JP2011188787A5 - - Google Patents
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2.変異ホタルルシフェラーゼ遺伝子を含むプラスミドの作製
ヘイケボタルルシフェラーゼのアミノ酸配列において344番目のアミノ酸残基であるロイシンがアラニンに変異し(344A変異)、287番目のアミノ酸残基であるバリンがアラニンに変異し(287A変異)、326番目のアミノ酸残基であるグリシンがセリンに変異し(G326S変異)、467番目のアミノ酸残基であるフェニルアラニンがイソロイシンに変異した(F467I)ルシフェラーゼをコードする遺伝子を含むプラスミド(pHLfA3T)を、以下のように作製した。
ヘイケボタルルシフェラーゼのアミノ酸配列において344番目のアミノ酸残基であるロイシンがアラニンに変異し(344A変異)、287番目のアミノ酸残基であるバリンがアラニンに変異し(287A変異)、326番目のアミノ酸残基であるグリシンがセリンに変異し(G326S変異)、467番目のアミノ酸残基であるフェニルアラニンがイソロイシンに変異した(F467I)ルシフェラーゼをコードする遺伝子を含むプラスミド(pHLfA3T)を、以下のように作製した。
3.発光量向上変異ホタルルシフェラーゼの取得
実施例2記載の組換え体プラスミドpHLf−BLU−Y−A3Tを鋳型とし、変異ルシフェラーゼ遺伝子領域の上流、下流に設計したプライマー(配列番号11および12)を用いてエラープローンPCRを行った。具体的には、これらのプライマーを終濃度0.2μMにて用い、マンガンイオン濃度0.1mM、マグネシウムイオン濃度6.5mM下でEx−Taq(タカラバイオ社製)を使用して、pHLf−BLU−Y−A3T遺伝子領域に対するPCR増幅反応を行うことにより、種々の変異が導入されたホタルルシフェラーゼ遺伝子断片を得た。次いでこれらを、NdeI,HindIIIにて制限酵素処理したのち、アガロースゲル電気泳動により分離し、RECO−CHIP(タカラバイオ社製)を用いて電気泳動後のゲルからDNA断片を回収した。得られたDNA断片を、pHLf−BLU−Y−A3TをNdeIおよびHindIII処理して得られたpHLf−BLU−Y−A3Tベクターに、Ligation Convenience Kit(ニッポンジーン社製)を用いてライゲーションさせた。ライゲーション終了後、上述の方法に準じて、変異が導入された組換え体プラスミドDNAを用いて大腸菌(E.coli)BL21(DE3)(インビトロジェン社製)を形質転換し、変異体ライブラリーを作製した。この形質転換株をLB−amp寒天培地〔1%(w/v) バクトトリプトン、0.5%(w/v) 酵母エキス、0.5%(w/v) NaCl、および50μg/ml アンピシリン、および1.4%(w/v)寒天〕に接種し、37℃で平板培養した。
実施例2記載の組換え体プラスミドpHLf−BLU−Y−A3Tを鋳型とし、変異ルシフェラーゼ遺伝子領域の上流、下流に設計したプライマー(配列番号11および12)を用いてエラープローンPCRを行った。具体的には、これらのプライマーを終濃度0.2μMにて用い、マンガンイオン濃度0.1mM、マグネシウムイオン濃度6.5mM下でEx−Taq(タカラバイオ社製)を使用して、pHLf−BLU−Y−A3T遺伝子領域に対するPCR増幅反応を行うことにより、種々の変異が導入されたホタルルシフェラーゼ遺伝子断片を得た。次いでこれらを、NdeI,HindIIIにて制限酵素処理したのち、アガロースゲル電気泳動により分離し、RECO−CHIP(タカラバイオ社製)を用いて電気泳動後のゲルからDNA断片を回収した。得られたDNA断片を、pHLf−BLU−Y−A3TをNdeIおよびHindIII処理して得られたpHLf−BLU−Y−A3Tベクターに、Ligation Convenience Kit(ニッポンジーン社製)を用いてライゲーションさせた。ライゲーション終了後、上述の方法に準じて、変異が導入された組換え体プラスミドDNAを用いて大腸菌(E.coli)BL21(DE3)(インビトロジェン社製)を形質転換し、変異体ライブラリーを作製した。この形質転換株をLB−amp寒天培地〔1%(w/v) バクトトリプトン、0.5%(w/v) 酵母エキス、0.5%(w/v) NaCl、および50μg/ml アンピシリン、および1.4%(w/v)寒天〕に接種し、37℃で平板培養した。
12時間後、出現してきた各々のコロニーをLB−amp液体培地〔1%(w/v) バクトトリプトン、0.5%(w/v) 酵母エキス、0.5%(w/v) NaCl、および50μg/ml アンピシリン〕に接種し、96穴プレートにて37℃で静置培養した。12〜18時間培養した後、溶菌剤(バグバスター、ノバジェン社製)を用いて菌体を溶菌させ、次いで活性測定試薬〔50mM Tricine−NaOH,4mM ATP,2mM Luciferin,10mM MgSO4,pH7.8〕に供し、ルミノメーター(ベルトールド社製、LB96V)を用いて各々の菌株に含まれるホタルルシフェラーゼの活性を確認した。上記の測定において、ホタルルシフェラーゼの活性すなわち発光量が変異導入前の親株と比較して1.2倍以上に増大したホタルルシフェラーゼを、発光量向上変異体の候補として選択した。
