JP2005217415A - 分極電界が減少されたiii族窒化物発光デバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 半導体発光デバイスは、2つのスペーサ層間に挟持された発光層を含む。少なくとも1つのスペーサ層の有効分極と発光層の有効分極との差は、GaNスペーサ層のような通常のスペーサ層を有するデバイスより小さい。少なくとも1つのスペーサ層の有効分極と発光層の有効分極との差は、約0.02C/m2より小さい。或る実施形態においては、少なくとも1つのスペーサ層は、アルミニウム、インジウム、ガリウム及び窒素の四元合金である。
【選択図】 図2
Description
詳細に本発明を説明したが、当業者は、本開示を考慮すれば、本明細書に記載の発明概念の趣旨から逸脱することなく、本発明に対して変更が可能であることを理解する。そのため、本発明の範囲は、示され、説明された特定の実施形態に限定されることを意図しない。
21:n型領域
22:n型スペーサ層
23:活性領域
24:p型スペーサ層
25:p型領域
26:p接触部
27:n接触部
Claims (41)
- 半導体発光デバイスであって、
第1及び第2スペーサ層と、
前記第1及び第2スペーサ層間に挟持された発光層と、
を備え、少なくとも1つの前記スペーサ層の有効分極と前記発光層の有効分極との差は、GaNの有効分極と発光層の有効分極との差より小さく、前記少なくとも1つのスペーサ層の有効分極と前記発光層の有効分極との差は、0.02C/m2より小さいことを特徴とするデバイス。 - 前記発光層は、少なくとも1つのInGaN層を含むことを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つのスペーサ層の有効分極と前記発光層の有効分極との間の差が、0.01C/m2より小さいことを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つのスペーサ層の有効分極と前記発光層の有効分極との間の差が、0.005C/m2より小さいことを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つのスペーサ層の有効分極と前記発光層の有効分極との間の差が、約0C/m2であることを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つのスペーサ層のバンドギャップと前記発光層のバンドギャップとの差が、0.1eVより大きいことを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つのスペーサ層のバンドギャップと前記発光層のバンドギャップとの差が、0.2eVより大きいことを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
- 前記発光層が、In0.05Ga0.95N〜In0.15Ga0.85Nの組成をもつ少なくとも1つのInGaN層を含むことを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つのスペーサ層が、アルミニウム、インジウム、ガリウム、及び窒素の四元合金であり、前記四元合金スペーサ層中のアルミニウム組成が、20%より大きいか又は20%に等しいことを特徴とする請求項9に記載のデバイス。
- 前記四元合金スペーサ層中のインジウム組成が、22%より大きいか又は22%に等しいことを特徴とする請求項10に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つのスペーサ層が、アルミニウム、インジウム、ガリウム、及び窒素の四元合金であることを特徴とする請求項9に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つのスペーサ層が、アルミニウム、インジウム、ガリウム、及び窒素の四元合金であり、
前記四元合金スペーサ層中のアルミニウム組成が、ゼロより大きく、かつ20%より小さいか又は20%に等しく、
前記四元合金スペーサ層中のインジウム組成が、ゼロより大きく、かつ22%より小さいか又は20%に等しい、
ことを特徴とする請求項9に記載のデバイス。 - 前記発光層が、In0.15Ga0.85N〜In0.5Ga0.5Nの組成をもつ少なくとも1つのInGaN層を含むことを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つのスペーサ層が、アルミニウム、インジウム、ガリウム、及び窒素の四元合金であり、前記四元合金スペーサ層中のアルミニウム組成が、17%より大きいか又は17%に等しいことを特徴とする請求項14に記載のデバイス。
- 前記四元合金スペーサ層中のインジウム組成が、28%より大きいか又は28%に等しいことを特徴とする請求項15に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つのスペーサ層が、アルミニウム、インジウム、ガリウム、及び窒素の四元合金であることを特徴とする請求項14に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つのスペーサ層が、アルミニウム、インジウム、ガリウム、及び窒素の四元合金であり、
