JP5127268B2 - 圧電体、圧電体素子、圧電体素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 - Google Patents
圧電体、圧電体素子、圧電体素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5127268B2 JP5127268B2 JP2007053507A JP2007053507A JP5127268B2 JP 5127268 B2 JP5127268 B2 JP 5127268B2 JP 2007053507 A JP2007053507 A JP 2007053507A JP 2007053507 A JP2007053507 A JP 2007053507A JP 5127268 B2 JP5127268 B2 JP 5127268B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- domain
- orientation
- piezoelectric
- piezoelectric body
- piezoelectric element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 161
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 71
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 5
- NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N dioxido(oxo)titanium;lead(2+) Chemical compound [Pb+2].[O-][Ti]([O-])=O NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 155
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 105
- 238000000034 method Methods 0.000 description 77
- 239000000463 material Substances 0.000 description 63
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 37
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 32
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 24
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 23
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 23
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 19
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 12
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 alkyl metal compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 4
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 3
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 3
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004121 SrRuO Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 230000005621 ferroelectricity Effects 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 2
- 238000007737 ion beam deposition Methods 0.000 description 2
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 2
- JQJCSZOEVBFDKO-UHFFFAOYSA-N lead zinc Chemical compound [Zn].[Pb] JQJCSZOEVBFDKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- ZBSCCQXBYNSKPV-UHFFFAOYSA-N oxolead;oxomagnesium;2,4,5-trioxa-1$l^{5},3$l^{5}-diniobabicyclo[1.1.1]pentane 1,3-dioxide Chemical compound [Mg]=O.[Pb]=O.[Pb]=O.[Pb]=O.O1[Nb]2(=O)O[Nb]1(=O)O2 ZBSCCQXBYNSKPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000005616 pyroelectricity Effects 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006237 Intermediate SAF Substances 0.000 description 1
- 241000877463 Lanio Species 0.000 description 1
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004356 Ti Raw Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012886 linear function Methods 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/704—Piezoelectric or electrostrictive devices based on piezoelectric or electrostrictive films or coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
- H10N30/853—Ceramic compositions
