JP2011237820A - 再帰反射性フィルム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】カバー層40、プリズム層42、反射性層44、接着層46および保護ライナー48を含む再帰反射性フィルム30であって、プリズム層42は、その後表面上に形成された再帰反射性プリズムエレメントを有し、反射性層44は、該プリズムエレメントの後表面をカバーする。フィルム30は、少なくとも20%の伸び率を有し、刻印すること、浮き彫りにすること、または押圧することなどの常温加工プロセスに対応し得る。
【選択図】図2
Description
本発明は、基板に接着される場合に、常温加工ステップ(例えば、刻印するステップ、浮き彫りにするステップ、または押圧するステップ)に対応し得る再帰反射性フィルムを提供する。そのようにして、フィルムは、基板が英数字および/または他のしるしに対応する隆起したエリアを形成するように常温加工される再帰反射性の物品(例えば、ライセンスプレート)に組み込まれ得る。再帰反射性フィルムは、プリズム層を組み込み、それによって、特定の再帰反射性製品を開発する場合に、より広範囲な設計の柔軟性を可能にし、および/またはそれによって高度な再帰反射性能力を提供する。
例えば、本願発明は以下の項目を提供する。
(項目1)
平面エリア(12)と隆起したエリア(14)とを有する再帰反射性の物品(10)であって、該物品(10)は、基板(20)と該基板(20)の前表面に接着された後表面を有する再帰反射性フィルム(30)とを備え、
該基板(20)は、該平面エリア(12)に対応する平面エリア(22)と該隆起したエリア(14)に対応する隆起したエリア(24)とを有し、該再帰反射性フィルム(30)は、該平面エリア(12)に対応する平面エリア(32)と該隆起したエリア(14)とに対応する隆起したエリア(34)とを有し、
該再帰反射性フィルム(30)は、該反射性フィルム(30)の後表面上に形成された再帰反射性プリズムエレメント(60)を有するプリズム層(42)を備え、
該再帰反射性フィルム(30)は、少なくとも20%の伸び率を有し、
該基板(20)は、30%未満の可視光透過率を有し、および/または該プリズム層(42)の後部に位置している該フィルム(30)の層(44)は、30%未満の可視光透過率を有する、再帰反射性の物品(10)。
(項目2)
前記再帰反射性フィルム(30)は、少なくとも50%の伸び率を有する、項目1に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目3)
前記再帰反射性フィルム(30)は、少なくとも60%の伸び率を有する、項目1または項目2に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目4)
前記再帰反射性フィルム(30)は、少なくとも70%の伸び率を有する、項目1〜項目3に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目5)
前記隆起したエリア(24/34)は、前記平面(22/32)を基準にして約0.3
mmから約3mmの範囲の高さを有する、項目1〜項目4のいずれかに記載の帰反射性の物品(10)。
(項目6)
前記平面エリア(12)は、バックグランドを形成し、前記隆起したエリア(14)がしるしを形成している、項目1〜項目5のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目7)
前記しるしは、英数字を含む、項目1〜項目6のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目8)
ペイント(16)は、前記隆起したエリア(14)に塗布される、項目1〜項目7のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目9)
前記平面エリア(12)と前記ペイント(16)とは、異なる色である、項目1〜項目8のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目10)
前記基板(20)は、金属から造られている、項目1〜項目9のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目11)
前記基板(20)は、軟金属から造られている、項目1〜項目10のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目12)
前記基板(20)は、アルミニウムまたは銅または銀または金から造られている、項目1〜項目11のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目13)
前記基板(20)は、0.05mm〜5mmの範囲の厚さを有する、項目1〜項目12のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目14)
前記基板(20)は、30%未満の可視光透過率を有する、項目1〜項目13のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目15)
前記基板(20)は、25%未満の可視光透過率を有する、項目1〜項目14のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目16)
前記基板(20)は、20%未満の可視光透過率を有する、項目1〜項目15のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目17)
前記基板(20)は、10%未満の可視光透過率を有する、項目1〜項目16のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目18)
前記基板(20)は、実質的に不透明な材料から造られている、項目1〜項目17のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目19)
前記基板(20)は、実質的に不透明なアルミニウム板から造られている、項目1〜項目18のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目20)
前記基板(20)は、2mm以下の厚さを有する、項目1〜項目19のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目21)
前記物品(10)は、ライセンスプレートであり、前記隆起したエリア(14)が該プレートに特有であるライセンス番号しるしを形成している、項目1〜項目20のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目22)
前記再帰反射性フィルム(30)は、前記プリズム層(42)の後表面に隣接して位置している反射性層(44)を備えている、項目1〜項目21のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目23)
前記反射性層(44)は、反射性金属の層を含む、項目22に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目24)
前記反射性金属は、アルミニウムまたは銀または金または銅である、項目23に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目25)
