JP2011123360A - 光学要素の位置制御装置 - Google Patents

Abstract

【課題】電磁アクチュエータによる位置制御を外れる離脱位置への移動を別の挿脱動作部材によって行わせる光学要素の位置制御装置で、離脱状態でのスペース効率向上を図る。
【解決手段】光学系に加わる振れの大きさと方向に応じて、コイルの通電制御によって防振駆動範囲内で移動部材を駆動制御する電磁アクチュエータ；及び、電磁アクチュエータとは異なる駆動源によって、移動部材を防振駆動範囲に位置させる挿入位置と離脱位置に位置させる離脱保持位置との間で移動される挿脱動作部材；を有し、移動部材上の２つの磁石を、光学要素の略中心を通り移動部材の移動方向に向く離脱方向中心線を挟んで、各磁石の磁極の境界を通る磁極境界線が離脱位置側から防振駆動範囲側に進むにつれて互いの間隔を広くするように配置した。
【選択図】図９

Description

本発明は、光学要素の位置制御装置に関する。

近年、カメラなどの光学装置で、光学系の光軸と直交する平面内でレンズや撮像素子などの光学要素（以下、振れ補正光学要素）を移動させるタイプの像振れ補正手段が多用されている。そして、振れ補正光学要素が光軸と直交する方向の移動を行うことを利用して、光学装置の非使用状態における収納スペース効率の向上、特に光軸方向における光学系の薄型化を図った発明が提案されている。

特許文献１における像振れ補正ユニットは、振れ補正光学要素である第１のレンズを保持する保持手段を、光軸に直交する面内において互いに直交する２方向に駆動する電磁アクチュエータを備えている。そして、レンズ鏡筒の沈胴状態では、電磁アクチュエータによって保持部材を所定の退避位置に移動させ、第１のレンズが退避したことにより形成される空間内に第２のレンズ群を進入させることで、光学系の収納長を短縮させている。

特許文献２における撮像装置は、振れ補正光学要素である撮像素子を支持し光学系の光軸と直交する方向に移動可能な可動枠を、撮影状態では撮像素子が光軸上に位置する防振駆動範囲内で像振れ補正用の機構によって移動させ、収納状態では撮像素子が光軸上から離脱する位置まで、離脱駆動用の別機構によって移動させている。撮像装置の非使用状態では、光軸外位置に離脱させた振れ補正光学要素（撮像素子）と、光軸上に残る他の光学要素（レンズ群など）を同じ光軸直交面内に配置させることにより、光学系を光軸方向に薄型化させている。その具体的構成として、防振駆動範囲から離脱位置まで可動枠を移動可能に案内するガイド軸を備え、離脱駆動用の別機構は、ガイド軸に沿う方向の移動力を可動枠に与える揺動部材などによって構成される。

特開２００６-１４６１２５号公報 特開２００６-１５４６７４号公報

特許文献１では、第１のレンズの退避移動を電磁アクチュエータによって行わせているため、その退避移動量は電磁アクチュエータの駆動量の範囲内に制限される。電磁アクチュエータによる駆動量は、その構成要素であるコイルや磁石のスペックや位置関係などの諸条件によって決まるが、一般的に、コイルと磁石が遠く離間するような大きな駆動量を与えることは難しい。例えば、特許文献１の構成では、電磁アクチュエータの駆動量の制約によって、第１のレンズ及びその保持手段は、第２のレンズ及びその保持手段の全体を進入させることが可能なほど大きく光軸外に離脱させることができない。そのため、光学系の収納長の短縮効果は限定的なものになってしまう。

特許文献２の構成では、像振れ補正用の機構とは別に離脱駆動用の機構を備えているため、特許文献１のような駆動量の制約がなく、振れ補正光学要素である撮像素子と該撮像素子を保持する保持手段に対して、光軸外への離脱方向へ大きな移動量を与えることができる。よって、特許文献１のような電磁アクチュエータによる像振れ補正手段に特許文献２の離脱駆動機構を組み合わせることで、光学系の収納長の短縮に関してより高い効果が得られる。

本発明は、像振れ補正手段として電磁アクチュエータを用い、該電磁アクチュエータにより位置制御される防振駆動範囲から電磁アクチュエータによる位置制御を外れる離脱位置への移動を別の挿脱動作部材によって行わせる光学要素の位置制御装置において、離脱状態でのスペース効率向上、特に電磁アクチュエータに関する収納スペース効率の向上を図ることを目的とする。

本発明の光学要素の位置制御装置は、光学素子を保持し、該光学要素が光学系の光軸上に位置する防振駆動範囲から該防振駆動範囲を外れた離脱位置まで直進移動可能に支持部材に支持された移動部材；支持部材に支持されるコイルと移動部材に支持される磁石を備え、光学系に加わる振れの大きさと方向に応じて、コイルの通電制御によって防振駆動範囲内で移動部材を駆動制御する電磁アクチュエータ；及び、この電磁アクチュエータとは異なる駆動源によって、移動部材を防振駆動範囲に位置させる挿入位置と離脱位置に位置させる離脱保持位置との間で移動される挿脱動作部材；を有し、電磁アクチュエータは、移動部材が防振駆動範囲にあるときそれぞれが光軸方向に対向する第１の磁石及び第１の上記コイルと、第２の磁石及び第２の上記コイルを備える。そして、第１の磁石と第２の磁石は、光学要素の略中心を通り移動部材の移動方向に向く離脱方向中心線を挟んで、各磁石の磁極の境界を通る磁極境界線が離脱位置側から防振駆動範囲側に進むにつれて互いの間隔を広くするように配置されていることを特徴とする。