- H10N30/8548—Lead-based oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
- H10N30/853—Ceramic compositions
- H10N30/8548—Lead-based oxides
- H10N30/8554—Lead-zirconium titanate [PZT] based
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/03—Specific materials used
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/07—Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base
- H10N30/074—Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base by depositing piezoelectric or electrostrictive layers, e.g. aerosol or screen printing
- H10N30/076—Forming of piezoelectric or electrostrictive parts or bodies on an electrical element or another base by depositing piezoelectric or electrostrictive layers, e.g. aerosol or screen printing by vapour phase deposition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Description
少なくとも正方晶を有する<100>配向のエピタキシャル酸化物からなる圧電体において、
一般式ABO3で表されるペロブスカイト複合酸化物から成り、
互いに結晶方位のずれを有する[100]配向のC、D及びEのドメインを少なくとも有し、
Cドメインの[100]方位とDドメインの[100]方位との角度ずれが5°以下であり、
Dドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度ずれが5°以下であり、
Cドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度ずれが0.3°以下であり、
Dドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度ずれが0.3°以上であり、
Cドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度ずれが1.0°以上であり、
Dドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度ずれが1.0°以上である、
ことを特徴とする圧電体である。
本発明の圧電体素子の構成について以下説明する。本発明の圧電体素子は、本発明の圧電体と、該圧電体に接する一対の電極とを有する。図1に、本発明の圧電体素子の実施形態の一例の断面模式図を示す。圧電体素子10は、少なくとも、第1の電極膜6、本発明に係る圧電体7および第2の電極膜8を有する。図1に示した実施形態の圧電素子においては、圧電体素子10の断面形状は矩形で表示されているが、台形や逆台形であってもよい。圧電体素子10は基板5上に形成されるが、圧電体素子10を構成する第1の電極膜6および第2の電極膜8はそれぞれ下部電極、上部電極どちらとしても良い。この理由はデバイス化の際の製造方法によるものであり、どちらでも本発明の効果を得る事が出来る。また基板5と第1の電極膜6の間にバッファー層9があっても良い。圧電体素子10は、少なくとも基板5上又は基板5上に形成されたバッファー層9上に第1の電極膜6を形成し、次に圧電体7をその上に形成し、更に第2の電極膜8を形成することによって製造することができる。
圧電体7は、少なくとも正方晶を有する<100>配向のエピタキシャル酸化物からなり、この酸化物は一般式ABO3で表されるペロブスカイト複合酸化物である。これは、正方晶のペロブスカイト複合酸化物は分極方向が[001]であるのに対して、本発明の圧電体が少なくとも正方晶を有する<100>配向であることで、一般に90°ドメインスイッチングと呼ばれるドメインエンジニアリングを用いた圧電向上に適した構造になると考えられる為である。つまり、圧電体素子に電界を印加した際に、圧電体を構成するドメインの大部分の分極方向を膜厚方向にそろえることが可能になると考えられる。
本発明における圧電体は、一般式ABO3で表わされるペロブスカイト複合酸化物から成る。材料としては、本発明で目的とする圧電体を構成できるものであれば良い。このような材料としては、例えば、PbTiO3(チタン酸鉛:PTO)に代表される強誘電性、焦電性、圧電性を示す強誘電材料がある。また、例えばPb(ZnxNb1-x)O3(亜鉛酸ニオブ酸鉛:PZN)に代表される、優れた圧電性を示すリラクサ系電歪材料がある。特に、これらの材料の中にはMPBと呼ばれる結晶相境界を持つ場合があり、一般的にMPB領域の圧電性は特に良好であることが知られている。このような材料としては、例えば、以下に示す式で表わされるジルコン酸チタン酸鉛(PZT)、亜鉛酸ニオブ酸チタン酸鉛(PZN−PT)、マグネシウム酸ニオブ酸チタン酸鉛(PMN−PT)などの強誘電材料、リラクサ系電歪材料がある。
・PZT:Pb(ZrxTi1-x)O3
・PZN−PT:{Pb(Zn1/3Nb2/3)O3}1-x−(PbTiO3)x
・PMN−PT:{Pb(Mg1/3Nb2/3)O3}1-x−(PbTiO3)x
ここで、例えばチタン酸鉛をPbTiO3と表記しているが、各元素の組成は成膜における若干の組成ずれがあっても良い。例えばPb1.2TiO2.7のような組成ずれがある場合でも、圧電体が一般式ABO3で構成されるペロブスカイト複合酸化物から成るエピタキシャル膜であれば構わない。またXは1以下の0以上の数である。MPB領域は、例えばPZTの場合はXが0.4〜0.7、PZN−PTの場合はXが0.05〜0.3、PMN−PTの場合はXが0.2〜0.4の範囲に一般に存在する。さらに本発明における圧電体は上述の鉛系以外の材料でも良い。鉛系以外の材料としては、例えばBaTiO3(チタン酸バリウム:BTO)、LiNbO3(ニオブ酸リチウム:LNO)などがある。さらに、BiFeO3(鉄酸ビスマス)やBiCoO3(コバルト酸ビスマス)など、近年注目されている非鉛材料なども含まれる。また、例えばPMN−PTのZrがTiに代替されて含まれたPMN−PZTや、例えば上述の材料に微量の元素をドーピングした(Pb,La)(ZrxTi1-x)O3(PLZT)のような材料であっても良い。
