JP2011233832A - AlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】AlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ表面平坦度およびダイオードチップを製造する際の発光強度の歩留まりを向上できるAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハを提供する。
【解決手段】N型GaAs基板2上に、N型AlGaInP系クラッド層4、AlGaInP系活性層5、P型AlGaInP系クラッド層6、及びGaPからなる電流拡散層7を有するAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ1において、電流拡散層7が、P型AlGaInP系クラッド層6上に形成されたV/III比が1以上100以下の低V/III比部分8と、低V/III比部分上に形成されたV/III比が100以上500以下の高V/III比部分9とからなるものである。
【選択図】図1
【解決手段】N型GaAs基板2上に、N型AlGaInP系クラッド層4、AlGaInP系活性層5、P型AlGaInP系クラッド層6、及びGaPからなる電流拡散層7を有するAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ1において、電流拡散層7が、P型AlGaInP系クラッド層6上に形成されたV/III比が1以上100以下の低V/III比部分8と、低V/III比部分上に形成されたV/III比が100以上500以下の高V/III比部分9とからなるものである。
【選択図】図1
Description
本発明は、発光強度の歩留まりを向上できるAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ及びその製造方法に関するものである。
従来、高輝度半導体発光素子用エピタキシャルウェハは、有機金属気相成長法(MOVPE法)などを用いて作製されている。この方法において、AlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハを成長させる際には、気相成長装置内に設置した基板を加熱し、各エピタキシャルウェハ層の原料となるIII族有機金属原料ガスとV族原料ガス、またキャリアガスおよびドーパント原料ガスを成長炉内に導入し、炉内で混合ガスを熱分解させ、基板上に結晶膜をエピタキシャル成長させる。
従来のAlGaInP系半導体発光素子の作製方法の1つとして、まず、MOVPE法によってN型GaAs基板上にN型AlGaInP系クラッド層、発光部となるアンドープAlGaInP系活性層、P型AlGaInP系クラッド層、およびP型の電流拡散層をエピタキシャル成長させ、その後P型の電流拡散層の表面の一部に円形の表面側電極を、N型GaAs基板裏面全体に裏面側電極を設け、電極形成後、エピタキシャルウェハを切断し、発光ダイオードチップを作製する方法がある。
このダイオードチップ作製工程において、電流を流して発光強度(の面内分布)を測定する事が出来る。
上述した従来の高輝度半導体発光素子用エピタキシャルウェハは、電流拡散層の材料としてGaP、P型クラッド層の材料としてAlGaInPが用いられているが、この両材料は格子定数の差が大きく、両エピタキシャル層の界面には格子不整合が発生する。格子不整合が発生すると、その上のエピタキシャル層(本件の場合は、GaPからなる電流拡散層)において結晶欠陥が発生し、エピタキシャルウェハ表面に凹凸が発生し、発光ダイオードチップ製造工程において発光強度歩留まりが低下してしまう。
そこで、本発明の目的は、AlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ表面平坦度およびダイオードチップを製造する際の発光強度の歩留まりを向上できるAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ及びその製造方法を提供することにある。
上記目的を達成すべく請求項1の発明は、N型GaAs基板上に、N型AlGaInP系クラッド層、AlGaInP系活性層、P型AlGaInP系クラッド層、及びGaPからなる電流拡散層を有するAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハにおいて、前記電流拡散層が、前記P型AlGaInP系クラッド層上に形成されたV/III比が1以上100以下の低V/III比部分と、該低V/III比部分の上に形成されたV/III比が100以上500以下の高V/III比部分とからなることを特徴とするAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハである。
請求項2の発明は、前記低V/III比部分が10nm以上である請求項1記載のAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハである。
請求項3の発明は、N型GaAs基板上に、N型AlGaInP系クラッド層、AlGaInP系活性層、P型AlGaInP系クラッド層、及びGaPからなる電流拡散層を順次積層するAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハの製造方法において、前記電流拡散層を、まず1以上100以下のV/III比で成長させ(低V/III比部分)、その後100以上500以下のV/III比で成長させる(高V/III比部分)ことを特徴とするAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハの製造方法である。
請求項4の発明は、前記低V/III比部分と前記高V/III比部分のV/III比の違いを、V族原料流量を変更させて行う請求項3記載のAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハの製造方法である。
本発明によれば、AlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハの表面平坦度を改善できるので、AlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハを用いてダイオードチップを製造する際の発光強度のウェハ面内分布を改善でき歩留まりを向上できる。
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳述する。
図1は、本発明の好適な実施の形態に係るAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハの簡易構造図である。
図1に示すように、AlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ1は、N型GaAs基板2上に、GaAsバッファ層3、N型AlGaInP系クラッド層4、AlGaInP系活性層5、P型AlGaInP系クラッド層6、およびGaPからなる電流拡散層7を順次積層した構造を有している。
電流拡散層7は、P型AlGaInP系クラッド層6上に1以上100以下のV/III比で形成された低V/III比部分8と、その低V/III比部分8上に100以上500以下のV/III比で形成された高V/III比部分9とで構成される。
GaAsバッファ層3は、N型GaAs基板2とN型AlGaInP系クラッド層4との格子不整合を緩和するために形成される。
N型AlGaInP系クラッド層4、P型AlGaInP系クラッド層6は、屈折率が低く、バンドギャップエネルギーが高い半導体層であり、これらの層はAlGaInP系活性層5に隣接あるいは近接して形成される。
電流拡散層7は、電流をチップの面方向に拡散させて、広い発光面積を得るために形成される。電流拡散層7は、その低V/III比部分8の厚さを10nm以上とすることにより、効果的な電流拡散を行える。