第１の磁石の磁極境界線と第２の磁石の磁極境界線は、離脱方向中心線に対して傾斜方向反対で略同一角度で交差することが好ましい。例えば、第１と第２の磁石の磁極境界線の離脱方向中心線に対する交差角を、それぞれ約４５度に設定すると、電磁アクチュエータの駆動効率と収納時のスペース効率を両立した構成になる。

さらに、移動部材を防振駆動範囲から離脱位置まで移動可能に支持し、該移動部材の移動方向と略直交する方向に移動可能に支持部材に支持された中間支持部材を備え、電磁アクチュエータが第１と第２のコイルの通電により移動部材と中間支持部材の両方を駆動制御するように構成できる。

この場合、中間支持部材を、離脱方向中心線と略直交する方向に延設される一対の第１方向辺部と、該一対の第１方向辺部を接続し離脱方向中心線と略平行に延設される一対の第２方向辺部と、該一対の第１方向辺部と一対の第２方向辺部で囲まれる開口空間とを有する枠状体として構成した上で、一対の第２方向辺部の一方と他方に沿って、離脱方向中心線と略平行に延設される一対の直進ガイド軸を備えるとよい。移動部材は、光学要素を保持する光学要素保持部と、該光学要素保持部から第１の磁石と第２の磁石のそれぞれの磁極境界線に沿う方向に延出されて一対の直進ガイド軸に摺動可能に支持される一対の支持腕部を有し、該一対の支持腕部の一方と他方に第１の磁石と第２の磁石が支持される。この支持構造を採用した場合、光軸に沿って見て、第１の磁石と第１のコイルの少なくとも一部が一対の直進ガイド軸の一方と重なる位置にあり、第２の磁石と第２のコイルの少なくとも一部が一対の直進ガイド軸の他方と重なる位置にあるように構成することで、移動部材の移動抵抗を軽減して高精度な駆動を行わせることができる。

本発明は、移動部材が防振駆動範囲にあるときに中間支持部材の開口空間内に位置し、該移動部材が離脱位置に移動することで形成される中間支持部材の開口空間内の領域に、移動部材上の光学要素と異なる第２の光学要素が進入する構造において特に有効である。

また本発明は、第１の磁石と第２の磁石がそれぞれ磁極境界線に沿う方向に長い細長矩形形状である場合に特に効果的である。

本発明は、移動部材上に支持される電磁アクチュエータの構成要素を磁石に代えてコイルとしても成立する。すなわち、本発明の異なる態様における光学要素の位置制御装置は、光学素子を保持し、該光学要素が光学系の光軸上に位置する防振駆動範囲から該防振駆動範囲を外れた離脱位置まで直進移動可能に支持部材に支持された移動部材；支持部材に支持される磁石と移動部材に支持されるコイルを備え、光学系に加わる振れの大きさと方向に応じて、コイルの通電制御によって上記防振駆動範囲内で上記移動部材を駆動制御する電磁アクチュエータ；及び、この電磁アクチュエータとは異なる駆動源によって、移動部材を防振駆動範囲に位置させる挿入位置と離脱位置に位置させる離脱保持位置との間で移動される挿脱動作部材；を有し、電磁アクチュエータは、移動部材が防振駆動範囲にあるときそれぞれが光軸方向に対向する第１の磁石及び第１のコイルと、第２の磁石及び第２のコイルを備え、第１のコイルと第２のコイルはそれぞれ直線状の長辺部を有する。そして、第１のコイルと第２のコイルは、光学要素の略中心を通り移動部材の移動方向に向く離脱方向中心線を挟んで、各コイルの長辺部に沿う長手方向線が離脱位置側から防振駆動範囲側に進むにつれて互いの間隔を広くするように配置されていることを特徴とする。

本発明の光学要素の位置制御装置によれば、電磁アクチュエータとは別の駆動源により駆動される挿脱動作部材によって、像振れ補正用の光学要素を保持した移動部材を防振駆動範囲から離脱位置に移動させるため、電磁アクチュエータの駆動量に制約されない離脱移動量を移動部材に与えることができる。そして、移動部材上に支持される電磁アクチュエータの構成要素である２つの磁石または２つのコイルを、離脱方向の中心線を挟んで離脱位置側から防振駆動範囲側に向けて徐々に間隔を広げる関係で配置している。これにより、移動部材が離脱位置に位置するときの光軸付近のスペースを大きく確保することができ、スペース効率に優れた収納状態が得られる。

本発明を適用したズームレンズ鏡筒の一実施形態を示す収納（沈胴）状態の断面図である。 同ズームレンズ鏡筒がズーム域のワイド端にある状態での断面図である。 同ズームレンズ鏡筒がズーム域のテレ端にある状態での断面図である。 同ズームレンズ鏡筒の撮像光学系を構成する第２レンズ群の支持構造を示す、後方から見た分解斜視図である。 第２レンズ群を支持する防振ユニットの前方斜視図である。 防振ユニットの分解斜視図である。 第２レンズ群が防振駆動位置にある撮影状態での防振ユニットを光軸方向前方から見た図である。 撮影状態での防振ユニットを光軸方向後方から見た図である。 第２レンズ群が離脱位置にある収納状態での防振ユニットを光軸方向前方から見た図である。 収納状態での防振ユニットを光軸方向後方から見た図である。 第２レンズ群を防振駆動位置に保持した状態の第２レンズ群支持構造の後方斜視図である。 図１１の状態を異なる角度で示した後方斜視図である。 第２レンズ群が防振駆動位置と離脱位置の途中にある状態の第２レンズ群支持構造の後方斜視図である。 第２レンズ群を離脱位置に保持した状態の第２レンズ群支持構造の後方斜視図である。 図１４の状態を異なる角度で示した後方斜視図である。 第２レンズ群を防振駆動位置に位置させた状態の挿脱駆動機構と防振ユニットの関係を光軸方向後方から見た図である。 図１６の挿脱駆動機構の一部を拡大した図である。 第２レンズ群を離脱位置に位置させた状態の挿脱駆動機構と防振ユニットの関係を光軸方向後方から見た図である。 図１８の挿脱駆動機構の一部を拡大した図である。 ズームレンズ鏡筒の回路構成の概略を示すブロック図である。 電磁アクチュエータの構成を異ならせた第２の実施形態で、第２レンズ群を防振駆動位置に位置させた撮影状態の防振ユニットを光軸方向前方から見た図である。 第２の実施形態で、第２レンズ群を離脱位置に位置させた収納状態の防振ユニットを光軸方向前方から見た図である。 挿脱駆動機構の構成を異ならせた第３の実施形態で、第２レンズ群を防振駆動位置に位置させた撮影状態での挿脱駆動機構と防振ユニットの関係を光軸方向後方から見た図である。 第３の実施形態で、第２レンズ群を離脱位置に位置させた収納状態での挿脱駆動機構と防振ユニットの関係を光軸方向後方から見た図である。