一般に、バルク体単結晶の圧電体の自発分極方向に電界を印加すると、高い圧電特性が得られると考えられている。これに対して、本発明の圧電体素子が優れた特徴を有するのは、90°ドメインスイッチングと呼ばれるドメインの回転を利用したドメインエンジニアリングを利用している為である。ドメインの回転を利用した圧電変位は結晶のa軸とc軸の長さの比c/a程度の変位を生じるため、自発分極方向に電界を印加するドメイン変位より理論的には10倍以上の圧電変位も期待できる。しかしながら、圧電変位のエネルギーは非常に高く、また、どの程度のドメインが回転に寄与するかなどの課題がある。尚、本発明におけるドメインとは圧電体中に存在する格子定数と結晶方位を同じくする微小な結晶領域のことを指す。本発明の圧電体の構造とは図2のようなイメージである。つまり、互いに結晶方位のずれを有する[100]配向のC、D及びEのドメインを少なくとも有する。更に、C、D及びEドメインに加えて、互いに結晶方位のずれを有する[001]配向のA及びBのドメインを少なくとも有することが好ましい。
・Cドメインの[100]方位とDドメインの[100]方位との角度ずれが5°以下である。
・Dドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度ずれが5°以下である。
・Cドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度ずれが0.3°以下である。
・Dドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度ずれが0.3°以上である。
・Cドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度ずれが1.0°以上である。
・Dドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度ずれが1.0°以上である。
更に、Aドメインの[001]方位とBドメインの[001]方位との角度ずれが5°以下であることが好ましい。
また、以下の(1)〜(3)の場合における「角度ずれ」は0°は含まない。
(1)Cドメインの[100]方位とDドメインの[100]方位との角度ずれ。
(2)Dドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度ずれ。
(3)Aドメインの[001]方位とBドメインの[001]方位との角度ずれ。
これは、少なくとも上記ドメインは指定の方位において角度ずれを有している為であり、概ね0.4°以上の角度ずれを有していることが好ましい。
・Dドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度ずれは0.3°以上5°以下である。
・Cドメインの[100]方位とDドメインの[100]方位との角度ずれは5°以下である。
・Cドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度ずれは0.3°以下である。つまり、複雑な構造を有するものの、<100>軸は膜厚方向から5°程度しか傾かない為、ドメインエンジニアリングを発現させるに結晶方位の乱れという点で不足が無い。これは[001]配向のA及びBドメインにおいて、おおよそ膜厚方向にその方位をもつAドメインの[001]方位とBドメインの[001]方位との角度ずれが5°以下であることも同様である。さらに、[100]方位と垂直の関係にある[001]方位(およそ膜面内方向にその方位をもつ)を見た場合、2つのドメイン間の結晶方位の角度ずれは以下のとおりである。
・Cドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度ずれが1.0°以上である。
・Dドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度ずれが1.0°以上である。つまり、EドメインはC,Dドメインに対し、面内に若干の回転をもつ。
本発明の圧電体を構成するドメインが双晶を有するのは以下のような理由ではないかと考えられる。本発明の圧電体は、少なくともB、C、D及びEドメインの格子定数が一致し、かつ同組成のバルク体の格子定数と一致することが好ましい。これは少なくともB、C、D及びEドメインが、膜の形成メカニズムに起因した基板からの応力を受けていない状態であることを意味している。逆にいえば本発明の圧電体が上記の複雑な構造をとることで応力をほどよく緩和できていると考えられる。緩和するにはドメイン同士が若干のずれを有することが必要になるが、本発明の圧電体においては双晶欠陥により生じる格子のずれを利用した緩和が起こっていると考えられる。
・Dドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度ずれが0.3°以下である。
・Dドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度ずれが1.0°以上である。
(イ)Cドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度ずれが1.0°以上である。
(ロ)Dドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度ずれが1.0°以上である。
本発明のA、B、C、D及びEドメイン全体におけるA及びBドメインの割合は、基板の熱膨張係数αsub、エピタキシャル酸化物膜の熱膨張係数αfilm、成膜温度Ts、エピタキシャル酸化物膜のキュリー温度Tcにより決まっている。更に、σ=(Ts−Tc)×(αfilm−αsub)とおいた場合、Vcはσの一次の関数であらわされる。これにより、Vcはエピタキシャル酸化物膜が受ける基板からの熱応力により制御できることが分かる。
本発明における<100>配向は、X線回折を用いて簡単に特定することができる。例えば、正方晶<100>配向のPZTの場合、X線回折の2θ/θ測定での圧電体に起因するピークは{100}、{200}等の{L00}面(L=1、2、3、・・・、n:nは整数)のピークのみが検出される。これに加えて、{110}非対称面の極点測定をした際に、図5のように矢印で示した圧電体の膜厚方向からの傾きが約45°に該当する円周上の90°毎の位置に各結晶の{110}非対称面の極点が4回対称のスポット状のパターンとして測定される。この場合の「膜厚方向」とは、圧電体の結晶の{L00}面の法線方向である。
