JP6070860B2 - 空間光変調器、光描画装置、露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
[特許文献1] 特開平09−101467号公報
[特許文献2] 米国特許第6791735号明細書
Claims (13)
- 基板と、
反射鏡、前記反射鏡を支持しつつ前記基板に対して変位する可動部、および、前記可動部よりも前記基板から離れた位置で前記可動部との間の静電力により前記可動部を吸着により当接させて位置決めする上部電極、を有する第一光変調素子と、
前記基板において前記第一光変調素子に隣接して配され、反射鏡、前記反射鏡を支持しつつ前記基板に対して変位する可動部、および、前記可動部よりも前記基板から離れた位置で前記可動部との間の静電力により前記可動部を吸着により当接させて位置決めする上部電極、を有する第二光変調素子と、
前記第一光変調素子の前記上部電極と、前記第二光変調素子の前記上部電極とを、前記基板に対して共通に支持する電極支持部と
を備える空間光変調器。 - 前記第一光変調素子および前記第二光変調素子の各々の前記上部電極のそれぞれは、複数の前記電極支持部の間に支持される請求項1に記載の空間光変調器。
- 前記第一光変調素子および前記第二光変調素子の各々の前記上部電極は、前記電極支持部に沿って配された中継配線層を介して、前記基板上に設けられた電気回路と電気的に結合される請求項1または2に記載の空間光変調器。
- 前記第一光変調素子の前記上部電極に結合された前記中継配線層は、前記第二光変調素子の前記上部電極に対して電気的に絶縁される請求項3に記載の空間光変調器。
- 前記第一光変調素子および前記第二光変調素子の各々において、前記上部電極は、前記反射鏡を支持する反射鏡支持部に対して対称な導体パターンを有する請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の空間光変調器。
- 前記第一光変調素子および前記第二光変調素子の各々において、前記上部電極および前記可動部の少なくとも一方は、前記上部電極および前記可動部の間を絶縁する絶縁層を更に有する請求項1から5までのいずれか一項に記載の空間光変調器。
- 前記第一光変調素子および前記第二光変調素子の各々は、
前記基板の表面に固定され、前記可動部との間の静電力により前記可動部を吸着により当接させて下部電極を更に備える請求項1から6までのいずれか一項に記載の空間光変調器。 - 前記可動部の前記基板に対する変位量は、前記反射鏡が反射する光の波長の整数倍に対して前記波長の1/4の差を有する請求項1から7までのいずれか一項に記載の空間光変調器。
- 前記上部電極の各々は、一直線上に並ばない少なくとも3つの前記電極支持部により支持される請求項1から8までのいずれか一項に記載の空間光変調器。
- 前記可動部は、単一の連結部により、前記基板に対して連結される請求項1から9までのいずれか一項に記載の空間光変調器。
- 請求項1から10のいずれか1項に記載の空間光変調器を用いて光像を描画する光描画装置。
- 請求項11に記載の光描画装置を用いて半導体を露光する露光装置。
- リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項12に記載の露光装置を用いて露光を行うデバイス製造方法。
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