JP2011159653A - ペースト及び耐プラズマ部材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】スクリーン印刷によってパターニング塗布されたペースト102をレジストとする。該ペーストは、耐フッ素プラズマ性を有する粒子からなる充填剤を樹脂に対して添加することを特徴とし、前記充填剤は、耐フッ素プラズマ性を有する酸化イットリウム(Y2O3)およびイットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG)のいずれか1種または両者の混合物である。
【選択図】図1
Description
また、非特許文献1及び非特許文献2に開示された方法では、フォトリソグラフィ技術と成膜技術を使用しているため、単位時間あたりの処理能力が低下してしまい、また、高価な露光機や成膜装置が必要になるため、手軽には実施しにくいという問題もみられた。
さらに、このようなペーストを用いることにより、生産性が高く、低コストの耐プラズマ部材を提供することを目的とする。
また、このようなペーストを用いることにより、生産性が高く、複雑形状も容易に製造できる耐プラズマ部材を提供することができる。
前記樹脂は、例えば、市販のスクリーン印刷型エッチングレジスト用ペーストを使用することができ、フェノール樹脂、ロジン変性フェノール樹脂及びロジン変性マレイン樹脂等で構成されたものを用いることができる。
前記樹脂は、充填剤の添加により、前記樹脂の粘度が高くなることを考慮した上で、シェアレートが100s−1のときの粘度が、1〜10Pa・sとなるような低粘度のものを用いることが好ましい。
一般的に、耐フッ素プラズマ性を有する物質には、金属フッ化物や金属酸化物が挙げられる。
しかしながら、金属フッ化物は、高熱による熱分解のため、有害なガスを発生し、安全性の面で問題が見られるため、使用することは好ましくない。
また、酸化イットリウム又はイットリウム・アルミニウム・ガーネット等のイットリウム含有酸化物以外の金属酸化物は、イットリウム含有酸化物と比較して耐フッ素プラズマ性が低く、また、入手が容易でないため、使用することはあまり好ましくない。
図1に示すように、最初に、ガラス基板100及びスクリーンマスク101を準備する(図1(a))。
次に、スクリーンマスク101をガラス基板100の一面上に設置し、本発明に係るペーストを塗布する(図1(b))。
次に、スクリーンマスク101をガラス基板100の一面上から取り除く(図1(c))。これによってレジストパターン102が形成される。
次に、レジストパターン102が形成されたガラス基板100の一面上に対してフッ素プラズマを照射し、レジストパターン102が形成されていないガラス基板の表面(図中104)をエッチングする(図1(d)、(e))。
最後に、レジストパターン102を取り除く(図1(f))。
図2に示すように、従来のペーストを用いる場合には、フッ素プラズマ照射時において、レジストパターン202の膜厚が減少又は消失してしまい、パターニング不良(図2(f))が発生する恐れがある。
前記体積率が5%未満では、耐フッ素プラズマ性が著しく低下したりする場合があるため、好ましくない。
前記体積率が20%を超えると、ペーストの粘度が高くなり、印刷等をうまくすることできない場合があるため、好ましくない。なお、均一に分散を行うために、粒子は球状であることが好ましく、その大きさも均一であることがさらに好ましい。
前記最大粒子径が1μm以下であると、ピンホールの発生を低減することができ、また、印刷パターンのエッジのシャープさを得ることができるためである。
前記最大粒子径が1μmを超えると、スクリーンマスクの目詰まりが発生し、作業効率が低下する場合があるため、好ましくない。
より好適には、前記充填剤の最大粒子径が500nm以下であることがさらに好ましい。
このような耐プラズマ部材は、上述したペーストを表面に塗布するだけでよいため、生産性が高く、複雑形状でも容易に製造することができる。また、ペーストを塗布される基材は、樹脂組成物などでも適用可能である。
本発明に係る耐プラズマ部材は、例えば、図3に示すように、SiO2等の無機材料で構成された基板300と、前記基板300の表面に被覆された前記ペースト310と、を備える。
以下、本発明を実施例に基づいてさらに具体的に説明するが、本発明は、下記実施例により限定解釈されるものではない。
分散した後、スクリーン印刷法でレジストパターンを厚さ10μmとなるように、20×0.5mmの石英ガラス(両面鏡面加工品)の片面へ塗布し、120℃のホットプレート上で乾燥固化した。
さらに、その後、エタノール中で超音波洗浄してレジストを除去し、レーザ顕微鏡にてエッチング深さを測定した。その結果を表1に示す。
一方、当該ペーストに対してY2O3を分散させなかった場合(体積率0%)、レジストは消失した
関西ペイント(株)製スクリーン印刷型エッチングレジスト用ペースト(商品名:アレスSPR−081)2gと、グリコサーマル法で合成したYAG(平均粒子径40nmの球状粒子)とを混合し、当該ペーストに対するYAGの体積率が、0%、1%、5%、10%、20%、30%となるように分散し、レジストを作製した。
分散した後、スクリーン印刷法でレジストパターンを厚さ10μmとなるように、20×0.5mmの石英ガラス(両面鏡面加工品)の片面へ塗布し、120℃のホットプレート上で乾燥固化した。
さらに、その後、エタノール中で超音波洗浄してレジストを除去し、レーザ顕微鏡にてエッチング深さを測定した。その結果を表2に示す。
したがって、これら条件では、フッ素耐性を示すことが認められた。
一方、当該ペーストに対してYAGを分散させなかった場合(体積率0%)、レジストは消失した。
101 スクリーンマスク
300 基板
310 ペースト
Claims (6)
- 耐フッ素プラズマ性を有する粒子からなる充填剤を樹脂に対して添加することを特徴とするペースト。
- 前記ペーストに対する前記充填剤の体積率が、5%以上20%以下であることを特徴とする請求項1に記載のペースト。
- 前記充填剤は、酸化イットリウムおよびイットリウム・アルミニウム・ガーネットのいずれか1種以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載のペースト。
- 前記充填剤の最大粒子径は、1μm以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のペースト。
- 前記ペーストは、スクリーン印刷用で使用されることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のペースト。
- 請求項1乃至5のいずれか1項に記載されたペーストで表面を被覆したことを特徴とする耐プラズマ部材。
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