JP2011140444A - デンプン被覆処理粉体及びその製造方法並びに化粧料 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】粉体とデンプンとを分散させたスラリーを加熱してデンプンを糊化させ粘性スラリーにした後、該粘性スラリーを凍結乾燥して粉砕するか、又は噴霧乾燥することで、デンプンを粉体表面に直接被覆する。
【選択図】なし
Description
また、第2発明によるデンプン被覆処理粉体の製造方法は、粉体とデンプンとを分散させたスラリーを加熱してデンプンを糊化させ粘性スラリーにした後、該粘性スラリーを凍結乾燥して粉砕するか、又は噴霧乾燥することで、デンプンを粉体表面に直接被覆することを特徴とするものである。
さらに、第3発明による化粧料は、第1発明のデンプン被覆処理粉体を配合してなることを特徴とするものである。
まず、ホモジナイザー等の分散機を用いて粉体を水に分散させ、そこに粉体表面に被覆すべき所定量のデンプンを添加して撹拌し、よく分散させる。次に、分散させながら60℃〜80℃に加熱してデンプンを糊化させ、粉体が均一に分散した粘性スラリーにする。この粘性スラリーを凍結させて凍結乾燥し、アトマイザー等を用いて粉砕した後、ターボスクリーナー等を用いて分粒するか、もしくは、粘性スラリーに熱をかけて撹拌しながらスプレードライヤー槽内に送り込み、噴霧乾燥した後、ターボスクリーナー等を用いて分粒することで、目的とするデンプン被覆処理粉体を得る。
また、粉体及びデンプンを分散させる水量は、粉体の吸水量及びデンプンの添加量にもよるが、凍結乾燥させる場合においては、粘性スラリーを室温程度に冷却しても沈降が起こらない粘度になる量であることが好ましく、具体的には、粉体の質量に対して100〜300質量%の範囲にあるのが好ましい。100質量%未満では粘性スラリーの粘度が著しく高くなるため、均一な分散が困難となる場合があり、300質量%を超えると粘性スラリーを室温程度に冷却すると沈降が起こり、均一な処理粉体が得られない。また、噴霧乾燥させる場合の水量は、スプレードライヤー槽内に詰まらせずに送り込むことができる粘度になる量であることが好ましく、具体的には、粉体の質量に対して500質量%以上であるのが好ましく、より好ましくは、500質量%〜1000質量%の範囲である。500質量%未満であると、スプレードライヤー槽内に送り込む際に詰まる場合があり、1000質量%を超えると、全体量が多くなるため、粘性スラリーの分散においてハンドリングが困難となる。
また、デンプンの粉体への表面処理量は、その表面処理される粉体の粒子径及び比表面積にもよるが、粉体の質量に対して1〜10質量%の範囲にあるのが好ましい。1質量%未満では本発明の効果を奏しない場合があり、10質量%を超えると凝集が強くなりすぎて感触が悪くなる場合があり、また、製造工程におけるハンドリングが困難になるため、好ましくない。
シリコーン系油剤としては、ジメチルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ポリエーテル変性オルガノポリシロキサン、フルオロアルキル・ポリオキシアルキレン共変性オルガノポリシロキサン、アルキル変性オルガノポリシロキサン、ポリグリセリル変性シリコーン、フルオロアルキル・ポリグリセリル変性シリコーン、末端変性オルガノポリシロキサン、フッ素変性オルガノポリシロキサン、アモジメチコーン、アミノ変性オルガノポリシロキサン、シリコーンゲル、アクリルシリコーン、トリメチルシロキシケイ酸、シリコーンRTVゴム等が挙げられ、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することも可能である。
