JP2011230220A - ガラス基板の研磨方法、及び該ガラス基板の研磨方法を用いたガラス基板の製造方法 - Google Patents
ガラス基板の研磨方法、及び該ガラス基板の研磨方法を用いたガラス基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011230220A JP2011230220A JP2010102091A JP2010102091A JP2011230220A JP 2011230220 A JP2011230220 A JP 2011230220A JP 2010102091 A JP2010102091 A JP 2010102091A JP 2010102091 A JP2010102091 A JP 2010102091A JP 2011230220 A JP2011230220 A JP 2011230220A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- polishing
- surface roughness
- fixed abrasive
- polished
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明は、ガラス基板の主平面を平滑な鏡面に研磨する研磨工程において、研磨定盤の研磨面にはダイヤモンド砥粒を含む固定砥粒工具を設置し、該固定砥粒工具の研磨面でガラス基板を研磨したときの、ガラス基板の加工速度が1.5〜0.1μm/minであることを特徴とするガラス基板の製造方法を提供する。
【選択図】図1
Description
外径65mm、内径20mm、板厚0.635mmの磁気記録媒体用ガラス基板用に、フロート法で成形されたSiO2を主成分とするガラス基板をドーナツ状円形ガラス基板(中央部に円孔を有する円盤形状ガラス基板)に加工した。
次に、内周側面と内周面取り部を研磨ブラシと研磨液を用いて研磨し、内周側面と内周面取り部のキズを除去し、鏡面となるように内周端面を研磨加工した。内周端面研磨後のガラス基板は、外周側面と外周面取り部を研磨ブラシと研磨液を用いて研磨され、外周側面と外周面取り部のキズを除去し、鏡面となるように外周端面を研磨加工した。外周端面研磨後のガラス基板は、スクラブ洗浄と、アルカリ性洗剤溶液への浸漬した状態での超音波洗浄により、洗浄される。
次に、ガラス基板は、研磨具として鋳鉄定盤とアルミナ砥粒を含有する研磨液用いて、両面研磨装置(浜井産業社製、製品名:16BF−4M5P)により上下主平面を1次研磨される。研磨したガラス基板は、アルカリ性洗剤を用いたスクラブ洗浄と、アルカリ性洗剤溶液への浸漬した状態での超音波洗浄により、砥粒を洗浄除去される。
4次研磨を行ったガラス基板を、アルカリ性洗剤によるスクラブ洗浄、アルカリ性洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄、純水に浸漬した状態での超音波洗浄、を順次行い、イソプロピルアルコール蒸気にて乾燥し、磁気記録媒体用ガラス基板を得た。
20:両面研磨装置、30:上定盤の研磨面、40:下定盤の研磨面、50:キャリア、201:上定盤、202:下定盤、203:サンギア、204:インターナルギア、60:磁気記録媒体用ガラス基板、
X1:研磨面の内周側領域の測定位置、X2は研磨面の中央領域の測定位置、X3は研磨面の外周側領域の測定位置、
60:磁気記録媒体用ガラス基板、601:磁気記録媒体用ガラス基板の主平面、602:内周側面、603:外周側面。
Claims (8)
- 上下主平面と側面からなる板形状を有するガラス基板の形状付与工程と、前記ガラス基板の主平面の研磨工程と、前記ガラス基板の洗浄工程と、を有するガラス基板の製造方法において、
前記研磨工程は、研磨定盤を上下の少なくとも片方に備えた研磨装置を用い、前記研磨定盤の研磨面と対向する面に板形状を有するガラス基板を保持したキャリアを配置し、ガラス基板の主平面に研磨定盤の研磨面を押圧させた状態で、ガラス基板の主平面に研磨液を供給するとともに、ガラス基板と研磨面を相対的に動かして、ガラス基板の主平面を研磨するものであり、
前記研磨定盤の研磨面には、ダイヤモンド砥粒を含む固定砥粒工具が設置されており、
該固定砥粒工具の研磨面でガラス基板を研磨したときの、ガラス基板の加工速度が1.5〜0.1μm/minであることを特徴とするガラス基板の製造方法。 - 前記研磨装置は両面研磨装置であり、該両面研磨装置の上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との間に板形状を有するガラス基板を保持したキャリアを配置し、ガラス基板の両主平面に上定盤の研磨面と下定盤の研磨面を互いに押圧させた状態で、ガラス基板の主平面に研磨液を供給するとともに、ガラス基板と研磨面を相対的に動かして、ガラス基板の両主平面を同時に研磨するものであり、
前記上定盤の研磨面と下定盤の研磨面には、それぞれダイヤモンド砥粒を含む固定砥粒工具が設置されている請求項1に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記固定砥粒工具の研磨面は、ダイヤモンド砥粒が表出しており、触針式の表面粗さ測定機を用いて測定した表面粗さRa1が1.0μm以下である請求項1または2に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記固定砥粒工具の研磨面は、ダイヤモンド砥粒が表出しており、触針式の表面粗さ測定機を用いて測定した表面粗さRz1が6.0μm以下である請求項1〜3のいずれかに記載のガラス基板の製造方法。
- 前記ダイヤモンド砥粒は、平均粒子直径が0.1〜10μmである請求項1〜4に記載のガラス基板の製造方法。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のガラス基板の製造方法で製造したガラス基板であって、該ガラス基板の主平面において、触針式の表面粗さ測定機を用いて測定した表面粗さRa2が0.10μm以下であるガラス基板。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のガラス基板の製造方法で製造したガラス基板であって、該ガラス基板の主平面において、触針式の表面粗さ測定機を用いて測定した表面粗さRz2が0.90μm以下であるガラス基板。
- 前記ガラス基板は、中心部に円孔を有する磁気記録媒体用ガラス基板である請求項1〜7のいずれかに記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010102091A JP5792932B2 (ja) | 2010-04-27 | 2010-04-27 | ガラス基板の研磨方法、及び該ガラス基板の研磨方法を用いたガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010102091A JP5792932B2 (ja) | 2010-04-27 | 2010-04-27 | ガラス基板の研磨方法、及び該ガラス基板の研磨方法を用いたガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011230220A true JP2011230220A (ja) | 2011-11-17 |
JP5792932B2 JP5792932B2 (ja) | 2015-10-14 |
Family
ID=45320084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010102091A Expired - Fee Related JP5792932B2 (ja) | 2010-04-27 | 2010-04-27 | ガラス基板の研磨方法、及び該ガラス基板の研磨方法を用いたガラス基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5792932B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015046528A1 (ja) * | 2013-09-28 | 2015-04-02 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに研削工具 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1190813A (ja) * | 1997-09-22 | 1999-04-06 | Sagami Opt:Kk | 磁気記録媒体用ガラス基板の加工装置 |
JP2001191247A (ja) * | 2000-01-07 | 2001-07-17 | Hoya Corp | ディスク状基板の両面研削方法、情報記録媒体用基板の製造方法、及び情報記録媒体の製造方法 |
JP2002150548A (ja) * | 2000-11-09 | 2002-05-24 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 |
JP2002542056A (ja) * | 1999-04-23 | 2002-12-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ガラス研削方法 |
JP2004243469A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Yachiyo Micro Science Kk | 両面ラップ盤用回転定盤 |
JP2005131755A (ja) * | 2003-10-31 | 2005-05-26 | Speedfam Co Ltd | 硬質材の研磨装置及び研磨方法 |
