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、
２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、フエニ
ルメチル基もしくはフエノキシメチル基等を挙げること
ができる。

【００６３】アリール基としては、単環あるいは２環の
ものが好ましく、例えばフエニル基、α−ナフチル基、
β−ナフチル基等が挙げられる。これらのアリール基
に、例えばメチル基、エチル基等の炭素原子数１〜６個
のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基等の炭素
元素数１〜６個のアルコキシ基、例えば塩素原子等のハ
ロゲン原子、ニトロ基、フエニル基、シアノ基等が置換
したものも含まれ、具体的には、４−クロロフエニル
基、２−クロロフエニル基、４−ブロモフエニル基、４
−ニトロフエニル基、４−フエニルフエニル基、４−メ
チルフエニル基、２−メチルフエニル基、４−エチルフ
エニル基、４−メトキシフエニル基、２−メトキシフエ
ニル基、４−エトキシフエニル基、４−シアノフエニル
基、４−メチル−１−ナフチル基、４−クロロ−１−ナ
フチル基、５−ニトロ−１−ナフチル基、６−クロロ−
２−ナフチル基、もしくは４−ブロモ−２−ナフチル基
等を挙げることができる。

【００６４】Ｒ¹³、Ｒ¹⁴及びＲ¹⁵は、同一でも異なって
いてもよく、水素原子、アルキル基、アリール基、アル
ケニル基、もしくはアシル基を示す。

【００６５】アルキル基、アリール基としては段落［０
０６２］及び［００６３］において記載したものと同一
のものを使用することができる。

【００６６】アルケニル基は例えばビニル基であり、置
換アルケニル基は、ビニル基に例えばメチル基のような
アルキル基、例えばフエニル基のようなアリール基等の
置換した物が含まれ、具体的には１−メチルビニル基、
２−メチルビニル基、１，２−ジメチルビニル基、２−
フエニルビニル基、２−（ｐ−メチルフエニル）ビニル
基、２−（ｐ−メトキシフエニル）ビニル基、２−（ｏ
−クロロフエニル）ビニル基、２−（ｏ−クロロフエニ
ル）ビニル基等を挙げることができる。

【００６７】アシル基としては、Ｒ¹⁷−Ｃ（＝Ｏ）−も
しくはＡｒ⁵−Ｃ（＝Ｏ）−で示される基であり、Ｒ¹⁷
は炭素原子数１〜２０個のアルキル基を示し、Ａｒ⁵は
炭素原子数６〜１５個のアリール基を示す。また、これ
らの基に、ハロゲン原子、アルコキシ基、ニトロ基もし
くはシアノ基等が置換したものも含まれる。Ｒ¹⁶は水素
原子、アルキル基もしくはアリール基を示し、好ましく
は水素原子、炭素素原子数１〜８個のアルキル基、炭素
原子数６〜１５個のアリール基であり、具体的には、ア
ルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、オクチル基、イソプルピル基、イ
ソブチル基、２−エチルヘキシル基等が含まれる。アリ
ール基としては、フエニル基、α−ナフチル基、β−ナ
フチル基等が挙げられる。

【００６８】Ｘは炭素より電子陰性度の大きい原子から
成る基であり、いわゆる電子吸引性基である。具体的に
は、フルオロ、クロロ、ブロモ等のハロゲン原子、ニト
ロ、ニトロソ、スルホキシド、スルホン、シアノ、アリ
ール、アルケニル、アルキニル等の基が含まれる。

【００６９】Ｂ₀は１級、２級もしくは３級の脂肪族、
芳香族もしくは複素環アミン化合物を示す。即ち、式
（ＩＸ）はこのようなアミンのカルボン酸塩を表すもの
である。