エステル系油剤としては、アジピン酸ジデシル、(アジピン酸・2−エチルヘキサン酸・ステアリン酸)グリセリルオリゴエステル、イソステアリン酸エチル、イソステアリン酸セチル、イソステアリン酸イソプロピル、イソステアリン酸オクチル、イソステアリン酸イソステアリル、イソステアリン酸グリセリル、イソステアリン酸硬化ヒマシ油、イソステアリン酸コレステリル、イソステアリン酸バチル、イソステアリン酸フィトステリル、イソステアリン酸ヘキシル、イソステアリン酸ポリオキシエチレングリセリル、イソステアリン酸ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸イソトリデシル、イソパルミチン酸2−エチルヘキシル、イソペラルゴン酸2−エチルヘキシル、2−エチルヘキサン酸セチル、2−エチルヘキサン酸セトステアリル、2−エチルヘキサン酸ステアリル、オレイン酸イソデシル、オレイン酸オクチルドデシル、オレイン酸オレイル、オレイン酸エチル、オレイン酸グリセリル、オレイン酸ジグリセリル、オレイン酸コレステリル、オレイン酸ジヒドロコレステリル、オレイン酸デシル、オレイン酸フィトステリル、カプリル酸セチル、ジオクタン酸エチレングリコール、ジオレイン酸エチレングリコール、ジ(カプリル・カプリン酸)プロピレングリコール、ジカプリン酸ネオペンチルグリコール、ジオレイン酸プロピレングリコール、ジオクタン酸ネオペンチルグリコール、ジカプリル酸プロピレングリコール、ジペンタエリトリット脂肪酸エステル、ジパラメトキシケイ皮酸モノ2−エチルヘキサン酸グリセリル、ジメチルオクタン酸ヘキシルデシル、ジメチルオクタン酸オクチルドデシル、ジヤシ油脂肪酸ペンタエリスリット、ステアリン酸エチル、ステアリン酸硬化ヒマシ油、ステアリン酸2−エチルヘキシル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸ジグリセリル、ステアリン酸ステアリル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸コレステリル、12−ステアロイルヒドロキシステアリン酸イソセチル、12−ステアロイルヒドロキシステアリン酸ステアリル、12−ステアロイルヒドロキシステアリン酸イソステアリル、テトラ2−エチルヘキサン酸ペンタエリスリトール、テトラミリスチン酸ペンタエリスリトール、テトライソステアリン酸ペンタエリスリトール、トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル、トリオクタン酸トリメチロールプロパン、トリイソステアリン酸トリメチロールプロパン、トリイソオクタン酸トリメチロールプロパン、トリイソステアリン酸ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、トリオキシステアリン酸グリセリン、トリカプリル酸グリセリン、トリ(カプリル酸・カプリン酸・ミリスチン酸・ステアリン酸)グリセリン、トリウンデシル酸グリセリン、トリイソパルミチン酸グリセリン、トリイソステアリン酸グリセリン、トリ牛脂脂肪酸グリセリン、トリラノリン脂肪酸グリセリン、軟質ラノリン脂肪酸コレステリル、乳酸オクチルドデシル、乳酸ラウリル、ネオペンタン酸オクチルドデシル、パルミチン酸イソプロピル、パルミチン酸2−エチルヘキシル、パルミチン酸イソセチル、パルミチン酸イソステアリル、パルミチン酸セチル、ヒドロキシステアリン酸コレステリル、ヒドロキシステアリン酸2−エチルヘキシル、ヘキサオキシステアリン酸ジペンタエリトリット、ミリスチン酸イソトリデシル、ミリスチン酸イソセチル、ミリスチン酸イソステアリル、ミリスチン酸オクチルドデシル、ミリスチン酸デシル、ミリスチン酸ミリスチル、ミリスチン酸セチル、ミリスチン酸ブチル、モノヒドロキシステアリン酸硬化ヒマシ油、ラウリン酸イソステアリル、ラウロイルグルタミン酸ジ(コレステリル・オクチルドデシル)、ラウロイルグルタミン酸ジ(フィトステリル・オクチルドデシル)、ラウリン酸ヘキシル、ラノリン脂肪酸オクチルドデシル、ラノリン脂肪酸コレステリル、リシノレイン酸オクチルドデシル、リシノレイン酸グリセリル、リシノレイン酸セチル、リノール酸エチル、リノール酸イソプロピル、リンゴ酸ジイソステアリル等が挙げられ、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することも可能である。