本実施の形態に係るAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ1では、電流拡散層7が、P型AlGaInP系クラッド層6上に形成された低V/III比部分8と、その低V/III比部分8上に形成された高V/III比部分9とで構成されることで、P型AlGaInP系クラッド層6から電流拡散層7にかけて格子定数が穏やかに変化し、ウェハ表面の平坦度(表面平坦度)を改善できる。
これにより、AlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ1を用いて発光ダイオードチップを製造する際、発光強度のウェハ面内分布を改善できるので歩留まりを向上することができる。
このAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ1の製造方法を説明する。
先ず、MOVPE装置などの慣用の半導体製造装置の反応炉内にN型GaAs基板2をセットする。その後、反応炉内の温度を例えば550℃以上750℃以下としてN型GaAs基板2を加熱する。
その加熱したN型GaAs基板2上に、GaAsバッファ層3、N型AlGaInP系クラッド層4、AlGaInP系活性層5、P型AlGaInP系クラッド層6を順次積層する。
そして、電流拡散層7を形成する際に、まず1以上100以下のV/III比、例えばV/III比を50として低V/III比部分8を成長させ、さらにその低V/III比部分8上に100以上500以下のV/III比、例えばV/III比を200として高V/III比部分9を成長させて電流拡散層7を形成する。
低V/III比部分8と高V/III比部分9のV/III比の違いは、V族原料流量を変更することで行う。
低V/III比部分8の厚さを10nm以上とすることで、効果的な電流拡散を行える。
これにより、発光ダイオードチップを製造したときの発光強度のウェハ面内分布(歩留まり)を改善することができるAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ1が得られる。
本実施の形態においては、V/III比の変更はV族原料流量の調整によって行ったが、III族原料流量の調整によるV/III比の変更でも同様の効果が期待できる。
N型GaAs基板を反応炉にセットし、MOVPE法を用いて図1に示したAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハをエピタキシャル成長した。
反応炉内温度は、概ね550℃〜750℃である。高V/III比部分9のV/III比は200、低V/III比部分8のV/III比は50で製造した(実施例)。実施例においてV/III比の変更は、V族原料流量の変更により実施した。
また、比較のため、従来方法による構造も製造した(比較例)。比較例では、図1において、高V/III比部分9、低V/III比部分8共にV/III比は100、つまり電流拡散層でのV/III比は一定とした。
表1に実施例および比較例の表面平坦度の結果を示す。表面平坦度の測定は表面粗さ測定装置(サーフェススキャン)を用い、指標としてはHaze(曇り具合を示す。単位ppm)を用いた。
本発明の製造方法により製造された実施例のAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ1では、比較例のAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハと比較して表面平坦度に改善が見られた。
また表2に実施例及び比較例のAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハから発光ダイオードチップを製造し、発光強度を測定・評価した結果を示す。
表2に示すように、実施例のAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ1を用いた発光ダイオードチップでは、比較例のAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハを用いた発光ダイオードチップと比較して、発光強度のウェハ面内分布(歩留まり)に改善が見られた。
また、本発明の検討の経緯において、低V/III比部分8と高V/III比部分9を反対に配置した(すなわち、N型GaAs基板2側を高V/III比部分9、ウェハ表面側を低V/III比部分8とした)AlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハも製造したが、本発明に述べるような効果は得られなかった。
よって、N型GaAs基板2側から低V/III比部分8、高V/III比部分9を順次積層することで本発明で述べた効果が見込める。
1 AlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ
2 N型GaAs基板
3 GaAsバッファ層
4 N型AlGaInP系クラッド層
5 AlGaInP系活性層
6 P型AlGaInP系クラッド層
7 電流拡散層
8 低V/III比部分
9 高V/III比部分
2 N型GaAs基板
3 GaAsバッファ層
4 N型AlGaInP系クラッド層
5 AlGaInP系活性層
6 P型AlGaInP系クラッド層
7 電流拡散層
8 低V/III比部分
9 高V/III比部分
Claims (4)
- N型GaAs基板上に、N型AlGaInP系クラッド層、AlGaInP系活性層、P型AlGaInP系クラッド層、及びGaPからなる電流拡散層を有するAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハにおいて、
前記電流拡散層が、前記P型AlGaInP系クラッド層上に形成されたV/III比が1以上100以下の低V/III比部分と、該低V/III比部分の上に形成されたV/III比が100以上500以下の高V/III比部分とからなることを特徴とするAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ。 - 前記低V/III比部分が10nm以上である請求項1記載のAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ。
- N型GaAs基板上に、N型AlGaInP系クラッド層、AlGaInP系活性層、P型AlGaInP系クラッド層、及びGaPからなる電流拡散層を順次積層するAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハの製造方法において、
前記電流拡散層を、まず1以上100以下のV/III比で成長させ(低V/III比部分)、その後100以上500以下のV/III比で成長させる(高V/III比部分)ことを特徴とするAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハの製造方法。 - 前記低V/III比部分と前記高V/III比部分のV/III比の違いを、V族原料流量を変更させて行う請求項3記載のAlGaInP系半導体発光素子用エピタキシャルウェハの製造方法。
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CN108233180A (zh) * | 2016-12-21 | 2018-06-29 | 山东华光光电子股份有限公司 | 一种AlGaInP结构的808nm半导体激光器结构 |
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2010
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CN108233180A (zh) * | 2016-12-21 | 2018-06-29 | 山东华光光电子股份有限公司 | 一种AlGaInP结构的808nm半导体激光器结构 |
CN108233180B (zh) * | 2016-12-21 | 2020-11-10 | 山东华光光电子股份有限公司 | 一种AlGaInP结构的808nm半导体激光器结构 |
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