図１から図３に断面を示す沈胴式ズームレンズ鏡筒１０は、物体（被写体）側から順に第１レンズ群ＬＧ１、シャッタＳ、第２レンズ群（光学要素）ＬＧ２、第３レンズ群ＬＧ３、ローパスフィルタ１１及び撮像素子１２が配された撮像光学系を有する。この撮像光学系は焦点距離可変のズーム光学系であり、第１レンズ群ＬＧ１と第２レンズ群ＬＧ２を光学系の撮影光軸Ｏに沿って所定の軌跡で進退させることによってズーミングを行う。また、撮影光軸Ｏに沿って第３レンズ群ＬＧ３を移動させることでフォーカシングを行う。以下の説明中で光軸方向とは、撮像光学系の撮影光軸Ｏと平行な方向を意味し、前方とは光軸方向の前方（被写体側）、後方とは光軸方向の後方（像面側）を意味する。

ズームレンズ鏡筒１０は、固定部材として筒状のハウジング１４を備える。ハウジング１４の後部に撮像素子ホルダ１５が固定され、撮像素子ホルダ１５の前面にローパスフィルタ１１と撮像素子１２が支持される。

図１５に示すように、第３レンズ群ＬＧ３は、３群レンズ枠１３のレンズ保持筒部１３ａに保持されている。第３レンズ群ＬＧ３は横長の矩形状をなし、これに対応してレンズ保持筒部１３ａも角筒状に形成されている。３群レンズ枠１３はレンズ保持筒部１３ａから外径方向に突出する一対のガイド腕１３ｂ、１３ｃ（図９、図１５に一部を示す）を有し、各ガイド腕１３ｂ、１３ｃの先端に設けたガイド孔（不図示）が光軸方向に延びるガイドシャフト（不図示）に対して摺動可能に嵌ることで、ハウジング１４に対して光軸方向に移動可能に支持されている。３群レンズ枠１３は、制御回路６０（図２０）に駆動制御されるＡＦモータ６１（図２０）によって光軸方向に進退駆動される。

ハウジング１４の内側にはヘリコイド環１６が支持されている。ヘリコイド環１６の外周面には不図示のズームギヤと噛み合う周面ギヤ１６ａが形成されており、ズームギヤは制御回路６０に駆動制御されるズームモータ（挿脱動作部材の駆動源）６２（図２０）によって回転駆動されてヘリコイド環１６に回転力を伝達する。図１の収納（沈胴）状態から図２のワイド端になる直前までの間、ハウジング１４とヘリコイド環１６はヘリコイド結合されており、ズームモータ６２を駆動させると、ハウジング１４の内面ヘリコイド１４ａの案内によってヘリコイド環１６が回転しながら光軸方向に移動する。一方、ワイド端とテレ端の間の撮影状態にあるときには、ヘリコイド結合が解除され、代わりにハウジング１４の内周面に形成した周方向溝１４ｂに対してヘリコイド環１６の外面に設けた回転案内突起１６ｂ（図２、図３）が係合し、ズームモータ６２の駆動に応じてヘリコイド環１６が光軸方向に移動せずに定位置で回転される。ヘリコイド環１６の前部には、該ヘリコイド環１６と共に回転及び光軸方向移動を行う第１繰出筒１７が結合されている。

第１繰出筒１７とヘリコイド環１６の内側には、第１直進案内環２０が支持されている。第１直進案内環２０は、ハウジング１４の内周面に形成した直線溝１４ｃ（図２）と直進案内突起２０ａとの係合関係により光軸方向に直進案内されており、第１繰出筒１７とヘリコイド環１６に対しては、相対回転は可能で光軸方向に共に移動するように係合している。

第１直進案内環２０には、内周面と外周面を貫通する貫通ガイド溝２０ｂが形成されている。貫通ガイド溝２０ｂは、撮影光軸Ｏに対して斜行するリード溝部分と、撮影光軸Ｏを中心とする周方向溝部分とを有していて、カム環２１の外周面に設けた外径突起２１ａが摺動可能に嵌まっている。外径突起２１ａはさらに、第１繰出筒１７の内周面に形成した撮影光軸Ｏと平行な回転伝達溝１７ａに係合しており、カム環２１は第１繰出筒１７と共に回転される。カム環２１は、貫通ガイド溝２０ｂのリード溝部分に外径突起２１ａが係合するときには、このリード溝部分の案内を受けて回転しながら第１繰出筒１７（ヘリコイド環１６）及び第１直進案内環２０に対して光軸方向に進退され、貫通ガイド溝２０ｂの周方向溝部分に外径突起２１ａが係合するときには、第１繰出筒１７（ヘリコイド環１６）及び第１直進案内環２０に対して光軸方向に相対移動せずに定位置で回転する。ヘリコイド環１６や第１繰出筒１７と同様に、収納状態と撮影状態の間ではカム環２１が回転しながら光軸方向に進退移動され、ワイド端とテレ端の間の撮影状態ではカム環２１が定位置回転される。