ここで、<100>とは[100]や[010]や[001]等で一般に表される計6方位を総称した表現である。例えば[100]と[001]は結晶系が立方晶の場合は同意であるが、正方晶や菱面体晶の場合は区別しなければならない。しかし、ペロブスカイト複合酸化物の結晶は、正方晶や菱面体晶であっても立方晶に近い格子定数を持つ。したがって、本発明においては正方晶の[100]と[001]や菱面体晶の[111]と
なお、
尚、圧電体の結晶相はX線回折の逆格子空間マッピングによって各格子定数を特定することによって判断できる。例えば、PZTの<100>配向の圧電体においては以下の方法が利用される。
(1)おおよそ膜厚方向に[001]方位をもつ正方晶のBドメインの場合は、逆格子空間マッピングによる該ドメインの(004)逆格子点と、原点である(000)逆格子点との距離(スカラー成分)から該ドメインの単位格子のc軸長を求めることができる。
(2)同様に該ドメインの(004)逆格子点と、(204)逆格子点との距離から該ドメインの単位格子のa軸長を求めることができる。
(3)さらに該ドメインの(004)逆格子点と、原点である(000)逆格子点との方位(ベクトル成分)と、該ドメインの(004)逆格子点と、(204)逆格子点との方位からa軸とc軸の内角から該ドメインの単位格子のα角を求めることができる。
以上、このような測定をおこなうことで、Bドメインの結晶系と格子定数を簡単に特定することができる。
本発明におけるドメインの確認を行う場合は角度分解能の高い測定が必要である。そこで、本発明における各ドメインを区別するためには、X線回折を用いることが好ましい。X線回折の測定装置としては、多軸ゴニオメーターをもつX線回折装置を用い、回折X線の検出器の手前に、縦発散・横発散共に0.01Rad.(ラジアン)以下のソーラースリットを挿入することが好ましい。なお、多軸ゴニオメーターをもつX線回折装置としては、例えばパナリティカル社製X線回折装置X'Pert MRD(商品名)や、リガク社製X線回折装置ATX−E(商品名)のような装置が好適に利用できる。さらに、一般に多軸ゴニオメーターにおいては、極点測定を行う際にスキャンする回転角(一般にφ軸)のスキャン精度は2θ/θ測定のスキャン精度(一般に2θ軸)より劣る場合が多い。そこで、本発明のように数度程度の範囲を極点測定する場合には、あおり角(一般にω軸とψ軸)をスキャンすることで角度分解能の高い極点測定を行うことが出来る。尚、上述のX線回折の他にも、例えば透過型電子顕微鏡(TEM)による断面観察等によっても確認することが出来る。
(1)圧電体はPTOであり、<100>配向のエピタキシャル膜である。
(2)正方晶のA,B,C,D,Eドメインを有し、AドメインおよびBドメインが[001]配向であり、CドメインおよびDドメインおよびDドメインが[100]配向である。
(3)B,C,D,Eドメインの格子定数が一致する
(4)BドメインとDドメインが少なくとも双晶の鏡像関係を有する。
(5)前記双晶の双晶面が(101)である。
(6)CドメインとEドメインが少なくとも双晶の鏡像関係を有する。
(7)前記双晶の双晶面が(101)である。
図6で示す構造において、例えば膜厚が2.0μmのPTOのBドメインはX線回折において2θでおよそ43.5°付近に回折角が得られる(X線源としてCuのKα線を用いた場合)。そこで、2θを43.5°付近の回折角に固定して、圧電体の膜厚方向からの傾きが5°の範囲の極点測定を行うと図8の(002)の極点図で示すような回折点が得られる。ここで、図7、図8の各極点図から観察されるドメインの回折点は複数存在しても良い。これは本発明の圧電体が膜面内方向に4回対称の対象性を有することに起因している。
尚、圧電体の双晶はX線回折の極点測定によって簡単に特定することができる。例えば、図6で示す構造のPTO圧電体において、BドメインとDドメインが双晶の鏡像関係を有している場合、Bドメインの[001]方位とDドメインの[100]方位のずれは前述したとおりである。すなわち、Bドメイン及びDドメインの結晶格子のa軸長さとc軸長さとの正接の関係にある角度の2倍から90°を引いた程度の大きさのずれをもつ。ところで図8の(200)および(002)極点図を抜粋した図9において、黒丸で囲んだBドメインおよびDドメインにおいて、Bドメインの[001]方位とDドメインの[100]方位はおよそ3.6度である。ここで、PTOの格子定数はバルク体でおよそa=3.90、c=4.15であるが、このa軸長さとc軸長さとの正接の関係にある角度の2倍から90°を引いた程度の大きさは3.6°である。つまり黒丸で囲んだBドメインおよびDドメインは双晶面が(101)である双晶の鏡像関係を有していることが分かる。
本発明における圧電体として利用し得るエピタキシャル酸化物を膜として形成する際の形成方法は特に限定されない。10μm以下の薄膜では通常、ゾルゲル法、水熱合成法、ガスデポジション法、電気泳動法等の薄膜形成法を用いることができる。さらにはスパッタリング法、化学気相成長法(CVD法)、有機金属気相成長法(MOCVD法)、イオンビームデポジション法、分子線エピタキシー法、レーザーアブレーション法等の薄膜形成法も用いることができる。これらの薄膜形成法では、基板や下部電極からのエピタキシャル成長を用いた圧電体の形成が可能となる。上記の各種方法のなかでも、成膜方法としては、特に、図11に示す装置を用いるパルスMOCVD法により成膜することにより得る事が好ましい。
本発明の圧電体素子の第1の電極(電極膜)又は第2の電極(電極膜)は、前述の圧電体と良好な密着性を有し、かつ導電性の高い材料が好ましい。すなわち、上部電極膜又は下部電極膜の比抵抗を10-7〜10-2Ω・cmとすることのできる材料からなることが好ましい。このような材料は一般的に金属であることが多いが、例えば、Au、Ag、CuやRu、Eh、Pd、Os、Ir、PtなどのPt族の金属を電極材料として用いることが好ましい。また上記材料を含む銀ペーストやはんだなどの合金材料も高い導電性を有し、好ましく用いることができる。また、例えばIrO(酸化イリジウム)、SRO(ルテニウム酸ストロンチウム)、ITO(導電性酸化スズ)、BPO(鉛酸バリウム)などの導電性酸化物材料も電極材料として好ましい。また、電極膜は1層構成でもよく、多層構成でもよい。例えば基板との密着性を上げる為Pt/Tiのような構成としても良いし、基板やバッファー層からエピタキシャル成長をするために、SRO/LNO(ニッケル酸ランタン)のような構成としても良い。
次に、本発明の液体吐出ヘッドについて説明する。本発明の液体吐出ヘッドは、吐出口と、吐出口に連通する個別液室と、個別液室の一部を構成する振動板と、個別液室に対応して、その外部に設けられた振動板に振動を付与するための圧電素子とを有する。この液体吐出ヘッドでは、振動板により生じる個別液室内の体積変化によって個別液室内の液体が吐出口から吐出される。そして、この液体吐出ヘッドは、前記圧電素子として上記構成のエピタキシャル酸化物を用いた圧電体素子を用いたことを特徴とする。