水200質量部と酸化チタン90質量部とをホモミキサーにて回転数5000rpmで混合し、そこに馬鈴薯デンプン4質量部を投入し、30分間撹拌した。その後、80℃になるまでスラリーを加温して、馬鈴薯デンプンを糊化させた粘性スラリーにした。80℃に加温後30分間撹拌し、粘性スラリーを凍結乾燥した後、アトマイザーで粉砕を行って、デンプン被覆酸化チタンを得た。また、酸化チタンと同様にして、表面処理されたセリサイト、タルク、マイカ、赤酸化鉄、黄酸化鉄、黒酸化鉄、微粒子酸化チタン、微粒子酸化亜鉛を得た。
水200質量部と酸化チタン90質量部とをホモミキサーにて回転数5000rpmで混合し、そこに馬鈴薯デンプン10質量部を投入し、30分間撹拌した。その後、80℃になるまでスラリーを加温して、馬鈴薯デンプンを糊化させた粘性スラリーにした。80℃に加温後30分間撹拌し、粘性スラリーを凍結乾燥した後、アトマイザーで粉砕を行って、デンプン被覆酸化チタンを得た。また、酸化チタンと同様にして、表面処理されたセリサイト、タルク、マイカ、赤酸化鉄、黄酸化鉄、黒酸化鉄、微粒子酸化チタン、微粒子酸化亜鉛を得た。
製造実施例1、2で使用した、未処理の酸化チタン、セリサイト、タルク、マイカ、赤酸化鉄、黄酸化鉄、黒酸化鉄、微粒子酸化チタン、微粒子酸化亜鉛を製造比較例1とした。
次に、製造実施例1により得られたデンプン被覆処理粉体を用いて、以下の配合にてパウダーファンデーションを調製した。
[成分A]
被覆処理セリサイト 30.0
被覆処理タルク 22.0
被覆処理マイカ 18.0
被覆処理酸化チタン 8.8
被覆処理黄酸化鉄 3.7
被覆処理赤酸化鉄 1.2
被覆処理黒酸化鉄 0.7
ナイロンパウダー 3.6
[成分B]
ジメチルポリシロキサン 3.0
流動パラフィン 3.0
イソステアリン酸硬化ヒマシ油 4.0
オクチルドデカノール 2.0
合計 100.0
製造方法:
成分Aをミキサーにて混合した。次いで、均一に混合・溶解した成分Bを成分Aに加えてさらに混合した。得られた粉末をアトマイザーにて粉砕し、メッシュを通した後、金型を用いて金皿に打型して製品を得た。
製造実施例2により得られたデンプン被覆粉体を用いて、実施例1の配合にてパウダーファンデーションを調製した。
製造比較例1の未処理粉体を用いて、実施例1の配合にてパウダーファンデーションを調製した。
次に、製造実施例1により得られたデンプン被覆粉体を用いて、以下の配合にてリキッドファンデーションを調製した。
[成分A]
ジメチコンコポリオール/デカメチルシクロペンタ 15.0
シロキサン溶液(注1)
合成ワックス 1.0
ベヘン酸アラキル 0.5
トリヒドロキシステアリン 0.4
ラウレス−7 0.5
フェニルトリメチコン 5.0
イソノナン酸イソトリデシル 5.5
プロピルパラベン 0.1
シリコーンゲル(注2) 3.2
[成分B]
被覆処理酸化チタン 10.0
被覆処理タルク 4.0
被覆処理黄酸化鉄 0.8
被覆処理赤酸化鉄 0.3
被覆処理黒酸化鉄 0.1
[成分C]
精製水 残 部
プロピレングリコール 8.0
塩化ナトリウム 2.0
デヒドロ酢酸ナトリウム 0.3
フェノキシエタノール 0.2
エデト酸二ナトリウム 0.1
合計 100.0
(注1)BY22−008M(東レ・ダウコーニング社製)
(注2)KSG−16(信越化学工業社製)
製造方法:
成分Bをミキサーにて混合した。一方、成分Aを80℃に加温し、均一になるように混合した。ここに成分Bを撹拌下に徐々に添加し、50℃まで徐冷した。次いで、成分Cを80℃に加温し、均一に溶解させた後、50℃にまで徐冷した。成分Aに成分Cを撹拌下に加え、さらに良く撹拌し、室温まで冷却して得られた溶液を容器に充填し製品を得た。
製造実施例2により得られたデンプン被覆粉体を用いて、実施例3の配合にてリキッドファンデーションを調製した。
製造比較例1の未処理粉体を用いて、実施例3の配合にてリキッドファンデーションを調製した。
次に、製造実施例1により得られたデンプン被覆粉体を用いて、以下の配合にて口紅を調製した。
[成分A]
パラフィン 8.0
セレシン 6.0
キャンデリラロウ 2.0
リンゴ酸ジイソステアリル 20.0
トリ−2−ヘプチルウンデカン酸グリセリル 10.0
液状ラノリン 5.0
イソノナン酸イソトリデシル 5.0
トリオクタン酸グリセリル 残 部
[成分B]
被覆処理セリサイト 4.0
被覆処理酸化チタン 1.0