【００７０】ｎは１〜３の整数を示す。

【００７１】また、Ｒ⁹とＲ¹⁰、Ｒ¹¹とＲ¹²、もしくは
Ｒ¹³・Ｒ¹⁴・Ｒ¹⁵の内の２つの基が結合して環を形成し
てもよい。以下に、本発明に使用される成分（ｄ）の具
体例を挙げるが、本発明に使用できる化合物はこれらに
限定されるものではない。

【００７２】

【化２５】

【００７３】

【化２６】

【００７４】

【化２７】

【００７５】本発明の感光性組成物において、成分
（ｄ）の含有量は、前記成分（ｂ）に対して、モル比
で、１／１０００〜１０、好ましくは１／１００〜１、
更に好ましくは１／２０〜１／２である。

【００７６】その他の好ましい成分本発明のネガ型感光性組成物には必要に応じて、更に染
料、顔料、可塑剤、もしくは光分解効率を増大させる化
合物（いわゆる増感剤）等を含有させることができる。
このような増感剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、９−フルオ
レノン、２−クロロ−９−フルオレノン、２−メチル−
９−フルオレノン、９−アントロン、２−ブロモ−９−
アントロン、２−エチル−９−アントロン、９，１０−
アントラキノン、２−エチル−９，１０−アントラキノ
ン、２−ｔ−ブチル−９，１０−アントラキノン、２，
６−ジクロロ−９，１０−アントラキノン、キサント
ン、２−メチルキサントン、２−メトキシキサントン、
チオキサントン、ベンジル、ジベンザルアセトン、ｐ−
（ジメチルアミノ）フエニルスチリルケトン、ｐ−（ジ
メチルアミノ）フエニル−ｐ−メチルスチリルケトン、
ベンゾフエノン、ｐ−（ジメチルアミノ）ベンゾフエノ
ン、ｐ−（ジエチルアミノ）ベンゾフエノン、ベンズア
ントロン等を挙げることができる。これらの化合物の
内、ｐ−（ジメチルアミノ）ベンゾフエノンを用いた場
合が特に好ましい。

【００７７】更に、本発明における好ましい増感剤とし
ては、特公昭５１−４８５１６に記載されている下記一
般式（Ｘ）で表される化合物が挙げられる。

【００７８】

【化２８】

【００７９】式中、Ｒ¹⁸はアルキル基（例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基など）、または置換アルキル
基（例えば、２−ヒドロキシエチル基、２−メトキシエ
チル基、カルボキシメチル基、２−カルボキシエチル基
など）を表わす。Ｒ¹⁹はアルキル基（例えば、メチル
基、エチル基など）、またはアリール基（例えば、フェ
ニル基、ｐ−ヒドロキシフェニル基、ナフチル基、チエ
ニル基など）を表わす。

【００８０】Ｄは通常シアニン色素で用いられる窒素を
含む複素環核を形成するのに必要な非金属原子群、例え
ば、ベンゾチアゾール類（ベンゾチアゾール、５−クロ
ロベンゾチアゾール、６−クロロベンゾチアゾールな
ど）、ナフトチアゾール類（α−ナフトチアゾール、β
−ナフトチアゾールなど）、ベンゾセレナゾール類（ベ
ンゾセレナゾール、５−クロロベンゾセレナゾール、６
−メトキシベンゾセレナゾールなど）、ナフトセレナゾ
ール類（α−ナフトセレナゾール、β−ナフトセレナゾ
ールなど）、ベンゾオキサゾール類（ベンゾオキサゾー
ル、５−メチルベンゾオキサゾール、５−フェニルベン
ゾオキサゾールなど）、ナフトオキサゾール類（α−ナ
フトオキサゾール、β−ナフトオキサゾールなど）を表
わす。