第１直進案内環２０の内周面には撮影光軸Ｏと平行な直線溝２０ｃが形成されている。直線溝２０ｃに対して、第２直進案内環２２の直進案内突起２２ａと、第２繰出筒２３の直進案内突起２３ａが摺動自在に係合し、これらの係合関係によって、第２直進案内環２２と第２繰出筒２３はそれぞれ光軸方向に直進案内されている。なお、図中では直進案内突起２２ａと直進案内突起２３ａが共通の直線溝２０ｃに係合するように描かれているが、直進案内突起２２ａと直進案内突起２３ａが係合する直線溝を第１直進案内環２０の内周面上に別々に形成してもよい。カム環２１は、第２直進案内環２２と第２繰出筒２３のそれぞれに対して相対回転可能かつ光軸方向に一体に移動するように支持されている。

第２直進案内環２２は、周方向に位置を異ならせて設けた３つの直進案内キー２２ｂを直線溝２５ａ（図４、図７ないし図１８）に摺動自在に係合させることによって、２群レンズ移動環（支持部材）２５を光軸方向に直進案内する。２群レンズ移動環２５の内部には、防振ユニット２６を介して第２レンズ群ＬＧ２が支持されている。防振ユニット２６は、第２レンズ群ＬＧ２を撮影光軸Ｏと略直交する平面に沿って移動可能に支持しており、その詳細については後述する。２群レンズ移動環２５内にはまた、シャッタＳを内蔵したシャッタユニット２７が防振ユニット２６の前部に固定されている。シャッタユニット２７内には、シャッタＳの開閉駆動を行わせるシャッタアクチュエータ６３（図２０）が設けられ、シャッタユニット２７の中央部にはシャッタＳによって開閉されるシャッタ開口２７ａが形成されている。

第２繰出筒２３の内周面には撮影光軸Ｏと平行な直線溝２３ｂが形成され、該直線溝２３ｂに対して第３繰出筒２８の直進案内突起２８ａが摺動自在に係合しており、第３繰出筒２８も光軸方向へ直進案内されている。第３繰出筒２８の内部には、１群レンズ枠２９を介して第１レンズ群ＬＧ１が支持されている。

カム環２１の内周面に形成した２群制御カム溝２１ｂに対し、２群レンズ移動環２５の外周面に設けた２群用カムフォロア２５ｂが係合している。２群レンズ移動環２５は第２直進案内環２２を介して光軸方向に直進案内されているため、カム環２１が回転すると、２群制御カム溝２１ｂの形状に従って、２群レンズ移動環２５すなわち第２レンズ群ＬＧ２が光軸方向へ所定の軌跡で移動する。

第３繰出筒２８は内径方向に突出する１群用カムフォロア２８ｂを有し、この１群用カムフォロア２８ｂが、カム環２１の外周面に形成した１群制御カム溝２１ｃに摺動可能に嵌合している。第３繰出筒２８は第２繰出筒２３を介して光軸方向に直進案内されているため、カム環２１が回転すると、１群制御カム溝２１ｃの形状に従って、第３繰出筒２８すなわち第１レンズ群ＬＧ１が光軸方向へ所定の軌跡で移動する。

ズームレンズ鏡筒１０は、撮像素子１２の受光面上での画像の振れを軽減させる像振れ補正装置を備えている。詳細は後述するが、この像振れ補正装置は、ズームレンズ鏡筒１０に加わる振れをＸジャイロセンサ６４とＹジャイロセンサ６５（図２０）で検出し、その検出情報に基づいて防振ユニット２６で第２レンズ群ＬＧ２を撮像光軸Ｏと直交する方向に駆動する。

図６に示すように、防振ユニット２６は、第１ステージ（中間支持部材）３０と第２ステージ（移動部材）３１を備える。第１ステージ３０は、２群レンズ移動環２５内に固定されたＸガイドシャフト３２に対して摺動可能に支持され、第２ステージ３１は第１ステージ３０上に固定されたＹガイドシャフト（直進ガイド軸）３３とＹガイドシャフト（直進ガイド軸）３４に対して摺動可能に支持されている。Ｘガイドシャフト３２は撮影光軸Ｏと直交する平面内で左右方向に軸線を向けており、以下ではこのＸガイドシャフト３２の延設方向である第１ステージ３０の移動方向をＸ方向またはＸ軸と呼ぶ。Ｙガイドシャフト３３、３４は、撮影光軸Ｏと直交する平面内でＸガイドシャフト３２と直交する上下方向に軸線を向けており、以下ではこのＹガイドシャフト３３、３４の延設方向である第２ステージ３１の移動方向をＹ方向またはＹ軸と呼ぶ。