7.変異ホタルルシフェラーゼの熱安定性
実施例5で試験した各変異体の粗酵素液を、0.3M Tricine−NaOH,0.2% BSA,5% Glycerol,pH7.8に1〜10μl添加したものを、47℃反応温度下にて90分の熱処理に供した。そして、活性測定試薬〔50mM Tricine−NaOH,4mM ATP,2mM Luciferin,10mM MgSO4,pH7.8〕を用いて、熱処理前後のルシフェラーゼ粗酵素の活性を測定した。ルシフェラーゼ活性は、ルミノメーター(ベルトールド社製、LB96V)を用いて1秒間の積算にて得られる発光量にて評価し、熱処理前の発光量に対する熱処理後の発光量値の比を、「活性残存率」として算出した。
その結果、BLU−Y A3Tでは、活性残存率が34.4%であったのに対し、BLU−A3T−1では37.3%、B−A3T−2では38.3%、B−A3T−3では50.7%、さらにBLU−A3T−4では50.6%、BLU−A3T−5では52.7%であった。すなわち、75A変異という発光量向上変異、または75A変異に加えて293M変異、351V変異、172E変異および259I変異、あるいは359V変異および490Q変異の1以上を組み合わせた発光量向上変異を導入しても、344A変異、287A変異、326S変異、さらに467I変異の効果である高い熱安定性は良好に保持され、むしろ、さらに向上する傾向をも示すことが判明した。
実施例5で試験した各変異体の粗酵素液を、0.3M Tricine−NaOH,0.2% BSA,5% Glycerol,pH7.8に1〜10μl添加したものを、47℃反応温度下にて90分の熱処理に供した。そして、活性測定試薬〔50mM Tricine−NaOH,4mM ATP,2mM Luciferin,10mM MgSO4,pH7.8〕を用いて、熱処理前後のルシフェラーゼ粗酵素の活性を測定した。ルシフェラーゼ活性は、ルミノメーター(ベルトールド社製、LB96V)を用いて1秒間の積算にて得られる発光量にて評価し、熱処理前の発光量に対する熱処理後の発光量値の比を、「活性残存率」として算出した。
その結果、BLU−Y A3Tでは、活性残存率が34.4%であったのに対し、BLU−A3T−1では37.3%、B−A3T−2では38.3%、B−A3T−3では50.7%、さらにBLU−A3T−4では50.6%、BLU−A3T−5では52.7%であった。すなわち、75A変異という発光量向上変異、または75A変異に加えて293M変異、351V変異、172E変異および259I変異、あるいは359V変異および490Q変異の1以上を組み合わせた発光量向上変異を導入しても、344A変異、287A変異、326S変異、さらに467I変異の効果である高い熱安定性は良好に保持され、むしろ、さらに向上する傾向をも示すことが判明した。
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JP2010056946A JP5587644B2 (ja) | 2010-03-15 | 2010-03-15 | ホタルルシフェラーゼ、その遺伝子、およびホタルルシフェラーゼの製造法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2010056946A Active JP5587644B2 (ja) | 2010-03-15 | 2010-03-15 | ホタルルシフェラーゼ、その遺伝子、およびホタルルシフェラーゼの製造法 |
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WO2016051517A1 (ja) | 2014-09-30 | 2016-04-07 | オリンパス株式会社 | オレンジ色の発光を示すルシフェラーゼ |
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JP3048466B2 (ja) * | 1991-06-27 | 2000-06-05 | キッコーマン株式会社 | 耐熱性ホタルルシフェラーゼ、耐熱性ホタルルシフェラーゼ遺伝子、新規な組み換え体dna、及び耐熱性ホタルルシフェラーゼの製造法 |
GB9823468D0 (en) * | 1998-10-28 | 1998-12-23 | Secr Defence | Novel enzyme |
JP2011120559A (ja) * | 2008-12-26 | 2011-06-23 | Kikkoman Corp | ホタルルシフェラーゼ、その遺伝子、およびホタルルシフェラーゼの製造法 |
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