前記金属は、前記再帰反射性エレメント(60)の表面上に蒸着される、項目23または項目24に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目26)
前記反射性層(44)の厚さは、0.02μmと0.125μmとの間にある、項目22〜項目25のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目27)
前記反射性層(44)は、30%未満の可視光透過率を有する、項目22〜項目26のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目28)
前記反射性層(44)は、25%未満の可視光透過率を有する、項目27に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目29)
前記反射性層(44)は、20%未満の可視光透過率を有する、項目28に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目30)
前記反射性層(44)は、10%未満の可視光透過率を有する、項目29に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目31)
前記プリズム再帰反射性エレメント(60)は、1つの頂点で出会う3つの相互に垂直である面を各々が有する一並びの立方体角エレメントを含む、項目1〜項目30のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目32)
前記プリズム再帰反射性エレメント(60)は、微小立方体を含む、項目31に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目33)
前記プリズム層(42)は、アクリル酸またはポリカーボネートから造られている、項目1〜項目32のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目34)
前記再帰反射性エレメント(60)は、35μm超の高さh element を有する、項目1〜項目33のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目35)
前記再帰反射性エレメント(60)は、75μm超の高さh element を有する、項目1〜項目34のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目36)
前記再帰反射性エレメント(60)は、100μm超の高さh element を有する、項目1〜項目35のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目37)
前記再帰反射性エレメント(60)は、150μm超の高さh element を有する、項目1〜項目36のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目38)
前記再帰反射性エレメント(60)は、200μm超の高さh element を有する、項目1〜項目37のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目39)
前記再帰反射性エレメント(60)は、250μm超の高さh element を有する、項目1〜項目38のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目40)
前記プリズム層(42)は、該プリズム層の前記前表面と前記再帰反射性プリズムエレメント(60)との間に達するサブレイヤ(64)を備えている、項目1〜項目39のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目41)
前記プリズム層(42)のサブレイヤ(64)は、55μm未満の厚さt sublayer を有する、項目40に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目42)
前記プリズム層(42)のサブレイヤ(64)は、50μm未満の厚さt sublayer を有する、項目41に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目43)
前記プリズム層(42)のサブレイヤ(64)は、45μm未満の厚さt sublayer を有する、項目42に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目44)
前記プリズム層(42)のサブレイヤ(64)は、40μm未満の厚さt sublayer を有する、項目43に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目45)
前記プリズム層(42)のサブレイヤ(64)は、35μm未満の厚さt sublayer を有する、項目44に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目46)
前記プリズム層(42)のサブレイヤ(64)は、30μm未満の厚さt sublayer を有する、項目45に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目47)
前記プリズム層(42)のサブレイヤ(64)は、25μm未満の厚さt sublayer を有する、項目46に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目48)
前記再帰反射性エレメント(60)は、115μm未満の高さh element を有し、前記サブレイヤ(64)は、50μmと25μmとの間の厚さt sublayer を有する、項目40〜項目47のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目49)
再帰反射性エレメント(60)は、115μm超の高さh element を有し、前記サブレイヤ(64)は、25μm未満の厚さt sublayer を有する、項目40〜項目47のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目50)
前記再帰反射性フィルム(30)は、日中の明るさを増すために前記プリズム層(42)の表面に事前印刷された非透明パターン(70)を有する、項目49に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目51)
前記パターン(70)は、前記プリズム層(42)の前表面(62)上に印刷されている、項目50に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目52)
前記再帰反射性フィルム(30)は、前記プリズムフィルム(42)の前面に位置するカバー層(40)を備えている、項目1〜項目51のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目53)
前記カバー層(40)は、熱可塑性樹脂および/または熱可塑性ポリマーから造られている、項目52に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目54)
前記カバー層(40)は、ビニルまたはポリウレタンから造られている、項目53に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目55)