第１ステージ３０は、Ｙ方向に離間しＸ方向に延設された上辺部（第１方向辺部）３０ａ及び下辺部（第１方向辺部）３０ｂと、Ｘ方向に離間しＹ方向に延設された側辺部（第２方向辺部）３０ｃ及び側辺部（第２方向辺部）３０ｄとを有し、これら各辺に囲まれる中央部を開口３０ｅとした四角枠形状をなす。開口３０ｅは、３群レンズ枠１３のレンズ保持筒部１３ａが進入可能な大きさ及び形状であり、図９や図１０から分かるように、開口３０ｅ内の上辺部３０ａに隣接する位置にレンズ保持筒部１３ａを進入させたとき、レンズ保持筒部１３ａと下辺部３０ｂの間に空きスペースが得られる。下辺部３０ｂには、光軸方向後方に向けて曲折されてその前面側を凹状としたオフセット凹部３０ｆが形成されている。上辺部３０ａ上にはＸ方向に位置を異ならせてＸガイド孔３０ｇが２箇所形成され（図６）、各Ｘガイド孔３０ｇに対してＸガイドシャフト３２が摺動可能に挿通される。Ｙガイドシャフト３３は開口３０ｅ内の側辺部３０ｃに沿う位置に固定され、Ｙガイドシャフト３４は開口３０ｅ内の側辺部３０ｄに沿う位置に固定されており、各Ｙガイドシャフト３３、３４の下端部が下辺部３０ｂの下方に突出して、２群レンズ移動環２５内に形成した一対の長孔２５ｃ（図４）に挿入されている。長孔２５ｃは、Ｘ方向に長手方向を向けた長孔であり、該Ｘ方向へのＹガイドシャフト３３、３４の移動を案内する。一方、光軸方向へのＹガイドシャフト３３、３４の移動は、長孔２５ｃの前後の壁面によって規制される。以上の構造によって第１ステージ３０は、２群レンズ移動環２５に対してＸ方向に移動可能に支持される。

第２ステージ３１は、第２レンズ群ＬＧ２を保持する２群レンズ枠３５が固定されるレンズ保持筒部（光学要素保持部）３１ａと、該レンズ保持筒部３１ａから斜め上方へ「Ｖ」字状に延設されＹ軸に関して略対称な形状をなす一対の支持腕部３１ｂ、３１ｃとを有する。各支持腕部３１ｂ、３１ｃにＹ方向へ貫通形成したＹガイド孔３１ｄ、３１ｅに対して、Ｙガイドシャフト３３、３４がそれぞれ摺動可能に挿通される。これにより第２ステージ３１は、第１ステージ３０に対してＹ方向へ移動可能に支持される。このＹ方向への移動により、第２ステージ３１が第１ステージ３０の開口３０ｅ内で占める位置が変化する。

第１ステージ３０と第２ステージ３１は、第２ステージ３１上に固定された２つの永久磁石４１、４２と、シャッタユニット２７に固定された２つのコイル４３、４４を有する電磁アクチュエータ４０により駆動制御される。２つの永久磁石４１、４２の形状及び大きさは略同一であり、それぞれ細長矩形の薄板状をなし、短手方向の略中央を通り長手方向に向く磁極境界線Ｍ１、Ｍ２（図７ないし図１０）で分割される半割領域の一方がＮ極で他方がＳ極となっている。第２ステージ３１の支持腕部３１ｂの前面には永久磁石４１が嵌合支持される磁石保持部３１ｆが形成され、支持腕部３１ｃの前面には永久磁石４２が嵌合支持される磁石保持部３１ｇが形成されている。磁石保持部３１ｆを有する支持腕部３１ｂは、レンズ保持筒部３１ａからＹガイド孔３１ｄが形成される先端部まで、磁極境界線Ｍ１と略平行に延設された腕部であり、磁石保持部３１ｇを有する支持腕部３１ｃは、レンズ保持筒部３１ａからＹガイド孔３１ｅが形成される先端部まで、磁極境界線Ｍ２と略平行に延設された腕部である。この磁石保持部３１ｆ、３１ｇへの取り付け状態で永久磁石４１と永久磁石４２は、第２レンズ群ＬＧ２の中心Ｃを通りＹ方向に延びる離脱方向中心線Ｐ（図７ないし図１０）に関して略対称の関係で配置される。より詳しくは、磁極境界線Ｍ１と磁極境界線Ｍ２は、Ｙ方向の下方（後述する離脱位置側）から上方（後述する防振駆動位置側）に向かうにつれて、互いに離脱方向中心線Ｐから離れるように（互いのＸ方向間隔を大きくするように）傾斜しており、離脱方向中心線Ｐに対する磁極境界線Ｍ１、Ｍ２のそれぞれの傾斜角が正逆で約４５度に設定されている。つまり、永久磁石４１と永久磁石４２は互いの長手方向（磁極境界線Ｍ１と磁極境界線Ｍ２）を略直交させる関係にある。そして、磁極境界線Ｍ１と磁極境界線Ｍ２を延長した交点上に第２ステージ３１のレンズ保持筒部３１ａが位置しており、このレンズ保持筒部３１ａに保持される第２レンズ群ＬＧ２は、永久磁石４１と永久磁石４２の長手方向の一端部（短辺部）に挟まれて位置している。また、図７や図９に示すように、ズームレンズ鏡筒１０を正面視したとき、永久磁石４１の一部がＹガイドシャフト３３と重なるＸ方向位置にあり、永久磁石４２の一部がＹガイドシャフト３４と重なるＸ方向位置にある。図７ないし図１０は、Ｘ方向において離脱方向中心線Ｐ（第２レンズ群ＬＧ２の中心Ｃ）と撮影光軸Ｏが同位置にある状態を示しているが、第１ステージ３０がその可動範囲内でＸ方向に位置変化しても、永久磁石４１、４２の一部が、それぞれ対応するＹガイドシャフト３３、３４と重なる位置関係は維持される。