【００８１】一般式(Ｘ)で表わされる化合物の具体例と
しては、これらＤ、Ｒ¹⁸およびＲ¹⁹を組合せた化学構造
を有するものであり、多くのものが公知物質として存在
する。従って、これら公知のものから適宜選択して使用
することができる。更に、本発明における好ましい増感
剤としては、米国特許第4,062,686 号記載の増感剤、例
えば、２−〔ビス（２−フロイル）メチレン〕−３−メ
チルベンゾチアゾリン、２−〔ビス（２−チエノイル）
メチレン〕−３−メチルベンゾチアゾリン、２−〔ビス
（２−フロイル）メチレン〕−３−メチルナフト〔１，
２−ｄ〕チアゾリンなどが挙げられる。

【００８２】また、着色剤として染料を用いることがで
きるが、好適な染料としては油溶性染料及び塩基性染料
がある。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイル
イエロー＃１３０、オイルピンク＃３１２、オイルグリ
ーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０
３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイル
ブラックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業株式会
社製）クリスタルバイオレット（CI42555)、メチルバイ
オレット（CI42535)、ローダミンＢ（CI45170B)、マラ
カイトグリーン（CI42000)、メチレンブルー（CI52015)
などをあげることができる。

【００８３】本発明の組成物中には更に現像液への溶解
促進など、感度調節、及びその他の特性改良のために、
低分子の芳香族ポリヒドロキシ化合物を含有させること
ができる。このようなポリヒドロキシ化合物としてはナ
フトキノンジアジド・ノボラック樹脂からなるポジ型フ
オトレジストの溶解促進用添加剤として知られている数
多くの化合物がそのまま適用できる。但し、通常の溶解
促進効果の範囲では増感効果と膜減りとが同時に起こる
ことが多いので、レジスト組成に合わせ、ポリヒドロキ
シ化合物自身のアルカリ溶解性の最適なものを組み合わ
せるなどして、このような問題点の最も少ないものを選
ぶ。

【００８４】本発明の組成物中には、更に感度を高める
ために環状酸無水物、露光後直ちに可視像を得るための
焼出し剤、その他のフィラーなどを加えることができ
る。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128 号明細
書に記載されているように無水フタル酸、テトラヒドロ
無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エ
ンドオキシ−Δ⁴−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラ
クロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレ
イン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、
ピロメリット酸等がある。これらの環状酸無水物を全組
成物中の固形分に対して１から１５重量％含有させるこ
とによって感度を最大３倍程度に高めることができる。
露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光
によって酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有
機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体
的には特開昭５０−３６２０９号公報、特開昭５３−８
１２８号公報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジ
ド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成有機染料の組合
せや特開昭５３−３６２２３号公報、特開昭５４−７４
７２８号公報に記載されているトリハロメチル化合物と
塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。

【００８５】（溶媒）本発明のネガ型感光性組成物を、
半導体等のレジスト材料用として使用する場合は、溶媒
に溶解したままで使用する。ここで使用する溶媒として
は、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メト
キシ−２−プロパノール、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、２−メトキシエチルアセテート、２−エト
キシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルア
セテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロ
ラクトン、トルエン、酢酸エチルなどがあり、これらの
溶媒を単独あるいは混合して使用する。そして上記成分
中の濃度（添加物を含む全固形分）は、２〜５０重量％
である。

【００８６】（活性光線または放射線）本発明の感光性
組成物の露光に用いられる活性光線の光源としては例え
ば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯などがある。放射線
としては電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠紫外線などが
ある。好ましくはフォトレジスト用の光源として、ｇ
線、ｉ線、Deep-UV 光が使用される。また高密度エネル
ギービーム（レーザービーム又は電子線）による走査又
はパルス露光も本発明の感光性組成物の露光に使用する
ことができる。このようなレーザービームとしてはヘリ
ウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトン
イオンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、 KrF
エキシマレーザーなどが挙げられる。

【００８７】（現像液）本発明のネガ型感光性組成物に
対する現像液としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第
三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタ
珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水など
のような無機アルカリ剤及びテトラアルキルアンモニウ
ムＯＨ塩などのような有機アルカリ剤の水溶液が適当で
あり、それらの濃度が0.１〜１０重量％、好ましくは0.
５〜５重量％になるように添加される。

