JP2011507304A - デルタドープされた活性領域を有する導波路装置 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (20)
- n型クラッド層と、
前記n型クラッド層に隣接して形成されるn型導波路層と、
前記n型導波路層に隣接して形成される活性領域と、
前記活性領域に隣接して形成されるp型導波路層と、
前記p型導波路層に隣接して形成されるp型クラッド層とを備えた半導体レーザー装置であって、
前記活性領域を横断するp型ドーパント濃度が、第1の位置での最小濃度から第2の位置での最大濃度へ増加するのと、前記活性領域を横断するn型ドーパント濃度が、第3の位置での最大濃度から第4の位置での最小濃度に減少するのとの少なくとも一方の形でドープされる半導体レーザー装置。 - 前記第1の位置が、前記活性領域と前記n型導波路層との間の境界面にあり、前記第2の位置が、前記活性領域と前記p型導波路層との間の境界面にあり、前記第3の位置が、前記活性領域と前記n型導波路層との間の境界面にあり、前記第4の位置が、前記活性領域と前記p型導波路層との間の境界面にある、請求項1に記載の装置。
- p型ドーパント濃度が、前記n型クラッド層および前記n型導波路層のうちの一層の少なくとも一部分で最小濃度から、前記活性領域を横断して、前記p型導波路層および前記p型クラッド層のうちの一層の少なくとも一部分で最大濃度へ増加するような形でドープされるのと、n型ドーパント濃度が、前記n型クラッド層および前記n型導波路層のうちの一層の少なくとも一部分で最大濃度から、前記活性領域を横断して、前記p型導波路層および前記p型クラッド層のうちの一層の少なくとも一部分で最小濃度へ減少するような形でドープされるのとの少なくとも一方の形でドープされる、請求項1に記載の装置。
- 前記第1の位置が前記n型導波路層内にあり、前記第2の位置が前記p型導波路層内にあり、前記第3の位置が前記n型導波路層内にあり、前記第4の位置が前記p型導波路層内にある、請求項1に記載の装置。
- 前記第1の位置が前記n型クラッド層内にあり、前記第2の位置が前記p型クラッド層内にあり、かつ前記第3の位置が前記n型クラッド層内にあり、前記第4の位置が前記p型クラッド層内にある、請求項1に記載の装置。
- 前記活性領域が、前記活性領域と前記n型導波路層との間の前記境界面でドープされない部分と、前記活性領域と前記p型導波路層との間の前記境界面でドープされない部分とのうちの少なくとも一方を含み、前記ドープされない部分が、p型ドーパントまたはn型ドーパントを含まない、請求項1に記載の装置。
- 前記p型ドーパント濃度が、前記第1の位置で、約3.0×1018〜約1.5×1019原子毎立方センチメートル(原子/cc)の範囲内で最大濃度を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記n型ドーパント濃度が、前記第3の位置で、約3.0×1018〜約1.5×1019原子毎立方センチメートル(原子/cc)の範囲で最大濃度を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記p型ドーパントがマグネシウム(Mg)を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記n型ドーパントがシリコン(Si)を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記活性領域がインジウム窒化ガリウム(InGaN)であり、前記p型導波路層および前記n型導波路層が窒化ガリウム(GaN)であり、前記p型クラッド層および前記n型クラッド層がアルミニウム窒化ガリウム(AlGaN)である、請求項1に記載の装置。
- 半導体レーザー装置を製造する方法であって、
n型クラッド層を形成するステップと、
前記n型クラッド層に隣接してn型導波路層を形成するステップと、
前記n型導波路層に隣接して活性領域を形成するステップと、
前記活性領域に隣接してp型導波路層を形成するステップと、
前記p型導波路層に隣接してp型クラッド層を形成するステップとを含み、
前記活性領域を横断するp型ドーパント濃度が、第1の位置での最小濃度から第2の位置での最大濃度に増加するのと、前記活性領域を横断するn型ドーパント濃度が、第3の位置の最大濃度から第4の位置での最小濃度へ減少するのとの少なくとも一方の形で、ドープ濃度が、前記各形成ステップのうちの少なくとも1ステップで調整される方法。 - 前記活性領域を形成するステップ中に、前記第1の位置が、前記活性領域と前記n型導波路層との間の境界面であり、前記第2の位置が、前記活性領域と前記p型導波路層との間の境界面であり、前記第3の位置が、前記活性領域と前記n型導波路層との間の前記境界面であり、前記第4の位置が、前記活性領域と前記p型導波路層との間の前記境界面であるような形で、ドーピング濃度が調整される、請求項12に記載の方法。
- 前記活性領域を形成するステップおよび前記導波路領域を形成する各ステップ中に、前記第1の位置が前記n型導波路層内にあり、前記第2の位置が前記p型導波路層内にあり、前記第3の位置が前記n型導波路層内にあり、前記第4の位置が前記p型導波路層内にあるような形で、ドーピング濃度が調整される、請求項12に記載の方法。
- 前記活性領域を形成するステップ、前記導波路領域を形成する各ステップ、および前記クラッド領域を形成する各ステップ中に、前記第1の位置が前記n型クラッド層内にあり、前記第2の位置が前記p型クラッド層内にあり、前記第3の位置が前記n型クラッド層内にあり、前記第4の位置が前記p型クラッド層内にあるような形で、ドーピング濃度が調整される、請求項12に記載の方法。