図４に示すように、コイル４３、４４はシャッタユニット２７の光軸方向後面側に支持されている。図７や図９に示すように、ズームレンズ鏡筒１０を正面視したとき、コイル４３は、その一部がＹガイドシャフト３３と重なるＸ方向位置にあり、コイル４４は、その一部がＹガイドシャフト３４と重なるＸ方向位置にある。またＹ方向においては、コイル４３、４４は、撮影光軸Ｏを通るＸ方向の仮想線とＸガイドシャフト３２の間に位置している。コイル４３は、略平行な一対の長辺部４３ａと、該一対の長辺部４３ａを接続する一対の湾曲部４３ｂとを有する空芯コイルである。コイル４４はコイル４３と形状及び大きさが略同一の空芯コイルであり、略平行な一対の長辺部４４ａと、該一対の長辺部４４ａを接続する一対の湾曲部４４ｂとを有する。コイル４３は各長辺部４３ａの延設方向である長軸方向線Ｑ１（図９、図１０）が永久磁石４１の磁極境界線Ｍ１と略平行になるように配置され、コイル４４は各長辺部４４ａの延設方向である長軸方向線Ｑ２（図９、図１０）が永久磁石４２の磁極境界線Ｍ２と略平行になるように配置されている。コイル４３、４４に通電すると、その長辺部４３ａ、４４ａで長軸方向線Ｑ１、Ｑ２に沿って電流が流れる。

シャッタユニット２７の後面にはさらに、コイル４３とシャッタ開口２７ａの間に位置センサ４５が設けられ、コイル４４とシャッタ開口２７ａの間に位置センサ４６が設けられている。位置センサ４５、４６は磁界の強さを検出するセンサであり、位置センサ４５、４６を用いることで、永久磁石４１、４２と共に移動する第２レンズ群ＬＧ２のＸ方向及びＹ方向の位置を検出することができる。

コイル４３、４４と位置センサ４５、４６は、シャッタユニット２７の後面に固定されるシャッタＦＰＣ４７上のモジュールとして設けられている。シャッタＦＰＣ４７は制御回路６０に接続し、制御回路６０によってコイル４３、４４に対する通電制御が行われる。また、位置センサ４５と位置センサ４６により検出された位置情報が制御回路６０に入力される。

以上の構成の電磁アクチュエータ４０では、永久磁石４１とコイル４３が光軸方向に対向してコイル４３が永久磁石４１の磁界内に位置する状態で該コイル４３に通電すると、撮影光軸Ｏと直交する平面内で磁極境界線Ｍ１及びコイル長軸方向線Ｑ１と略直交する方向への駆動力が作用する。また、永久磁石４２とコイル４４が光軸方向に対向してコイル４４が永久磁石４２の磁界内に位置する状態で該コイル４４に通電すると、撮影光軸Ｏと直交する平面内で磁極境界線Ｍ２及びコイル長軸方向線Ｑ２と略直交する方向への駆動力が作用する。これら駆動力の作用方向はいずれもＸ方向とＹ方向の両方に対して約４５度で交差する関係にあり、各コイル４３、４４への通電制御によって、第１ステージ３０のＸ方向移動と第２ステージ３１のＹ方向移動を任意に行わせることができる。このように電磁アクチュエータ４０によって第２レンズ群ＬＧ２の位置を制御することが可能な範囲を、第２レンズ群ＬＧ２（第２ステージ３１）における防振駆動位置（防振駆動範囲、撮影位置）と呼ぶ。防振駆動位置では、第２レンズ群ＬＧ２の中心Ｃは、撮影光軸Ｏを中心とする所定範囲内に位置する。

Ｙガイドシャフト３３とＹガイドシャフト３４によって案内される第２ステージ３１のＹ方向の可動量は、電磁アクチュエータ４０により与えられるＹ方向の駆動量よりも大きい。図７、図８、図１１、図１２及び図１６に示すように、第２レンズ群ＬＧ２（第２ステージ３１）が上記防振駆動位置にあるとき、支持腕部３１ｂ、３１ｃの上端部が第１ステージ３０の上辺部３０ａに近接して位置される。詳細には、第２レンズ群ＬＧ２の中心Ｃが撮影光軸Ｏと一致する位置では、支持腕部３１ｂ、３１ｃの上端部は上辺部３０ａとの間にスペースがあり、電磁アクチュエータ４０によって第２ステージ３１を当該位置からＹ方向の上方と下方のいずれにも移動させることが可能となっている。一方、図９、図１０、図１４、図１５及び図１８に示すように、第２ステージ３１は、支持腕部３１ｂ、３１ｃの下端部が下辺部３０ｂに近接する位置まで下方に移動することが可能である。この第２ステージ３１の下方移動端では、永久磁石４１とコイル４３、永久磁石４２とコイル４４はいずれも光軸方向に対向しなくなり、第２レンズ群ＬＧ２（第２ステージ３１）は、電磁アクチュエータ４０により位置制御可能な防振駆動位置を外れる。この位置を第２レンズ群ＬＧ２（第２ステージ３１）の離脱位置と呼ぶ。離脱位置では第２レンズ群ＬＧ２が第１ステージ３０の下辺部３０ｂと重なる位置まで下降されるが、レンズ保持筒部３１ａ及び２群レンズ枠３５の後部が、オフセット凹部３０ｆ内に進入するため、下辺部３０ｂとの干渉を生じることなく下降させることができる。２群レンズ移動環２５には、離脱位置まで移動されたレンズ保持筒部３１ａの一部を進入させる収納凹部２５ｄが形成されている。収納凹部２５ｄは、Ｘ方向の略中央に径方向の貫通部を有し、その両側に略対称な形状の一対の部分円形凹面部を有している。第１ステージ３０がＸ方向においてその可動範囲の中央から所定量以上ずれている状態で第２ステージ３１を離脱位置に移動させると、収納凹部２５ｄの部分円形凹面部とレンズ保持筒部３１ａの外面の当接によって、第２ステージ３１を支持する第１ステージ３０がＸ方向の可動範囲の略中央に案内される。一方、第１ステージ３０がＸ方向の可動範囲の中央付近に位置するときは、収納凹部２５ｄの部分円形凹面部にレンズ保持筒部３１ａを当接させずに第２ステージ３１を離脱位置に移動させることができる。離脱位置に達した第２ステージ３１は、支持腕部３１ｂ、３１ｃの下端部が第１ステージ３０の下辺部３０ｂに当接することによって、下方への移動が規制される。

