JP2011222883A5 - - Google Patents
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- 薄膜法により形成された圧電体層および前記圧電体層に電圧を印加する電極を含む圧電アクチュエーターを備えた液体噴射ヘッドであって、
前記圧電体層は、チタン酸ビスマスナトリウムと、銅とを含み、
前記チタン酸ビスマスナトリウム100モル%に対する前記銅の含有量が、0.2モル%以上8.0モル%以下であることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項1において、
前記圧電体層は、前記チタン酸ビスマスナトリウム100モル%に対する前記銅の含有量が、0.2モル%以上4.0モル%以下であることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 薄膜法により形成された圧電体層および前記圧電体層に電圧を印加する電極を含む圧電アクチュエーターを備えた液体噴射ヘッドであって、
前記圧電体層は、チタン酸ビスマスナトリウム及びチタン酸バリウムを含む混晶系のペロブスカイト型酸化物と、銅とを含み、
前記混晶系のペロブスカイト型酸化物100モル%に対する前記銅の含有量が、0.2モル%以上8.0モル%以下であることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項3において、
前記混晶系のペロブスカイト型酸化物は、前記チタン酸ビスマスナトリウム100モル%未満85モル%以上と、前記チタン酸バリウム0モル%超15モル%以下と、を含む、液体噴射ヘッド。 - 請求項3において、
前記混晶系のペロブスカイト型酸化物は、さらにチタン酸ビスマスカリウムを含む、液体噴射ヘッド。 - 請求項5において、
前記混晶系のペロブスカイト型酸化物は、前記チタン酸ビスマスナトリウム100モル
%未満67モル%以上と、前記チタン酸ビスマスカリウム0モル%超30モル%以下と、前記チタン酸バリウム0モル%超3モル%以下と、を含む、液体噴射ヘッド。 - 請求項1ないし請求項6のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドを備えた、液体噴射装置。
- 薄膜法により形成された圧電体層および前記圧電体層に電圧を印加する電極を含む圧電素子であって、
前記圧電体層は、チタン酸ビスマスナトリウムと、銅とを含み、
前記チタン酸ビスマスナトリウム100モル%に対する前記銅の含有量が、0.2モル%以上8.0モル%以下であることを特徴とする圧電素子。 - 薄膜法により形成された圧電体層および前記圧電体層に電圧を印加する電極を含む圧電素子であって、
前記圧電体層は、チタン酸ビスマスナトリウム及びチタン酸バリウムを含む混晶系のペロブスカイト型酸化物と、銅と、を含み、
前記混晶系のペロブスカイト型酸化物100モル%に対する前記銅の含有量が、0.2モル%以上8.0モル%以下であることを特徴とする圧電素子。
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