(1)吐出口を形成する工程。
(2)吐出口と個別液室を連通する連通孔を形成する工程。
(3)個別液室を形成する工程。
(4)個別液室に連通する共通液室を形成する工程。
(5)個別液室に振動を付与する振動板を形成する工程。
(6)個別液室の外部に設けられた振動板に振動を付与するための本発明の圧電体素子を製造する工程。
本発明の圧電体素子の圧電特性評価はユニモルフ型カンチレバー方式を用いたd31測定法によりおこなった。測定方法・構成概略を図21、図22及び図23に示す。基板5上に下部電極膜16、圧電体7、上部電極膜18の順で構成された圧電体素子10は、クランプ冶具502により片側が固定されたユニモルフ型カンチレバーの構成となっている。クランプ冶具502の上側部分502−aは、導電性材料で構成されており、圧電体7の下部電極膜16と電気的に接触されており、交流電源503の出力端子の一方(不図示)に電気ケーブル504−aに繋がっている。交流電源503の出力端子のもう一方(不図示)は電気ケーブル504−bを通じ上部電極膜18に繋がっており、圧電体7に交流電圧を印加できる構成となっている。
式1中には、下部電極膜、上部電極膜、その他バッファー層などの物性値項が入っていないが、基板厚さhsがそれらの厚さに対して、充分薄い時それらの層の物性値・膜厚は無視でき、式1は実用上充分な近似式となっている。
例を挙げて説明する。
実施例1の圧電体の製作手順は以下の通りである。
Aドメインの[001]方位とBドメインの[001]方位との角度ずれは0.7°であった。
Cドメインの[100]方位とDドメインの[100]方位との角度ずれは0.7°であった。
Dドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度ずれは0.7°であった。
Cドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度ずれが0°であった。
Cドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度ずれが3.6°であった。
Dドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度ずれが3.0°であった。
また、Aドメイン、Bドメイン、Cドメイン、Dドメイン、Eドメインに占めるA及びBドメインの割合は60%であった。
実施例2の圧電体の製作手順は以下の通りである。
Aドメインの[001]方位とBドメインの[001]方位との角度ずれは0.6°であった。
Cドメインの[100]方位とDドメインの[100]方位との角度ずれは0.6°であった。
Dドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度ずれは0.6°であった。
Cドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度ずれが0°であった。
Cドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度ずれが2.1°であった。
Dドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度ずれが1.8°であった。
また、Aドメイン、Bドメイン、Cドメイン、Dドメイン、Eドメインに占めるA及びBドメインの割合は680%であった。
比較例1の圧電体の製作手順は以下の通りである。
式1中に使用した物性値は、以下を用いた。
S11s=3.8×10-12[m2/N]
S11p=10.0×10-12[m2/N]
次に実施例3の液体吐出ヘッドを以下の手順で作製した。
6 第1の電極膜
7 圧電体
8 第2の電極膜
9 バッファー層
10 圧電体素子
11 吐出口
12 連通孔
13 個別液室
14 共通液室
15 振動板
16 下部電極膜
17 吐出口を設けた基板
18 上部電極膜
19 バッファー層
Claims (9)
- 少なくとも正方晶を有する<100>配向のエピタキシャル酸化物からなる圧電体において、
一般式ABO3で表されるペロブスカイト複合酸化物から成り、
互いに結晶方位のずれを有する[100]配向のC、D及びEのドメインを少なくとも有し、
Cドメインの[100]方位とDドメインの[100]方位との角度のずれが5°以下であり、
Dドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度のずれが5°以下であり、
Cドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度のずれが0.3°以下であり、
Dドメインの[100]方位とEドメインの[100]方位との角度のずれが0.3°以上であり、
Cドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度のずれが1.0°以上であり、
Dドメインの[001]方位とEドメインの[001]方位との角度のずれが1.0°以上である、
ことを特徴とする圧電体。 - 前記圧電体中に、前記C、D及びEドメインに加えて、互いに結晶方位のずれを有する[001]配向のA及びBのドメインを少なくとも有し、
Aドメインの[001]方位とBドメインの[001]方位との角度のずれが5°以下である、
請求項1に記載の圧電体。 - 前記A、B、C、D及びEドメインは正方晶であり、少なくとも前記B、C、D及びEドメインの格子定数が一致している請求項2に記載の圧電体。
- 前記Bドメインと前記Dドメインとが双晶の鏡像関係を有し、前記双晶の双晶面が{110}であり、前記Cドメインと前記Eドメインとが双晶の鏡像関係を有し、前記双晶の双晶面が{110}である請求項3に記載の圧電体。
- チタン酸鉛もしくはジルコン酸チタン酸鉛を主成分とする請求項1乃至4のいずれかに記載の圧電体。
- 厚さが0.6μm以上の膜である請求項1乃至5のいずれかに記載の圧電体。
- 請求項1乃至6のいずれかに記載の圧電体と、該圧電体に接する一対の電極と、を有することを特徴とする圧電体素子。
- 吐出口と、該吐出口に連通する液室と、該液室に対応して設けられた圧電体素子と、前記液室と前記圧電体素子との間に設けられた振動板とを有し、前記圧電体素子により生じる前記液室内の容積変化によって前記液室内の液体を前記吐出口から吐出する液体吐出ヘッドであって、
前記圧電体素子が請求項7に記載の圧電体素子であることを特徴とする液体吐出ヘッド。 - 請求項8記載の液体吐出ヘッドを有することを特徴とする液体吐出装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007053507A JP5127268B2 (ja) | 2007-03-02 | 2007-03-02 | 圧電体、圧電体素子、圧電体素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