- 前記活性領域を形成するステップが、前記活性領域と前記n型導波路層との間の前記境界面でドープされない部分と、前記活性領域と前記p型導波路層との間の前記境界面でドープされない部分とのうち少なくとも一方を形成するステップを含み、前記ドープされない部分が、p型ドーパントまたはn型ドーパントを含まない、請求項12に記載の方法。
- 前記p型ドーパントがマグネシウム(Mg)を含み、前記n型ドーパントがシリコン(Si)を含む、請求項12に記載の方法。
- 前記活性領域がインジウム窒化ガリウム(InGaN)であり、前記p型導波路層および前記n型導波路層が窒化ガリウム(GaN)であり、前記p型クラッド層および前記n型クラッド層がアルミニウム窒化ガリウム(AlGaN)である、請求項12に記載の方法。
- n型クラッド層と、
前記n型クラッド層に隣接して形成されるn型導波路層と、
前記n型導波路層に隣接して形成される活性領域と、
前記活性領域に隣接して形成されるp型導波路層と、
前記p型導波路層に隣接して形成されるp型クラッド層とを備えた、レーザー光を光記憶媒体へ向けるように構成された半導体レーザーの光源を備え、
前記活性領域を横断するp型ドーパント濃度が、第1の位置での最小濃度から第2の位置での最大濃度まで増加するのと、前記活性領域を横断するn型ドーパント濃度が、第3の位置での最大濃度から第4の位置での最小濃度への減少するのとの少なくとも一方の形で、前記半導体レーザーの光源がドープされる、光学記憶装置であって、さらに
前記光記憶媒体から反射した光を受光するように構成された受光器であって、
前記光記憶媒体から反射した前記光が、前記光記憶媒体の上に保存された情報を表す受光器を、
備えた光学記憶装置。 - p型ドーパント濃度が、前記n型クラッド層および前記n型導波路層のうちの一層の少なくとも一部分で最小濃度から、前記活性領域を横断して、前記p型導波路層および前記p型クラッド層のうちの一層の少なくとも一部分で最大濃度へ増加するような形でドープされるのと、n型ドーパント濃度が、前記n型クラッド層および前記n型導波路層のうちの一層の少なくとも一部分で最大濃度から、前記活性領域を横断して、前記p型導波路層および前記p型クラッド層のうちの一層の少なくとも一部分で最小濃度へ減少するような形でドープされるのとの少なくとも一方の形で、前記半導体レーザーの光源がドープされる、請求項19に記載の装置。
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US10971652B2 (en) * | 2017-01-26 | 2021-04-06 | Epistar Corporation | Semiconductor device comprising electron blocking layers |
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US11228160B2 (en) * | 2018-11-15 | 2022-01-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | AlGaInPAs-based semiconductor laser device and method for producing same |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000068611A (ja) * | 1998-08-07 | 2000-03-03 | Lucent Technol Inc | 選択ド―プされた障壁を有する多量子井戸レ―ザ |
JP2000277868A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Sanyo Electric Co Ltd | 発光素子 |
WO2001041224A2 (en) * | 1999-12-02 | 2001-06-07 | Cree Lighting Company | High efficiency light emitters with reduced polarization-induced charges |
JP2001267693A (ja) * | 2000-03-17 | 2001-09-28 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体レーザ素子 |
JP2004146420A (ja) * | 2002-10-22 | 2004-05-20 | Sharp Corp | 窒化物半導体レーザ素子、その製造方法及びそれを備えた半導体光学装置 |
JP2005217415A (ja) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Lumileds Lighting Us Llc | 分極電界が減少されたiii族窒化物発光デバイス |
JP2005235276A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Tdk Corp | 光ヘッド、光再生装置及び光記録再生装置 |
WO2006134717A1 (ja) * | 2005-06-16 | 2006-12-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | 窒化物半導体レーザ装置およびその製造方法 |