図４に示すように、シャッタユニット２７の後面には、シャッタ開口２７ａの周囲に中央円形凹部２７ｂが形成されており、第２レンズ群ＬＧ２が防振駆動位置にあるとき、レンズ保持筒部３１ａ（２群レンズ枠３５）の前端部が中央円形凹部２７ｂに進入する。中央円形凹部２７ｂは、電磁アクチュエータ４０による防振駆動位置での第２レンズ群ＬＧ２のＸ及びＹ方向の移動によってはレンズ保持筒部３１ａと干渉することがない大きさに形成されている。また、シャッタユニット２７の後面には、中央円形凹部２７ｂから下方に向けて、防振駆動位置から離脱位置までのＹ方向の移動範囲で第２ステージ３１（２群レンズ枠３５）の前端部を進入させる直線状凹部２７ｃが形成されている。

電磁アクチュエータ４０による第２レンズ群ＬＧ２の位置制御が可能な範囲は防振駆動位置に限定され、防振駆動位置を外れた離脱位置との間の第２レンズ群ＬＧ２（第２ステージ３１）のＹ方向駆動は、電磁アクチュエータ４０とは別に設けた挿脱駆動機構５０によって行われる。挿脱駆動機構５０は、支持軸５２によって２群レンズ移動環２５内に軸支された挿脱制御レバー（挿脱動作部材）５１を備える。図４に示すように、支持軸５２は、挿脱制御レバー５１に形成した軸孔５１ａに挿通され、その前端部が２群レンズ移動環２５内に形成した軸支持孔２５ｅに支持され、その後端部が２群レンズ移動環２５に固定されるレバー押さえ部材５３に支持されている。この支持状態で支持軸５２の軸線は撮影光軸Ｏと略平行であり、挿脱制御レバー５１は該支持軸５２を中心として揺動することができる。

図１６ないし図１９に示すように、挿脱制御レバー５１には、挿脱ガイド溝部５５と離脱防止溝部５６が連続して形成されている。挿脱ガイド溝部５５は、軸孔５１ａを中心とする回動半径方向に延びる溝であり、溝内部の対向面の一方が防振駆動位置から離脱位置への第２ステージ３１の移動を案内する離脱ガイド面５５ａであり、他方が離脱位置から防振駆動位置への第２ステージ３１の移動を案内する挿入ガイド面５５ｂである。離脱防止溝部５６は挿脱ガイド溝部５５の外径側端部に連通しており、対向する下方離脱防止面５６ａと上方離脱防止面５６ｂを有している。離脱防止溝部５６の溝幅（下方離脱防止面５６ａと上方離脱防止面５６ｂの間隔）は、挿脱ガイド溝部５５の溝幅（離脱ガイド面５５ａと挿入ガイド面５５ｂの間隔）よりも広い。

第２ステージ３１には、支持腕部３１ｂから後方に向けて突出する位置制御ピン３１ｈが設けられ、位置制御ピン３１ｈは挿脱制御レバー５１の揺動位置に応じて挿脱ガイド溝部５５内と離脱防止溝部５６内のいずれかに位置される。第２ステージ３１が離脱位置にあるとき、図１０、図１４、図１５、図１８及び図１９に示すように、挿脱制御レバー５１は軸孔５１ａを中心とするレバー延設方向が斜め下方に向く角度（以下、離脱保持位置と呼ぶ）に保持され、位置制御ピン３１ｈが挿脱ガイド溝部５５内に係合している。このとき第２ステージ３１のＹ方向の位置制御は、位置制御ピン３１ｈに対する挿脱ガイド溝部５５の離脱ガイド面５５ａ及び挿入ガイド面５５ｂの当接によって行われる。ここで挿脱制御レバー５１が図中の時計方向に回動されると、挿入ガイド面５５ｂが位置制御ピン３１ｈを上方に押圧し、第２ステージ３１が離脱位置から防振駆動位置に向けて移動される。

第２ステージ３１が防振駆動位置にあるとき、図８、図１１、図１２、図１６及び図１７に示すように、挿脱制御レバー５１は軸孔５１ａを中心とするレバー延設方向が斜め上方に向く角度（以下、挿入位置と呼ぶ）に保持され、位置制御ピン３１ｈが離脱防止溝部５６内に位置される。このとき、離脱防止溝部５６の延設方向（長手方向）がＸ方向と略平行になり、Ｘ方向での位置制御ピン３１ｈの位置規制を行わないため、電磁アクチュエータ４０によるＸ方向への第１ステージ３０及び第２ステージ３１の移動は妨げられない。また、離脱防止溝部５６は挿脱ガイド溝部５５よりも幅広に設定されており、下方離脱防止面５６ａ及び上方離脱防止面５６ｂと位置制御ピン３１ｈとの間には、電磁アクチュエータ４０によるＹ方向の第２ステージ３１の移動を妨げない十分な隙間が確保されている。挿脱制御レバー５１が挿入位置にあるときには、第２ステージ３１は電磁アクチュエータ４０によって位置制御されるが、下方離脱防止面５６ａに対して位置制御ピン３１ｈを当接させることによって、第２ステージ３１が電磁アクチュエータ４０の制御範囲である防振駆動位置を超えて離脱位置方向へ脱落するのを防ぐことができる。また、上方離脱防止面５６ｂに対して位置制御ピン３１ｈを当接させることによって、第２ステージ３１が電磁アクチュエータ４０の制御範囲である防振駆動位置を超えて離脱位置と反対方向へ脱落するのを防ぐことができる。但し、離脱位置と反対方向への移動制限は、位置制御ピン３１ｈと上方離脱防止面５６ｂの当接に代えて、第２ステージ３１の支持腕部３１ｂ、３１ｃと第１ステージ３０の上辺部３０ａの当接などによって行わせることもできる。