US12/031,176 US7622852B2 (en) | 2007-03-02 | 2008-02-14 | Piezoelectric member, piezoelectric element, and liquid discharge head and liquid discharge apparatus utilizing piezoelectric element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007053507A JP5127268B2 (ja) | 2007-03-02 | 2007-03-02 | 圧電体、圧電体素子、圧電体素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008218675A JP2008218675A (ja) | 2008-09-18 |
JP5127268B2 true JP5127268B2 (ja) | 2013-01-23 |
Family
ID=39732772
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007053507A Active JP5127268B2 (ja) | 2007-03-02 | 2007-03-02 | 圧電体、圧電体素子、圧電体素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7622852B2 (ja) |
JP (1) | JP5127268B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9168744B2 (en) | 2013-09-13 | 2015-10-27 | Ricoh Company, Ltd. | Electromechanical transducer element, method of manufacturing the same, liquid droplet discharge head, and liquid droplet discharge device |
US9956774B2 (en) | 2015-12-17 | 2018-05-01 | Ricoh Company, Ltd. | Electromechanical transducer element, liquid discharge head, liquid discharge device, method for producing electromechanical transducer film, and method for producing liquid discharge head |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5164052B2 (ja) * | 2005-01-19 | 2013-03-13 | キヤノン株式会社 | 圧電体素子、液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
US7918542B2 (en) * | 2006-09-15 | 2011-04-05 | Fujifilm Corporation | Perovskite oxide, process for producing the perovskite oxide, piezoelectric body, piezoelectric device, and liquid discharge device |
JP5453960B2 (ja) * | 2008-09-19 | 2014-03-26 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びにアクチュエーター装置 |
JP5338239B2 (ja) * | 2008-10-06 | 2013-11-13 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電アクチュエータ |
JP5510663B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2014-06-04 | セイコーエプソン株式会社 | 液滴噴射ヘッド、液滴噴射装置および圧電素子 |
JP5540654B2 (ja) * | 2009-11-03 | 2014-07-02 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子 |
JP5599203B2 (ja) * | 2010-03-02 | 2014-10-01 | キヤノン株式会社 | 圧電薄膜、圧電素子、圧電素子の製造方法、液体吐出ヘッドおよび超音波モータ |
JP5585768B2 (ja) * | 2010-04-14 | 2014-09-10 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置および圧電素子 |
JP5585767B2 (ja) * | 2010-04-14 | 2014-09-10 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置および圧電素子 |
JP2011249659A (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Kyocera Corp | 圧電素子、これを備えた噴射装置及び燃料噴射システム |
US9166147B2 (en) * | 2011-04-27 | 2015-10-20 | The Regents Of The University Of California | Tunable and metastable ferroelectric materials and magneto-electric devices |
WO2012165110A1 (ja) * | 2011-05-31 | 2012-12-06 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 強誘電体膜およびそれを備えた圧電素子 |
US8866367B2 (en) | 2011-10-17 | 2014-10-21 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Thermally oxidized seed layers for the production of {001} textured electrodes and PZT devices and method of making |
