JP2011164307A - 空間光変調素子及び空間光変調素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】空間光変調素子の製造方法であって、電極が形成された電極側基板を準備するステップと、電極との間の静電力により可動する可動部、可動部の動きに連れて傾斜する反射鏡および可動部を支持する支持部を有する可動側基板を準備するステップと、可動側基板の支持部を電極側基板に貼り合わせるステップとを備える製造方法が提供される。可動側基板を準備するステップは、基板本体を準備するステップと、基板本体の一面をエッチングすることにより可動部を形成するステップと、可動部上に反射鏡を成膜するステップと、基板本体に他面をエッチングすることにより支持部を形成するステップとを有する。
【選択図】図1
Description
Claims (11)
- 空間光変調素子の製造方法であって、
電極が形成された電極側基板を準備するステップと、
前記電極との間の静電力により可動する可動部、前記可動部の動きに連れて傾斜する反射鏡および前記可動部を支持する支持部を有する可動側基板を準備するステップと、
前記可動側基板の前記支持部を前記電極側基板に貼り合わせるステップと
を備える製造方法。 - 前記可動側基板を準備するステップは、
基板本体を準備するステップと、
前記基板本体の一面をエッチングすることにより前記可動部を形成するステップと、
前記可動部上に前記反射鏡を成膜するステップと、
前記基板本体に他面をエッチングすることにより前記支持部を形成するステップと
を有する請求項1に記載の製造方法。 - 前記反射鏡を成膜するステップは、
前記基板本体の前記一面に犠牲層を形成するステップと、
前記犠牲層をパターニングするステップと、
前記パターニングされた犠牲層上に金属膜を成膜するステップと、
を備え、
前記貼り合わせステップの後に、前記犠牲層を除去するステップをさらに備える請求項2に記載の製造方法。 - 前記反射鏡を成膜するステップは、前記金属膜を成膜するステップの後に、前記金属膜の表面を研磨するステップをさらに有する請求項3に記載の製造方法。
- 前記反射鏡を成膜するステップは、前記犠牲層をパターニングするステップの後に、前記犠牲層の表面を研磨するステップをさらに有する請求項3に記載の製造方法。
- 前記基板本体は、SOI基板である請求項2から5のいずれかに記載の製造方法。
- 請求項1から6のいずれかに記載の製造方法により製造された空間光変調素子。
- 電極が形成された電極側基板と、
前記電極との間の静電力により可動する可動部、前記可動部の動きに連れて傾斜する反射鏡および前記可動部を支持する支持部を有し、前記支持部で前記電極側基板に貼り合わされた可動側基板と
を備える空間光変調素子。 - 前記電極、前記可動部および前記反射鏡の組が複数配列されている請求項8に記載の空間光変調素子。
- 請求項7から請求項9までのいずれかに記載の空間光変調素子を備える照明光発生装置。
- 請求項10に記載の照明光発生装置を備える露光装置。
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