前記四元合金スペーサ層中のアルミニウム組成が、ゼロより大きく、かつ17%より小さいか又は17%に等しく、
前記四元合金スペーサ層中のインジウム組成が、ゼロより大きく、かつ28%より小さいか又は28%に等しい、
ことを特徴とする請求項14に記載のデバイス。 - 前記少なくとも1つのスペーサ層は、約200オングストローム〜約1000オングストロームの厚さを有することを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つのスペーサ層は、約200オングストローム〜前記スペーサ層の臨界厚さを有することを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
- 前記発光層の反対側の前記第1スペーサ層の表面に隣接するn型領域と、
前記発光層の反対側の前記第2スペーサ層の表面に隣接するp型領域と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のデバイス。 - 前記第1スペーサ層と前記n型領域との間の界面に隣接するn型材料が高濃度でドープされた領域をさらに備え、前記n型材料が高濃度でドープされた領域は、約1×1018cm-3〜約1×1020cm-3のドーパント濃度と、約10オングストローム〜約100オングストロームの厚さとを有することを特徴とする請求項21に記載のデバイス。
- 前記n型材料が高濃度でドープされた領域は、約5×1019cm-3〜約1×1020cm-3のドーパント濃度を有することを特徴とする請求項22に記載のデバイス。
- 前記n型材料が高濃度でドープされた領域は、前記第1スペーサ層内に配置されることを特徴とする請求項22に記載のデバイス。
- 前記n型材料が高濃度でドープされた領域は、前記n型領域内に配置されることを特徴とする請求項22に記載のデバイス。
- 前記第2スペーサ層と前記p型領域との間の界面に隣接するp型材料が高濃度でドープされた領域をさらに備え、前記p型材料が高濃度でドープされた領域は、約1×1018cm-3〜約1×1020cm-3のドーパント濃度と、約10オングストローム〜約100オングストロームの厚さとを有することを特徴とする請求項21に記載のデバイス。
- 前記p型材料が高濃度でドープされた領域は、約5×1019cm-3〜約1×1020cm-3のドーパント濃度を有することを特徴とする請求項26に記載のデバイス。
- 前記p型材料が高濃度でドープされた領域は、前記第2スペーサ層内に配置されることを特徴とする請求項26に記載のデバイス。
- 前記p型材料が高濃度でドープされた領域は、前記p型領域内に配置されることを特徴とする請求項26に記載のデバイス。
- 前記発光層が第1量子井戸であり、前記デバイスがさらに、第2量子井戸、及び前記第1量子井戸と前記第2量子井戸との間に配置された障壁層を備えることを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
- 前記障壁層の有効分極が、GaNの有効分極より小さく、前記障壁層の有効分極と前記少なくとも1つの量子井戸の有効分極との差が、0.02C/m2より小さいことを特徴とする請求項30に記載のデバイス。
- 前記障壁層の有効分極と前記少なくとも1つの量子井戸の有効分極との差が、0.01C/m2より小さいことを特徴とする請求項30に記載のデバイス。
- 前記障壁層の有効分極と前記少なくとも1つの量子井戸の有効分極との差が、0.005C/m2より小さいことを特徴とする請求項30に記載のデバイス。
- 前記障壁層の有効分極と前記少なくとも1つの量子井戸の有効分極との差が、約0C/m2であることを特徴とする請求項30に記載のデバイス。
- 半導体発光デバイスであって、
第1及び第2スペーサ層と、
前記第1及び第2スペーサ層間に挟持された発光層と、
を備え、前記活性領域は、第1量子井戸と、第2量子井戸と、前記第1量子井戸及び前記第2量子井戸の間に配置された障壁層とを備え、前記障壁層の有効分極と前記少なくとも1つの量子井戸の有効分極との差は、GaNの有効分極と少なくとも1つの量子井戸の有効分極との差より小さく、前記障壁層の有効分極と前記少なくとも1つ量子井戸の有効分極との差は、0.02C/m2より小さいことを特徴とするデバイス。 - 前記障壁層の有効分極と前記少なくとも1つの量子井戸の有効分極との差が、0.01C/m2より小さいことを特徴とする請求項37に記載のデバイス。
- 前記障壁層の有効分極と前記少なくとも1つの量子井戸の有効分極との差が、0.005C/m2より小さいことを特徴とする請求項37に記載のデバイス。
- 前記障壁層の有効分極と前記少なくとも1つの量子井戸の有効分極との差が、約0C/m2であることを特徴とする請求項37に記載のデバイス。
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