US9761785B2 (en) | 2011-10-17 | 2017-09-12 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Stylo-epitaxial piezoelectric and ferroelectric devices and method of manufacturing |
JP6236924B2 (ja) * | 2013-06-28 | 2017-11-29 | 株式会社リコー | 電気機械変換膜、電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、及びインクジェット記録装置 |
JP6525255B2 (ja) | 2015-05-28 | 2019-06-05 | 株式会社リコー | 電気機械変換素子、電気機械変換素子の製造方法、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
US9987843B2 (en) | 2016-05-19 | 2018-06-05 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid discharge head, liquid discharge device, and liquid discharge apparatus |
JP2019057570A (ja) * | 2017-09-20 | 2019-04-11 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子および液体吐出ヘッド |
JP7335973B2 (ja) * | 2019-11-28 | 2023-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 高分子複合圧電体および複合体用原料粒子の製造方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3397538B2 (ja) | 1995-09-14 | 2003-04-14 | 株式会社東芝 | 酸化物圧電単結晶の製造方法 |
JPH1045470A (ja) | 1996-07-29 | 1998-02-17 | Kyocera Corp | 圧電セラミックス |
EP1018172A4 (en) * | 1997-01-28 | 2004-11-24 | Penn State Res Found | FERROELECTRIC RELAXOR SINGLE CRYSTALS FOR ULTRASONIC TRANSDUCERS |
JP4327942B2 (ja) * | 1999-05-20 | 2009-09-09 | Tdk株式会社 | 薄膜圧電素子 |
CN100345320C (zh) * | 2001-12-18 | 2007-10-24 | 松下电器产业株式会社 | 压电元件、喷墨头、角速度传感器及其制法、喷墨式记录装置 |
US7083270B2 (en) * | 2002-06-20 | 2006-08-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Piezoelectric element, ink jet head, angular velocity sensor, method for manufacturing the same, and ink jet recording apparatus |
KR100672883B1 (ko) | 2003-01-31 | 2007-01-24 | 캐논 가부시끼가이샤 | 압전 소자 |
JP3828116B2 (ja) | 2003-01-31 | 2006-10-04 | キヤノン株式会社 | 圧電体素子 |
JP4508725B2 (ja) | 2003-05-21 | 2010-07-21 | Jfeミネラル株式会社 | 圧電単結晶素子とその製造方法 |
KR100628812B1 (ko) | 2003-05-21 | 2006-09-26 | 제이에프이 미네랄 가부시키가이샤 | 압전단결정 소자와 그 제조방법 |
US7312558B2 (en) * | 2004-04-02 | 2007-12-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Piezoelectric element, ink jet head, angular velocity sensor, and ink jet recording apparatus |
JP4224709B2 (ja) * | 2004-05-17 | 2009-02-18 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子、圧電アクチュエーター、インクジェット式記録ヘッド、インクジェットプリンター、表面弾性波素子、周波数フィルタ、発振器、電子回路、薄膜圧電共振器、および電子機器 |
JP2006069151A (ja) | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Canon Inc | 圧電膜型アクチュエータの製造方法及び液体噴射ヘッド |
KR100624442B1 (ko) * | 2004-11-03 | 2006-09-15 | 삼성전자주식회사 | 강유전체 박막 형성 방법 |
JP5164052B2 (ja) * | 2005-01-19 | 2013-03-13 | キヤノン株式会社 | 圧電体素子、液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
US8142678B2 (en) * | 2005-08-23 | 2012-03-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Perovskite type oxide material, piezoelectric element, liquid discharge head and liquid discharge apparatus using the same, and method of producing perovskite type oxide material |
JP5041765B2 (ja) * | 2005-09-05 | 2012-10-03 | キヤノン株式会社 | エピタキシャル酸化物膜、圧電膜、圧電膜素子、圧電膜素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