【００８８】また、該アルカリ性水溶液には、必要に応
じ界面活性剤やアルコールなどのような有機溶媒を加え
ることもできる。以下に本発明をその実施例をもって説
明するが、無論本発明はこれらの実施例にのみ限定され
るべきものではない。

【００８９】

【実施例】

実施例１分子量が約６０００でメタ／パラ（ｍ／ｐ）仕込比が５
０／５０であるメタ−パラクレゾールノボラツク樹脂５
ｇと、酸架橋剤としてメチロール化メラミンを主成分と
するニカラツク（登録商標：三和ケミカル社製）Ｍｗ３
０を１．２５ｇ、、更に光酸発生剤としてジフエニルヨ
ードニウム・ＰＦ₆塩０．１５ｇ、更に増感剤としてア
ントラセン０．０１５ｇ、及び（ｄ−２）で示される化
合物０．０４ｇを１６．５ｇのエチルセロソルブアセテ
ートに溶解し、更に０．２μｍのミクロフイルターでこ
の液を濾過して、フオトレジスト組成物を調製した。こ
のフオトレジスト組成物をスピナーを用いて清浄なシリ
コンウエハー上に塗布し、９０℃のホツトプレート上で
６０秒間乾燥して、膜厚１μｍのレジスト膜を得た。こ
れを縮小投影露光装置（ｉ線、開口数０．４０）で解像
力マスクを通して露光量を段階的に変えて露光、次いで
１００℃のホツトプレートで１２０秒間加熱してから、
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）
２．４％水溶液で６０秒間現像し、更に３０秒間水洗し
てから乾燥した。この結果、残膜率９０％のネガ画像が
得られた。Ｅｔａ感度はおよそ７５ｍＪ／ｃｍ²であ
り、０．５μｍＬ／Ｓのパターンを解像した。

【００９０】実施例２〜７分子量が約７５００のｍ／ｐ＝６０／４０仕込比のメタ
ーパラクレゾールノボラツク樹脂５ｇと、実施例１の酸
架橋剤１．２５ｇ、（Ｖ−７）で示される構造を有する
ジスルホン化合物０．１５ｇ、及び表１に示した加熱に
より塩基を発生する化合物（本発明の成分（ｄ）に相
当）を乳酸エチル１６．５ｇに溶解し、更に０．２μｍ
のミクロフイルターでこの液を濾過して、フオトレジス
ト組成物を調製した。実施例１と同様に露光、加熱、及
び現像を行った。照射部分の現像後のレジストの残膜率
が９０％になる露光量をもつて感度を表示した。また、
この露光量で得られたウエハー上のレジストの微細パタ
ーンを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、レジスト
のパターンが基板面まで分離する最小の寸法で解像力を
評価した。ここで、露光後の処理条件の影響を調べるた
め、露光直後に現像した場合と、露光２時間後に現像し
た場合の感度比を測定したところ、表１に示すような結
果が得られた。なお、比較例として、本発明の成分
（ｄ）を添加しないで、他は同様に、塗膜形成、露光、
加熱、現像処理を行った場合の結果を、併せて表１に示
した。

【００９１】

【表１】

【００９２】表１から判る様に、本発明の成分（ｄ）を
添加した系は、添加しない系に比べ、露光後経時による
感度変動が小さいことが判る。

【００９３】

【発明の効果】本発明のネガ型感光性組成物は、高感度
を有し、Deep-UV領域の短波長光源に対する適性があ
り、解像力に優れている。更に、露光後現像までの処理
工程の影響が小さい。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｌ 21/027

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（ａ）水に不溶でアルカリ水に可溶な樹
脂、（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化
合物、（ｃ）酸の作用により架橋し得る基を少なくとも１個有
する化合物、及び（ｄ）５０℃以上で塩基を発生する化合物、を含有することを特徴とするネガ型感光性組成物。