前記カバー層(40)は、150μm超の厚さを有する、項目52〜項目54のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目56)
前記カバー層(40)は、180μm超の厚さを有する、項目1〜項目55のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目57)
前記カバー層(40)は、200μm超の厚さを有する、項目1〜項目56のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目58)
前記カバー層(40)は、230μm超の厚さを有する、項目1〜項目57のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目59)
前記カバー層(40)は、250μm超の厚さを有する、項目1〜項目58のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目60)
前記カバー層(40)は、30μm未満の厚さを有する、項目52または項目53に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目61)
前記再帰反射性フィルム(30)は、日中の明るさを増すために前記カバー層(40)の表面に事前印刷された非透明パターン(70)を有する、項目52〜項目60のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目62)
前記パターン(70)は、前記カバー層(40)の後表面に事前印刷されている、項目1〜項目61のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目63)
前記反射性層(44)の後表面に隣接して位置する接着層(46)をさらに備えている、項目1〜項目62のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目64)
前記接着層(46)は、感圧性接着剤を含む、項目63に記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目65)
前記接着層(46)は、恒久的な接着剤を備えている、項目63または項目64のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)。
(項目66)
基板(20)の隆起したエリア(24)と再帰反射性フィルム(30)の隆起したエリア(34)とを同時に形成し、それによって、物品(10)の隆起したエリア(14)を形成するステップを包含する、項目1〜項目65のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)を製作する方法。
(項目67)
前記同時に形成するステップは、
前記基板(20)の前表面は、前記再帰反射性フィルム(30)の後表面に接着されるように、前記隆起したエリア(24)の形成に先行して、該基板(20)を作り、前記隆起したエリア(34)の形成に先行して、該再帰反射性フィルム(30)を作ることと、
該隆起したエリア(24/34)を形成するように該基板/フィルム作りを常温加工することと
を包含する、項目66に記載の方法。
(項目68)
前記常温加工ステップは、刻印すること、または浮き彫りにすること、または押圧することを包含する、項目67に記載の方法。
(項目69)
前記基板(20)の前表面は、前記再帰反射性フィルム(30)の後表面に接着されるように、前記隆起したエリア(24)の形成に先行して、該基板(20)を作り、前記隆起したエリア(34)の形成に先行して、該再帰反射性フィルム(30)を作ることと、
該隆起したエリア(24/34)を形成するように該基板/フィルム作りを常温加工することと
のステップを包含する、項目1〜項目65のいずれかに記載の再帰反射性の物品(10)を製作する、方法。
(項目70)
前記常温加工ステップは、刻印すること、または浮き彫りにすること、または押圧することを包含する、項目69に記載の方法。
(項目71)
少なくとも20%の伸び率を有し、プリズム層(42)を有する、再帰反射性フィルム(30)。
(項目72)
接着層(46)および該接着層(46)の後表面をカバーする剥離ライナー(48)をさらに備えている、項目71に記載の再帰反射性フィルム(30)。
(項目73)
プリズム層の後表面に形成された再帰反射性プリズムエレメント(60)およびプリズム層(42)の前表面(62)と該再帰反射性プリズムエレメント(60)との間に広がるサブレイヤ(64)を有するプリズム層(42)を有する再帰反射性フィルム(30)であって、該再帰反射性フィルム(30)は、
該再帰反射性エレメント(60)は、115μm未満の高さh element を有し、該サブレイヤ(64)は、50μmと25μmとの間である厚さt sublayer を有するか、または、該再帰反射性エレメント(60)は、115μm超の高さh element を有し、該サブレイヤ(64)は、25μm未満の厚さt sublayer を有する、再帰反射性フィルム(30)。
(項目74)
前記プリズム層(42)の前面に位置するカバー層(40)をさらに備えている再帰反射性フィルム(30)であって、該カバー層(40)は、150μm超の厚さを有する、項目73に記載の再帰反射性フィルム(30)。
(項目75)
前記カバー層(40)は、180μm超の厚さを有する、項目74に記載の再帰反射性フィルム(30)。
(項目76)
前記カバー層(40)は、200μm超の厚さを有する、項目75に記載の再帰反射性フィルム(30)。
(項目77)
前記カバー層(40)は、230μm超の厚さを有する、項目76に記載の再帰反射性フィルム(30)。
(項目78)
前記カバー層(40)は、少なくとも250μmの厚さを有する、項目77に記載の再帰反射性フィルム(30)。
(項目79)
不透明な基板(20)と該基板(20)の隆起したエリア(12)に対応し得る再帰反射性フィルム(30)とを備える、再帰反射性の物品(10)。
(項目80)
基板(20)と再帰反射性フィルム(30)とを含む再帰反射性の物品(10)であって、該再帰反射性の物品(10)は、プリズム層(42)と該プリズム層(42)の後表面に隣接して位置する反射性層(44)とを備え、該反射性層(44)は、30%未満の可視光線透過率を有する、再帰反射性の物品(10)。
(項目81)
金属基板(20)とプリズム層(42)を有する再帰反射性フィルム(30)とを備えている、ライセンスプレート(10)。
ここに図面、最初に図1を参照すると、本発明にしたがう再帰反射性の物品10が示される。例示された物品は、例えば、乗用車などの自動車にはめ込まれ得るライセンスプレート10である。ライセンスプレート10は、バックグランドを形成する平面エリア12および英数字および/または他のしるしを形成する隆起したエリア14を含む。
、一般的には、平面エリア22/32を基準にして約0.3mmから約3mmの範囲の高さを有する。
にされ、押圧され、または他の方法で常温加工され得る。
Claims (1)
- 本願明細書に記載の発明。
Applications Claiming Priority (2)
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