US7567022B2 (en) | 2005-10-20 | 2009-07-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for forming perovskite type oxide thin film, piezoelectric element, liquid discharge head, and liquid discharge apparatus |
JP4091641B2 (ja) * | 2006-04-07 | 2008-05-28 | 富士フイルム株式会社 | 圧電素子とその製造方法、及びインクジェット式記録ヘッド |
US7918542B2 (en) * | 2006-09-15 | 2011-04-05 | Fujifilm Corporation | Perovskite oxide, process for producing the perovskite oxide, piezoelectric body, piezoelectric device, and liquid discharge device |
-
2007
- 2007-03-02 JP JP2007053507A patent/JP5127268B2/ja active Active
-
2008
- 2008-02-14 US US12/031,176 patent/US7622852B2/en active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9168744B2 (en) | 2013-09-13 | 2015-10-27 | Ricoh Company, Ltd. | Electromechanical transducer element, method of manufacturing the same, liquid droplet discharge head, and liquid droplet discharge device |
US9956774B2 (en) | 2015-12-17 | 2018-05-01 | Ricoh Company, Ltd. | Electromechanical transducer element, liquid discharge head, liquid discharge device, method for producing electromechanical transducer film, and method for producing liquid discharge head |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008218675A (ja) | 2008-09-18 |
US20080211881A1 (en) | 2008-09-04 |
US7622852B2 (en) | 2009-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5127268B2 (ja) | 圧電体、圧電体素子、圧電体素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 | |
JP5041765B2 (ja) | エピタキシャル酸化物膜、圧電膜、圧電膜素子、圧電膜素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 | |
JP5300184B2 (ja) | 圧電体、圧電体素子、圧電体素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 | |
JP5164052B2 (ja) | 圧電体素子、液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 | |
US7521845B2 (en) | Piezoelectric substance, piezoelectric element, liquid discharge head using piezoelectric element, and liquid discharge apparatus | |
KR100672883B1 (ko) | 압전 소자 | |
JP5241087B2 (ja) | 圧電体、圧電素子、圧電素子を用いた液体吐出ヘッド、液体吐出装置及び圧電素子の製造方法 | |
JP5241086B2 (ja) | 圧電体、圧電素子、圧電素子を用いた液体吐出ヘッドおよび液体吐出装置 | |
JP3828116B2 (ja) | 圧電体素子 | |
JP2004071933A (ja) | アクチュエータおよび液体噴射ヘッドならびに前記液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP2007112069A (ja) | 液体吐出ヘッド | |
JP5131674B2 (ja) | 圧電体とその製造方法、圧電素子とそれを用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 | |
JP4953351B2 (ja) | ペロブスカイト型酸化物、これを用いた圧電素子、液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 | |
JP2008042192A (ja) | 圧電体素子、圧電体の製造方法及び液体噴射ヘッド | |
JP2007088442A (ja) | 圧電体素子、それを用いた液体吐出ヘッド、および液体吐出装置 | |
JP2004128174A (ja) | アクチュエータおよび液体噴射ヘッド |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100302 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20110705 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110705 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121018 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121023 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121030 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5127268 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151109 Year of fee payment: 3 |