JP2007165344A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Sharp Corp | 窒化物半導体レーザ素子およびその製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4980892A (en) * | 1989-05-30 | 1990-12-25 | At&T Bell Laboratories | Optical system including wavelength-tunable semiconductor laser |
US5448585A (en) | 1994-06-29 | 1995-09-05 | At&T Ipm Corp. | Article comprising a quantum well laser |
EP0772247B1 (en) * | 1994-07-21 | 2004-09-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor light-emitting device and production method thereof |
JP3438648B2 (ja) * | 1999-05-17 | 2003-08-18 | 松下電器産業株式会社 | 窒化物半導体素子 |
JP3719047B2 (ja) * | 1999-06-07 | 2005-11-24 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体素子 |
MY139533A (en) * | 2001-11-05 | 2009-10-30 | Nichia Corp | Nitride semiconductor device |
US6954473B2 (en) * | 2002-10-25 | 2005-10-11 | Opel, Inc. | Optoelectronic device employing at least one semiconductor heterojunction thyristor for producing variable electrical/optical delay |
US6853014B2 (en) * | 2002-10-25 | 2005-02-08 | The University Of Connecticut | Optoelectronic circuit employing a heterojunction thyristor device that performs high speed sampling |
KR100958054B1 (ko) * | 2003-03-08 | 2010-05-13 | 삼성전자주식회사 | 반도체 레이저 다이오드의 서브 마운트, 그 제조방법 및이를 채용한 반도체 레이저 다이오드 조립체 |
US6917739B2 (en) * | 2003-03-27 | 2005-07-12 | Agilent Technologies, Inc. | Optical cache memory |
-
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Patent Citations (9)
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JP2000068611A (ja) * | 1998-08-07 | 2000-03-03 | Lucent Technol Inc | 選択ド―プされた障壁を有する多量子井戸レ―ザ |
JP2000277868A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Sanyo Electric Co Ltd | 発光素子 |
WO2001041224A2 (en) * | 1999-12-02 | 2001-06-07 | Cree Lighting Company | High efficiency light emitters with reduced polarization-induced charges |
JP2001267693A (ja) * | 2000-03-17 | 2001-09-28 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体レーザ素子 |
JP2004146420A (ja) * | 2002-10-22 | 2004-05-20 | Sharp Corp | 窒化物半導体レーザ素子、その製造方法及びそれを備えた半導体光学装置 |
JP2005217415A (ja) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Lumileds Lighting Us Llc | 分極電界が減少されたiii族窒化物発光デバイス |
JP2005235276A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Tdk Corp | 光ヘッド、光再生装置及び光記録再生装置 |
WO2006134717A1 (ja) * | 2005-06-16 | 2006-12-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | 窒化物半導体レーザ装置およびその製造方法 |
JP2007165344A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Sharp Corp | 窒化物半導体レーザ素子およびその製造方法 |
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