JP2011132079A - 窒化アルミニウム単結晶とその製造方法および製造装置 - Google Patents
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- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 206
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 title claims abstract description 144
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 314
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 41
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 30
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 20
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 20
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 14
- NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N methylidynetantalum Chemical compound [Ta]#C NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910003468 tantalcarbide Inorganic materials 0.000 claims description 13
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 11
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- QIJNJJZPYXGIQM-UHFFFAOYSA-N 1lambda4,2lambda4-dimolybdacyclopropa-1,2,3-triene Chemical compound [Mo]=C=[Mo] QIJNJJZPYXGIQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910039444 MoC Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000005092 sublimation method Methods 0.000 claims description 10
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 10
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- -1 tungsten nitride Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 9
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 claims description 9
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- GPBUGPUPKAGMDK-UHFFFAOYSA-N azanylidynemolybdenum Chemical compound [Mo]#N GPBUGPUPKAGMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910026551 ZrC Inorganic materials 0.000 claims description 7
- OTCHGXYCWNXDOA-UHFFFAOYSA-N [C].[Zr] Chemical compound [C].[Zr] OTCHGXYCWNXDOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 7
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 50
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 23
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 12
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 7
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 7
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 7
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 238000004854 X-ray topography Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000009643 growth defect Effects 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000007716 flux method Methods 0.000 description 2