被覆処理赤酸化鉄 7.0
合計 100.0
製造方法:
成分Aを90℃にて溶解後、成分Bを混合し、ローラーを用いてさらに混合・粉砕を行った後、再溶解、脱気を行い、金型に充填し、冷却後取り出して容器に設置し製品を得た。
製造実施例2により得られたデンプン被覆粉体を用いて、実施例5の配合にて口紅を調製した。
製造比較例1の未処理粉体を用いて、実施例5の配合にて口紅を調製した。
次に、製造実施例1により得られたデンプン被覆粉体を用いて、以下の配合にてサンスクリーンを調製した。
[成分A]
イソノナン酸トリデシル 3.0
フェニルトリメチコン 1.0
ジメチコンコポリオール/デカメチルシクロペンタ 1.0
シロキサン溶液
シクロペンタシロキサン 30.0
PEG−10ジメチコン 5.0
[成分B]
被覆処理微粒子酸化チタン 7.0
被覆処理微粒子酸化亜鉛 15.0
[成分C]
精製水 残 部
1,3−ブチレングリコール 6.0
塩化ナトリウム 1.0
フェノキシエタノール 0.2
エデト酸二ナトリウム 1.0
合計 100.0
製造方法:
成分Bをミキサーにて混合した。一方、成分Aを80℃に加温し、均一になるように混合した。ここに成分Bを撹拌下に徐々に添加し、40℃まで徐冷した。次いで、成分Cを80℃に加温し、均一に溶解させた後、40℃にまで徐冷した。成分Aに成分Cを撹拌下に加え、さらに良く撹拌し、室温まで冷却して得られた溶液を容器に充填し製品を得た。
製造実施例2により得られたデンプン被覆粉体を用いて、実施例7の配合にてサンスクリーンを調製した。
製造比較例1の未処理粉体を用いて、実施例7の配合にてサンスクリーンを調製した。
◎:良好
○:やや良好
△:やや不良
×:不良
Claims (3)
- 粉体表面にデンプンを被覆処理してなることを特徴とするデンプン被覆処理粉体。
- 粉体とデンプンとを分散させたスラリーを加熱してデンプンを糊化させ粘性スラリーにした後、該粘性スラリーを凍結乾燥して粉砕するか、又は噴霧乾燥することで、デンプンを粉体表面に直接被覆することを特徴とするデンプン被覆処理粉体の製造方法。
- 請求項1に記載のデンプン被覆処理粉体を配合してなることを特徴とする化粧料。
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JP2010000417A JP5650408B2 (ja) | 2010-01-05 | 2010-01-05 | 化粧料 |
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CN114948815A (zh) * | 2022-06-09 | 2022-08-30 | 内蒙古科技大学 | 一种以天然草本植物制备的防晒定妆散粉及其制备方法 |
Citations (5)
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JPS6357516A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-12 | Tsumura Juntendo Inc | 入浴剤 |
JPH02157041A (ja) * | 1988-12-08 | 1990-06-15 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 吸湿性物質含有粉末の製造法 |
JPH03279954A (ja) * | 1990-03-28 | 1991-12-11 | Konica Corp | 画像形成材料及び画像形成材料の製造方法 |
JP2000514435A (ja) * | 1996-07-08 | 2000-10-31 | ナショナル・スターチ・アンド・ケミカル・インベストメント・ホールディング・コーポレーション | デンプン含有化粧品組成物および洗浄組成物 |
JP2009511078A (ja) * | 2005-10-21 | 2009-03-19 | ダニスコ・アクティーゼルスカブ | 共役酵素系を含有する組成物 |
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