JP2011181789A - 半導体光源 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】外部信号光により制御される半導体光源において、注入電流により光を出力する分布帰還型レーザ部101と、分布帰還型レーザ部101に隣接して設けられた可変光減衰器部102と、可変光減衰器部102に隣接して設けられ、片側端面103aに高反射膜105が形成されて外部共振器を構成し、前記光が導波する光導波路部103を具備し、分布帰還型レーザ部101と可変光減衰器部102と光導波路部103とが同じ半導体基板上に作製されている。
【選択図】図1
Description
外部信号光により制御される半導体光源において、
注入電流により光を出力する分布帰還型半導体レーザと、
前記分布帰還型半導体レーザに隣接して設けられた可変光減衰器と、
前記可変光減衰器に隣接して設けられ、片側端面に高反射膜が形成されて外部共振器を構成し、前記光が導波する光導波路を具備し、
前記分布帰還型半導体レーザと前記可変光減衰器と前記光導波路とが同じ半導体基板上に作製されている
ことを特徴とする。
第1の発明に係る半導体光源であって、
前記可変光減衰器は、前記分布帰還型半導体レーザの活性層と同じ構造の光導波層を有し、前記光導波層の光吸収量を注入電流量で調整可能とした可変光減衰器である
ことを特徴とする。
第1の発明に係る半導体光源であって、
前記可変光減衰器は、電界吸収効果を用いた可変光減衰器である
ことを特徴とする。
本実施例に係る半導体光源100は、図1に示すように、分布帰還型(Distributed FeedBack,DFB)半導体レーザを構成するDFBレーザ部101に可変光減衰器を構成する可変光減衰器部102、及び光導波路を構成する光導波路部103をモノリシック集積した構造を備えている。
本実施例に係る半導体光源は、上述した第1の実施例に係る半導体光源にて、可変光減衰器部のみを変更した素子であって、それ以外は同一の素子を具備する。
12 半導体光増幅器の活性領域
13 上クラッド部
14 下クラッド部
20 マッハツェンダ型波長変換素子
21 第1の3dBカプラ
22 マッハツェンダ変調器の干渉アーム
23 第2の3dBカプラ
24 信号光入力導波路
25 半導体光増幅器
100 半導体光源
101 DFBレーザ部
102 可変光減衰器部
103 光導波路部
104 反射防止膜
105 高反射膜
106 DFBレーザ電流注入電極
107 可変光減衰器制御電極
108 半導体光源共通n側電極
110 活性層
111 回折格子
112 光導波層(可変光減衰器導波層)
113 光導波層
131,132 素子分離溝
200 半導体光源
202 可変光減衰器部
212 光導波層
Claims (3)
- 外部信号光により制御される半導体光源において、
注入電流により光を出力する分布帰還型半導体レーザと、
前記分布帰還型半導体レーザに隣接して設けられた可変光減衰器と、
前記可変光減衰器に隣接して設けられ、片側端面に高反射膜が形成されて外部共振器を構成し、前記光が導波する光導波路を具備し、
前記分布帰還型半導体レーザと前記可変光減衰器と前記光導波路とが同じ半導体基板上に作製されている
ことを特徴とする半導体光源。 - 前記可変光減衰器は、前記分布帰還型半導体レーザの活性層と同じ構造の光導波層を有し、前記光導波層の光吸収量を注入電流量で調整可能とした可変光減衰器である
ことを特徴とする、請求項1記載の半導体光源。 - 前記可変光減衰器は、電界吸収効果を用いた可変光減衰器である
ことを特徴とする、請求項1記載の半導体光源。
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