- 238000002248 hydride vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000002109 crystal growth method Methods 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000007770 graphite material Substances 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000927 vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 1
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明の窒化アルミニウム単結晶の製造装置1は、上部に開口部を有し、内底部に原料12を収納する坩堝11と、前記開口部近傍に設置された蓋体13と、蓋体13の下面側に原料12と対向するように配置された種子基板14と、種子基板14の下部に配置され、かつ、種子基板14の外周部の少なくとも一部に接し、その中心部に種子基板14の外径より小さな貫通開口を有する種子基板保持部材15とを備え、種子基板14は、種子基板保持部材15により保持されていることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
窒化アルミニウム単結晶の特徴としては、熱伝導率が290Wm−1K−1と非常に高いことが挙げられ、デバイス動作時に発生する熱を拡散する上で大変有利である。
坩堝51は、黒鉛もしくは炭化金属等によって形成された容器であり、その底部には、窒化アルミニウムを主な組成とする原料12が収納されている。坩堝51の上面には蓋体52が載置されており、蓋体52と坩堝51によって内部空間18が形成されている。蓋体52の下面には窒化アルミニウムまたは炭化シリコン(SiC)等により形成された種子基板14が固着されている。
坩堝51は、加熱手段21を備えた結晶成長用炉10内に固定されている。結晶成長用炉10の天井部には窒素ガスなどのガス導入部22が形成されているとともに、結晶成長用炉10の底部には窒素ガスなどのガス排出部23が形成されており、結晶成長用炉10の内部を、所定のガス圧に調整することが可能となっている。
窒化アルミニウム単結晶16を成長させる際は、加熱手段21によって坩堝51を約2000℃まで加熱して、窒化アルミニウムを主な組成とする原料12を昇華させる。これにより窒化アルミニウム組成の昇華ガスが発生し、種子基板14上に移送されることで昇華ガスから窒化アルミニウム単結晶16として再結晶化する。この時、昇華ガスの移送を促進するため、種子基板14の温度は原料温度よりも低く設定される。
また、種子基板と接着剤、さらに、接着剤と坩堝との間の熱膨張係数差が存在する場合、2000℃付近での高温結晶成長時もしくは成長開始前の昇温中に種子基板が坩堝内壁から剥離するなど、種子基板を坩堝内壁に接着保持させた状態で結晶成長を行えない場合があった。また、接着剤により結晶成長時に種子基板が坩堝内壁に固着されていたとしても、上述の熱膨張係数差によって種子基板が大きく歪み、その影響で成長結晶の結晶性が悪化する問題もあった。
本発明の記載の窒化アルミニウム単結晶の製造装置は、前記種子基板は、前記種子基板保持部材と前記蓋体との間に狭持されていることが好ましい。
本発明の窒化アルミニウム単結晶の製造装置は、前記坩堝が、黒鉛、窒化硼素、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、炭化珪素、窒化珪素、モリブデン、タングステン、タンタル、炭化モリブデン、炭化ジルコニウム、炭化タングステン、炭化タンタル、窒化モリブデン、窒化ジルコニウム、窒化タングステン、窒化タンタルのうち少なくとも一種類から形成されることが好ましい。
本発明の窒化アルミニウム単結晶の製造装置は、前記蓋体及び前記種子基板保持部材が、黒鉛、窒化硼素、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、炭化珪素、窒化珪素、モリブデン、タングステン、タンタル、炭化モリブデン、炭化ジルコニウム、炭化タングステン、炭化タンタル、窒化モリブデン、窒化ジルコニウム、窒化タングステン、窒化タンタルのうち少なくとも一種類から形成されていることも好ましい。
本発明の窒化アルミニウム単結晶の製造装置は、前記種子基板は、前記種子基板保持部材と前記蓋体との間に狭持されていることが好ましい。
本発明の窒化アルミニウム単結晶の製造方法は、前記坩堝が、黒鉛、窒化硼素、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、炭化珪素、窒化珪素、モリブデン、タングステン、タンタル、炭化モリブデン、炭化ジルコニウム、炭化タングステン、炭化タンタル、窒化モリブデン、窒化ジルコニウム、窒化タングステン、窒化タンタルのうち少なくとも一種類から形成されることが好ましい。
本発明の窒化アルミニウム単結晶の製造方法は、前記蓋体及び前記種子基板保持部材が、黒鉛、窒化硼素、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、炭化珪素、窒化珪素、モリブデン、タングステン、タンタル、炭化モリブデン、炭化ジルコニウム、炭化タングステン、炭化タンタル、窒化モリブデン、窒化ジルコニウム、窒化タングステン、窒化タンタルのうち少なくとも一種類から形成されることも好ましい。
さらに、本発明は、上記窒化アルミニウム単結晶の製造方法を用いて得られる窒化アルミニウム単結晶を提供する。
<第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係る窒化アルミニウム単結晶の製造装置の一例を模式的に示す概略構成図である。図1において、図4で示した従来の製造装置の要素と同一の要素には同一の符号を付してある。本実施形態の窒化アルミニウム単結晶の製造装置1は、昇華法によって種子基板上に窒化アルミニウムを昇華再結晶させて、窒化アルミニウム単結晶を成長させる装置である。
結晶成長用の種子基板14は、例えば、板状又は円板状のSiC単結晶、AlN単結晶、AlN/SiC単結晶(SiC単結晶上に膜厚200〜500μm程度のAlN単結晶膜をヘテロ成長させた単結晶)である。
また、坩堝11の内底部には窒化アルミニウム粉末などの原料12が直接収納されるとともに、蓋体13と種子基板保持部材15との間には種子基板14が設置され、バルク結晶成長に適した窒化アルミニウムの昇華ガスに曝される。よって、坩堝11、蓋体13及び種子基板保持部材15を構成する材料は、窒化アルミニウムの昇華ガスによる腐食を受けないものに限られる。加えて、これらの坩堝11、蓋体13及び種子基板保持部材15を構成する材料からの窒化アルミニウム単結晶16への汚染(固溶による汚染)を防ぐために、アルミニウムのイオン半径と大きく異なる金属の単体、ないしはその窒化物又は炭化物が望ましい。したがって、坩堝11、蓋体13及び種子基板保持部材15の材料として前記した材料の中でも、モリブデン、タングステン、タンタル、窒化モリブデン、窒化タングステン、窒化タンタル、炭化モリブデン、炭化タングステン、炭化タンタルがより好ましい。
なお、酸化物については、放出された酸素により窒化アルミニウム結晶中に酸窒化アルミニウム(AlON)層を形成し、窒化アルミニウムの結晶成長を阻害するため、用いることはできない。
種子基板保持部材15の貫通開口15Aの内周部近傍は、種子基板14の外周部と接するように設置されており、種子基板14は蓋体13の下面と種子基板保持部材15の上面との間に狭持されて、保持されている。そのため、種子基板14は、従来の製造装置のように、接着剤などで蓋体13に固着されることなく、蓋体13の下面に原料12と対向して配置される。窒化アルミニウム単結晶製造時は、原料12から発生した窒化アルミニウ蒸気が、種子基板保持部材15の貫通開口に露出している種子基板14上に堆積して、窒化アルミニウム単結晶16が成長する。
なお、種子基板保護部材15bの材質は、上述した種子基板保持部材15を構成する材料と同一のものが挙げられる。
また、種子基板保持部材15aと種子基板保護部材15bとを一体に形成した構造としては、図2(b)に示す種子基板保持部15Cの形状に限定されるものではなく、図2(d)に示す如く、その開口部の大きさをテーパー状に連続的に変化させた構造の種子基板保持部15Eとすることも有効である。種子結晶保持部材15及び種子結晶保持部形状の開口部の構造は、このように種子結晶14の脱落が防げるように種子結晶14の外径より小さい開口寸であればよく、開口形状は特に限定されるものではない。なお、上述した図2(b)に示す例と同様に、図2(d)に示す例においても、種子基板14は、種子基板保持部15Eと蓋体13との間に狭持されていてもよく、単に、種子基板保持部15E上に設置されて保持されていてもよい。
まず、窒化アルミニウム粉末等の原料12を坩堝11内底部にセットし、種子基板保持部材15により種子基板14を保持して蓋体13の下面側に設置した後(図1に示す例では、種子基板14を種子基板保持部材15と蓋体13とで狭持させて設置した後)、坩堝11内の結晶成長空間17及び外側坩堝18と外側蓋体19とで形成された内部空間を準密閉状態とする。
次いで、不図示の真空ポンプを稼動させてガス排出口23より結晶成長用炉10内部の大気を除去し、結晶成長用炉10内の圧力を減圧させる。続いて、結晶成長用炉10にガス導入部22から窒素ガスを導入する。これにより、窒化アルミニウム単結晶の成長は、高純度窒素ガス雰囲気下で行われる。
そして、加熱手段21により外側坩堝18及び外側蓋体19を加熱し、不図示の放射温度計で外側坩堝18及び外側蓋体19の温度を測定してこれらの温度を制御する。窒化アルミニウム単結晶成長時は外側坩堝18の温度を1700〜2300℃で一定制御する。なお、窒化アルミニウム単結晶成長時は、外側坩堝18下端の温度(原料温度)は、外側蓋体19上側の温度(結晶成長部温度)よりも高温となるように設定する。
結晶成長は、前述の設定温度まで加熱した後に結晶成長用炉10を減圧することで開始され、100torr以上600torr以下に定圧保持することで行われる。
加熱で昇華させて分解気化された原料12は、窒素ガス雰囲気下で種子基板保持部材15の貫通開口部に露出した種子基板14上に結晶成長することで、種子基板14上に窒化アルミニウム単結晶16となり成長する。
次に本発明の第2実施形態について説明する。本発明の第2実施形態は、上述した第1実施形態の種子基板保持部材15により種子基板14を保持する構成を、CVD法(化学気相成長法)等の気相法に適用したものである。
図3は、本発明の第2実施形態に係る窒化アルミニウム単結晶の製造装置の一例を模式的に示す概略構成図である。図3において、図4で示した従来の製造装置及び図1で示した第1実施形態の製造装置1の要素と同一の要素には同一の符号を付し、説明を省略する。本実施形態の窒化アルミニウム単結晶の製造装置1Bは、気相法によって種子基板上に窒化アルミニウム単結晶を成長させる装置である。
成長容器35の外周に沿って、成長容器35の内部空間及び種子基板14を加熱する複数の加熱手段21が設けられている。また、成長容器21及び加熱手段21はチャンバー30によって包囲されている。チャンバー30の天井部には窒素ガス等のガス導入部31及びガス排出部32が設けられている。これにより、チャンバー30の内部を、所定のガス圧力に調整できるようになっている。
本実施形態において、種子基板14を保持する種子基板保持部材15の材質及び形状は、上記第1実施形態で挙げたものと同様のものが挙げられる。すなわち、上記第1実施形態における蓋体13を第2実施形態におけるサセプタ34に置き換えた構造である。また、サセプタ34は、例えば、黒鉛等の材料より形成されている。種子基板保持部材15をサセプタ34の下方に設ける方法としては、例えば、サセプタ34の下面に、種子基板保持部材15を接着、溶接等により接合する方法、サセプタ34下面に種子基板保部材15を爪部材、フック部材、係止部材等により固定する方法等により設置する方法が挙げられる。なお、上記第1実施形態と同様に、本実施形態においても、種子基板14は種子基板保持部材15とサセプタ34との間に狭持されていてもよいし、単に、種子基板保持部材15の上面に種子基板保持部材15に形成された貫通開口を塞ぐように載置されていてもよい。
まず、種子基板14を種子基板保持部材15により保持してサセプタ34の下面側に配置し(図3に示す例では、種子基板14を種子基板保持部材15とサセプタ34とで狭持させて配置し)、チャンバー30内をガス排出部32に接続された不図示の真空ポンプにより真空排気した後、ガス導入部31より窒素ガス等を成長容器35へ導入する。ここでの圧力は1〜760torr程度に設定することができる。続いて、加熱手段21により成長容器35内及び種子基板14を2000℃程度に加熱する。
その後、原料ガス供給部33の原料ガス供給口33Aより、窒化アルミニウムの原料ガスである、トリメチルアルミニウムの蒸気、窒素、水素、アンモニア等を導入する。成長容器35内に導入された原料ガスは、窒素ガス雰囲気下で、種子基板保持部材15の貫通開口部に露出した種子基板14上に、窒化アルミニウム単結晶16となり成長する。
(実施例1)
図1に示した製造装置1にて種子基板14上に窒化アルミニウム単結晶の成長を行った。種子基板14としては、円板状の6H−SiC単結晶(直径50mm、厚さ600μm)を用いた。なお、成長面の方位および極性は(0001)Si面および(000−1)C面とした。種子基板保持部材15には1mm厚の円板状部材を用い、中心部にΦ30mmの裏面まで貫通する穴を穿ち、リング状部材とした。また、坩堝11、蓋体13及び種子基板保持部材15は炭化タンタル製のものを使用した。坩堝を成長装置内に設置した後、不図示のドライポンプ及びターボ分子ポンプを逐次稼動することにより、結晶成長用炉10内にある大気を除去し、結晶成長用炉10内圧力を5×10−6torrまで減圧した。この後、窒素ガスを装置内に導入し、700torrまで昇圧した。次に、坩堝温度を約2000℃に昇温したのち、結晶成長用炉10内圧力を100〜600torrへ減圧させることで、窒化アルミニウム結晶成長を開始した。成長開始から10〜120時間経過したところで、結晶成長用炉10内圧力を窒素ガスにより700torrまで昇圧し、その後、種子基板14および原料温度を室温まで冷却させることで結晶成長を終了させた。得られた窒化アルミニウム単結晶のサイズは直径30mm厚さは0.1〜5mmであり、成長速度は10〜120μm/hであった。
図1に示した製造装置1にて種子基板14上に窒化アルミニウム単結晶の成長を行った。種子基板14としては、円板状のAlN単結晶(直径38mm、厚さ1mm)を用いた。なお、成長面の方位および極性は(0001)Al面および(000−1)N面とした。種子基板保持部材15には1mm厚の円板状部材を用い、中心部にΦ30mmの裏面まで貫通する穴を穿ち、リング状部材とした。また、坩堝11、蓋体13及び種子基板保持部材15は炭化タンタル製のものを使用した。坩堝を成長装置内に設置した後、不図示のドライポンプ及びターボ分子ポンプを逐次稼動することにより、装置内にある大気を除去し、結晶成長用炉10内圧力を5×10−6torrまで減圧した。この後、窒素ガスを装置内に導入し、700torrまで昇圧した。次に、坩堝温度を約2200℃に昇温したのち、結晶成長用炉10内圧力を100〜600torrへ減圧させることで、窒化アルミニウム結晶成長を開始した。成長開始から10〜150時間経過したところで、結晶成長用炉10内圧力を窒素ガスにより700torrまで昇圧し、その後、種子基板温度および原料温度を室温まで冷却させることで結晶成長を終了させた。得られた窒化アルミニウム単結晶のサイズは直径30mm厚さは0.1〜7.5mmであり、成長速度は10〜100μm/hであった。
図1に示した製造装置1にて種子基板14上に窒化アルミニウム単結晶の成長を行った。種子基板14としては、円板状のAlN/SiC単結晶(SiC結晶上に膜厚200〜500μm程度のAlN単結晶膜をヘテロ成長させた単結晶、直径38mm、厚さ1mm)を用いた。なお、成長面は(0001)Al面および(000−1)N面とした。種子基板保持部材15には5mm厚の円板状部材を用い、中心部に20mm角の裏面まで貫通する穴を穿ち、種子基板保持部材15とした。また、坩堝11、蓋体13及び種子基板保持部材15は炭化タンタル製のものを使用した。坩堝を成長装置内に設置した後、不図示のドライポンプ及びターボ分子ポンプを逐次稼動することにより、装置内にある大気を除去し、結晶成長用炉10内圧力を5×10−6torrまで減圧した。この後、窒素ガスを装置内に導入し、700torrまで昇圧した。次に、坩堝温度を約2000℃に昇温したのち、結晶成長用炉10内圧力を100〜600torrへ減圧させることで、窒化アルミニウム結晶成長を開始した。成長開始から10〜100時間経過したところで、結晶成長用炉10内圧力を窒素ガスにより700torrまで昇圧し、その後、種結晶温度および原料温度を室温まで冷却させることで結晶成長を終了させた。得られた窒化アルミニウム単結晶のサイズは直径25mm厚さは0.1〜6mmであり、成長速度は10〜130μm/hであった。また、種子基板上以外の坩堝内壁に堆積したAlN多結晶の厚みは20〜150μmであった。
Claims (11)
- 上部に開口部を有し、内底部に原料を収納する坩堝と、
前記開口部近傍に設置された蓋体と、
前記蓋体の下面側に前記原料と対向するように配置された種子基板と、
前記種子基板の下部に配置され、かつ、前記種子基板の外周部の少なくとも一部に接し、その中心部に前記種子基板の外径より小さな貫通開口を有する種子基板保持部材とを備え、
前記種子基板は、前記種子基板保持部材により保持されていることを特徴とする窒化アルミニウム単結晶の製造装置。 - 前記種子基板は、前記種子基板保持部材と前記蓋体との間に狭持されていることを特徴とする請求項1に記載の窒化アルミニウム単結晶の製造装置。
- 前記坩堝は、黒鉛、窒化硼素、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、炭化珪素、窒化珪素、モリブデン、タングステン、タンタル、炭化モリブデン、炭化ジルコニウム、炭化タングステン、炭化タンタル、窒化モリブデン、窒化ジルコニウム、窒化タングステン、窒化タンタルのうち少なくとも一種類から形成されることを特徴とする請求項1または2に記載の窒化アルミニウム単結晶の製造装置。
- 前記蓋体及び前記種子基板保持部材は、黒鉛、窒化硼素、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、炭化珪素、窒化珪素、モリブデン、タングステン、タンタル、炭化モリブデン、炭化ジルコニウム、炭化タングステン、炭化タンタル、窒化モリブデン、窒化ジルコニウム、窒化タングステン、窒化タンタルのうち少なくとも一種類から形成されることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の窒化アルミニウム単結晶の製造装置。
- 下部に原料ガスを導入する原料ガス供給部と、それに対向するサセプタを備えた成長容器と、
前記サセプタの下面側に前記原料ガス供給部と対向するように配置された種子基板と、
前記種子基板の下部に配置され、かつ、前記種子基板の外周部の少なくとも一部に接し、その中心部に前記種子基板の外径より小さな貫通開口を有する種子基板保持部材とを備え、
前記種子基板は、前記種子基板保持部材により保持されていることを特徴とする窒化アルミニウム単結晶の製造装置。 - 前記種子基板は、前記種子基板保持部材と前記蓋体との間に狭持されていることを特徴とする請求項5に記載の窒化アルミニウム単結晶の製造装置。
- 昇華法による窒化アルミニウム単結晶の製造方法であって、
上部に開口部を有し、内底部に原料を収納する坩堝と、
前記開口部近傍に設置された蓋体と、
前記蓋体の下面側に前記原料と対向するように配置された種子基板と、
前記種子基板の下部に配置され、かつ、前記種子基板の外周部の少なくとも一部に接し、前記種子基板を保持する種子基板保持部材と、
前記坩堝を加熱する加熱手段とを備え、
前記加熱手段により前記坩堝を加熱することにより前記原料を昇華させて、前記種子基板の前記原料と対向する面上に単結晶を成長させることを特徴とする窒化アルミニウム単結晶の製造方法。 - 前記坩堝は、黒鉛、窒化硼素、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、炭化珪素、窒化珪素、モリブデン、タングステン、タンタル、炭化モリブデン、炭化ジルコニウム、炭化タングステン、炭化タンタル、窒化モリブデン、窒化ジルコニウム、窒化タングステン、窒化タンタルのうち少なくとも一種類から形成されることを特徴とする請求項7に記載の窒化アルミニウム単結晶の製造方法。
- 前記蓋体及び前記種子基板保持部材は、黒鉛、窒化硼素、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、炭化珪素、窒化珪素、モリブデン、タングステン、タンタル、炭化モリブデン、炭化ジルコニウム、炭化タングステン、炭化タンタル、窒化モリブデン、窒化ジルコニウム、窒化タングステン、窒化タンタルのうち少なくとも一種類から形成されることを特徴とする請求項7または8に記載の窒化アルミニウム単結晶の製造方法。
- 気相法による窒化アルミニウム単結晶の製造方法であって、
下部に原料ガスを導入する原料ガス供給部と、それに対向するサセプタを備えた成長容器と、前記サセプタ下部に種子基板を保持する種子基板保持部材とを備え、
前記原料ガス供給部から原料ガスを導入し、前記原料ガスを前記種子基板の前記原料ガス供給部と対向する面上に堆積させて単結晶を成長させることを特徴とする窒化アルミニウム単結晶の製造方法。 - 請求項7〜10に記載の製造方法を用いて得られる窒化アルミニウム単結晶。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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JP2009294101A JP5517123B2 (ja) | 2009-12-25 | 2009-12-25 | 窒化アルミニウム単結晶とその製造方法および製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011132079A true JP2011132079A (ja) | 2011-07-07 |