JP2005202997A (ja) * | 2004-01-13 | 2005-07-28 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2005349542A (ja) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Ricoh Co Ltd | 砥石およびそれの製造方法 |
JPWO2005093720A1 (ja) * | 2004-03-25 | 2008-02-14 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板 |
JP2008112572A (ja) * | 2008-01-21 | 2008-05-15 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 |
-
2010
- 2010-04-27 JP JP2010102091A patent/JP5792932B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1190813A (ja) * | 1997-09-22 | 1999-04-06 | Sagami Opt:Kk | 磁気記録媒体用ガラス基板の加工装置 |
JP2002542056A (ja) * | 1999-04-23 | 2002-12-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ガラス研削方法 |
JP2001191247A (ja) * | 2000-01-07 | 2001-07-17 | Hoya Corp | ディスク状基板の両面研削方法、情報記録媒体用基板の製造方法、及び情報記録媒体の製造方法 |
JP2002150548A (ja) * | 2000-11-09 | 2002-05-24 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 |
JP2004243469A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Yachiyo Micro Science Kk | 両面ラップ盤用回転定盤 |
JP2005131755A (ja) * | 2003-10-31 | 2005-05-26 | Speedfam Co Ltd | 硬質材の研磨装置及び研磨方法 |
JP2005202997A (ja) * | 2004-01-13 | 2005-07-28 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JPWO2005093720A1 (ja) * | 2004-03-25 | 2008-02-14 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板 |
JP2005349542A (ja) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Ricoh Co Ltd | 砥石およびそれの製造方法 |
JP2008112572A (ja) * | 2008-01-21 | 2008-05-15 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015046528A1 (ja) * | 2013-09-28 | 2015-04-02 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに研削工具 |
CN105580079A (zh) * | 2013-09-28 | 2016-05-11 | Hoya株式会社 | 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法、以及磨削工具 |
JPWO2015046528A1 (ja) * | 2013-09-28 | 2017-03-09 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに研削工具 |
CN109285565A (zh) * | 2013-09-28 | 2019-01-29 | Hoya株式会社 | 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法、以及磨削工具 |
CN109285565B (zh) * | 2013-09-28 | 2020-06-26 | Hoya株式会社 | 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5792932B2 (ja) | 2015-10-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5454180B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体用ガラス基板 | |
JP5428793B2 (ja) | ガラス基板研磨方法および磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP4234991B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びその製造方法によって製造される情報記録媒体用ガラス基板 | |
JP2010257562A (ja) | 磁気ディスク用基板及びその製造方法 | |
JP5585269B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2010257561A (ja) | 磁気ディスク用基板の製造方法 | |
JP5853408B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法および磁気記録媒体用ガラス基板 | |
JP2012089221A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2021167062A (ja) | 固定砥粒砥石 | |
JP4858622B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2010079948A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2009157968A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5297281B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5792932B2 (ja) | ガラス基板の研磨方法、及び該ガラス基板の研磨方法を用いたガラス基板の製造方法 | |
JP2012185891A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法および磁気記録媒体用ガラス基板 | |
WO2015002152A1 (ja) | キャリア、磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2010238298A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2010238310A (ja) | 磁気ディスク用基板の製造方法 | |
JP2011216166A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の加工方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP5310671B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 | |
CN109285565B (zh) | 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法 | |
JP5704777B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5256091B2 (ja) | 磁気ディスク用基板の製造方法 | |
JP5731245B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
WO2013099083A1 (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130208 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140204 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140327 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20140327 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140805 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141008 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20141016 |
|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20141031 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150807 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5792932 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |