JP2011124522A - 光電変換装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明は上記課題に鑑み、複数の光電変換領域と、前記複数の光電変換領域上に配された層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜に接して配された、該層間絶縁膜とは異なる屈折率を有する保護絶縁膜と、を有する光電変換装置において、各光電変換領域の受光面に配された凹部と、該凹部を埋め込む埋込領域とを有し、前記凹部の深さdは各第一半導体領域への入射光の波長をλとし、前記埋込領域の屈折率をnとしたとき、d≧λ/4nであることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
d≧λ/4n (数式1)
を満たす深さとなっている。ここで深さdは凹部が配されていない領域を基準とする。また、入射光は可視光用光電変換装置であれば短波長側が360nm〜400nm、長波長側が760nm〜830nmの範囲内である。少なくとも短波長側の光に対して効果があるため、入射光の波長を360nmとすることができる。更に、可視光波長域全域に対して効果を得る必要があれば、入射光の波長を830nmとすればよい。更に、光電変換領域に対応してカラーフィルタを有する場合、各色のカラーフィルタのピーク波長である。カラーフィルタがベイヤパターンを有している場合には、λは、青色のカラーフィルタを透過する光のピーク波長とすることができる。
本実施例の特徴は、凹部を埋める埋込領域112上に第1の層間絶縁膜より大きい屈折率を持つ膜を配する。たとえば屈折率n=2.0のシリコン窒化膜513である。シリコン窒化膜513は反射防止膜として機能する。シリコン窒化膜はこれにより更に第1の層間絶縁膜108と光電変換領域との界面における反射が抑えられ、リップル低減と同時に高い感度も得られる。
本実施例の特徴は、凹部形成時に成膜される絶縁膜をウエットエッチング等で除去し、複数の光電変換領域にわたって第1の絶縁膜としてシリコン酸化膜613を成膜する。その直上にシリコン酸化膜よりも大きい屈折率をもつ第2の絶縁膜、たとえばシリコン窒化膜612を設ける構造にある。本実施例の構造では画素全面での反射防止効果が得られ、実施例2よりさらに高感度が得られる。
以上本発明を各実施例を元に具体的に説明したがこれらの構成に限られるものではない。例えば、凹部を埋める埋込領域としてシリコン酸化膜ではなく有機膜やシリコン窒化膜を用いてもよい。層間絶縁膜108と凹部を埋める絶縁体とを別材料で構成することもできる。
また、光電変換領域で生じた電荷をフローティングディフュージョンへ転送する転送トランジスタを有する構成としてもよい。
101 埋め込み半導体領域
102 半導体領域
103 画素分離領域
105 半導体領域
111 凹部
112 埋込領域
Claims (10)
- 複数の光電変換領域と、
前記複数の光電変換領域上に配された層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜に接して配された、該層間絶縁膜とは異なる屈折率を有する保護絶縁膜と、を有する光電変換装置において、
各光電変換領域の受光面に配された凹部と、該凹部を埋め込む埋込領域とを有し、前記凹部の深さdは各光電変換領域への入射光の波長をλとし、前記埋込領域の屈折率をnとしたとき、d≧λ/4nであることを特徴とする光電変換装置。 - 前記光電変換領域の受光面及び前記凹部の表面に、前記層間絶縁膜よりも屈折率の高い反射防止膜を配することを特徴とする請求項1に記載の光電変換装置。
- 前記埋込領域は、第1の絶縁膜と、該第1の絶縁膜に接して該第1の絶縁膜より屈折率が大きい第2の絶縁膜とにより構成されることを特徴とする請求項1に記載の光電変換装置。
- 前記凹部及び前記埋込領域がLOCOS法で形成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 前記光電変換領域が第1の半導体領域と、該第1の半導体領域とPN接合を構成する第2の半導体領域を含んで構成されており、
前記第2の半導体領域は読み出し回路と電気的に接続されており、
前記凹部は前記第1の半導体領域により囲まれていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 前記凹部は所定のピッチで繰り返し配置されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 前記凹部の深さはλ/4n≦d≦λであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 更に、前記光電変換領域に対応してカラーフィルタを有しており、前記入射光は、前記カラーフィルタを透過する光のピーク波長であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 前記カラーフィルタはベイヤパターンを有しており、前記入射光は、青色のカラーフィルタを透過する光のピーク波長であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- シリコン基板に配された複数の光電変換領域と、
前記複数の光電変換領域上に配されたシリコン酸化膜と、
前記シリコン酸化膜に接して配された、該層間絶縁膜とは異なる屈折率を有する保護絶縁膜と、を有する可視光用光電変換装置において、
各光電変換領域の受光面に配された凹部と、該凹部を埋め込むシリコン酸化埋込領域とを有し、前記凹部の深さdは0.06μm≧d≧0.15μmであることを特徴とする可視光用光電変換装置。
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