JP5517123B2 JP5517123B2 (ja) | 2014-06-11 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2009294101A Active JP5517123B2 (ja) | 2009-12-25 | 2009-12-25 | 窒化アルミニウム単結晶とその製造方法および製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5517123B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013133274A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Fujikura Ltd | 種結晶保持部材、窒化アルミニウム単結晶の製造方法およびその製造装置 |
JP2013237600A (ja) * | 2012-05-17 | 2013-11-28 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 窒化アルミニウム結晶の成長方法 |
JP2014024736A (ja) * | 2012-07-30 | 2014-02-06 | Fujikura Ltd | 窒化アルミニウム単結晶の製造装置および製造方法 |
JP6291615B1 (ja) * | 2017-05-23 | 2018-03-14 | Jfeミネラル株式会社 | 窒化アルミニウム単結晶製造装置 |
JP6317868B1 (ja) * | 2017-05-23 | 2018-04-25 | Jfeミネラル株式会社 | 窒化アルミニウム単結晶製造装置 |
CN113957536A (zh) * | 2021-09-23 | 2022-01-21 | 奥趋光电技术(杭州)有限公司 | 一种用于PVT的复合结构AlN籽晶及其制备与应用 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000091246A (ja) * | 1998-09-08 | 2000-03-31 | Ricoh Co Ltd | 結晶成長装置及び結晶成長方法 |
JP2005343722A (ja) * | 2004-06-01 | 2005-12-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | AlN結晶の成長方法、AlN結晶基板および半導体デバイス |
JP2006021964A (ja) * | 2004-07-08 | 2006-01-26 | Sumitomo Electric Ind Ltd | AlN単結晶およびその成長方法 |
-
2009
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000091246A (ja) * | 1998-09-08 | 2000-03-31 | Ricoh Co Ltd | 結晶成長装置及び結晶成長方法 |
JP2005343722A (ja) * | 2004-06-01 | 2005-12-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | AlN結晶の成長方法、AlN結晶基板および半導体デバイス |
JP2006021964A (ja) * | 2004-07-08 | 2006-01-26 | Sumitomo Electric Ind Ltd | AlN単結晶およびその成長方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013133274A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Fujikura Ltd | 種結晶保持部材、窒化アルミニウム単結晶の製造方法およびその製造装置 |
JP2013237600A (ja) * | 2012-05-17 | 2013-11-28 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 窒化アルミニウム結晶の成長方法 |
JP2014024736A (ja) * | 2012-07-30 | 2014-02-06 | Fujikura Ltd | 窒化アルミニウム単結晶の製造装置および製造方法 |
JP6291615B1 (ja) * | 2017-05-23 | 2018-03-14 | Jfeミネラル株式会社 | 窒化アルミニウム単結晶製造装置 |
JP6317868B1 (ja) * | 2017-05-23 | 2018-04-25 | Jfeミネラル株式会社 | 窒化アルミニウム単結晶製造装置 |
JP2018197174A (ja) * | 2017-05-23 | 2018-12-13 | Jfeミネラル株式会社 | 窒化アルミニウム単結晶製造装置 |
JP2018197173A (ja) * | 2017-05-23 | 2018-12-13 | Jfeミネラル株式会社 | 窒化アルミニウム単結晶製造装置 |
CN113957536A (zh) * | 2021-09-23 | 2022-01-21 | 奥趋光电技术(杭州)有限公司 | 一种用于PVT的复合结构AlN籽晶及其制备与应用 |
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