第２ステージ３１が防振駆動位置にある状態で挿脱制御レバー５１を挿入位置から離脱保持位置に向けて回動させると、離脱ガイド面５５ａが位置制御ピン３１ｈを下方に押圧し、第２ステージ３１が防振駆動位置から離脱位置に移動される。

挿脱制御レバー５１は、レバー付勢ばね５４によって挿入位置へ回動付勢されており、２群レンズ移動環２５の内面には、この付勢力によって挿脱制御レバー５１が当接するストッパ２５ｆが設けられている。そのため、挿脱制御レバー５１は、特別な外力が加わらない状態では挿入位置に保持され、これに応じて第２ステージ３１は防振駆動位置に保持される。撮像素子ホルダ１５には光軸方向前方へ突出する離脱制御突起５７（図１０ないし図１５、図１８及び図１９）が突設されており、２群レンズ移動環２５が光軸方向後方へ移動して撮像素子ホルダ１５に接近すると、離脱制御突起５７が挿脱制御レバー５１を押圧して、レバー付勢ばね５４の付勢力に抗して挿脱制御レバー５１が挿入位置から離脱保持位置へ回動される。詳細には、離脱制御突起５７の先端部には端面カム５７ａが形成されており、２群レンズ移動環２５が後退して離脱制御突起５７に接近すると、挿脱制御レバー５１に設けたカム当接部５１ｂが端面カム５７ａに当接する（図１３）。この当接によって、光軸方向後方への２群レンズ移動環２５の移動力から挿脱制御レバー５１を離脱保持位置へ回動させる分力が生じる。挿脱制御レバー５１が離脱保持位置に達すると、図１０、図１４、図１５、図１８及び図１９に示すように、離脱制御突起５７の側面に設けた撮影光軸Ｏと略平行な離脱保持面５７ｂが離脱保持面５１ｃに係合し、挿脱制御レバー５１が離脱保持位置に保持され続ける。

以上の構造からなるズームレンズ鏡筒１０は次のように動作する。図１に示す鏡筒収納状態において、ズームレンズ鏡筒１０が搭載される撮像装置に設けたメインスイッチがオンされると、ズームモータ６２が鏡筒繰出方向に駆動されてズームギヤが回転し、ヘリコイド環１６と第１繰出筒１７がハウジング１４の内面ヘリコイド１４ａにガイドされて前方へ回転繰出される。第１直進案内環２０は、ヘリコイド環１６及び第１繰出筒１７と共に前方に直進移動する。このとき、第１繰出筒１７から回転力が付与されるカム環２１は、第１直進案内環２０の前方への直進移動分と、該第１直進案内環２０との間に設けたリード構造（貫通ガイド溝２０ｂのリード溝部分と外径突起２１ａ）による繰出分との合成移動を行う。ヘリコイド環１６とカム環２１が前方の所定位置まで繰り出されると、それぞれの回転繰出構造（ヘリコイド、リード）の機能が解除されて、光軸方向の定位置で回転のみ行うようになる。

カム環２１が回転すると、その内側では、第２直進案内環２２を介して直進案内された２群レンズ移動環２５が、２群用カムフォロア２５ｂと２群制御カム溝２１ｂの関係によって光軸方向に所定の軌跡で移動される。また、カム環２１が回転すると、該カム環２１の外側では、第２繰出筒２３を介して直進案内された第３繰出筒２８が、１群用カムフォロア２８ｂと１群制御カム溝２１ｃの関係によって光軸方向に所定の軌跡で移動される。

すなわち、鏡筒収納状態からの第１レンズ群ＬＧ１と第２レンズ群ＬＧ２の繰出量はそれぞれ、前者が、ハウジング１４に対するカム環２１の前方移動量と、該カム環２１に対する第３繰出筒２８のカム繰出量との合算値として決まり、後者が、ハウジング１４に対するカム環２１の前方移動量と、該カム環２１に対する２群レンズ移動環２５のカム繰出量との合算値として決まる。ズーミングは、この第１レンズ群ＬＧ１と第２レンズ群ＬＧ２が互いの空気間隔を変化させながら撮影光軸Ｏ上を移動することにより行われる。図１の収納状態から鏡筒繰出を行うと、まず図２に示すワイド端の繰出状態になり、さらにズームモータ６２を鏡筒繰出方向に駆動させると、図３に示すテレ端の繰出状態となる。テレ端とワイド端の間のズーム領域では、ヘリコイド環１６、第１繰出筒１７及びカム環２１は、前述の定位置回転のみを行い、光軸方向へは進退しない。メインスイッチをオフすると、ズームモータ６２が鏡筒収納方向に駆動され、ズームレンズ鏡筒１０は上記の繰出動作とは逆の収納動作を行い、図１の収納状態になる。

また、ワイド端からテレ端までの撮影可能状態にあるとき、測距手段によって得られた被写体距離情報に応じてＡＦモータ６１を駆動することにより、第３レンズ群ＬＧ３を支持する３群レンズ枠１３が撮影光軸Ｏに沿って移動してフォーカシングが実行される。

以上はズームレンズ鏡筒１０の全体的な動作であり、続いて、防振ユニット２６に関連する収納構造と、撮影状態での防振ユニット２６の動作を説明する。

図１の鏡筒収納状態では、３群レンズ枠１３は、撮像素子ホルダ１５の前面部に近接する後方移動端まで後退され、２群レンズ移動環２５も後方移動端に位置している。挿脱制御レバー５１はレバー付勢ばね５４によって挿入位置へ回動付勢されているが、２群レンズ移動環２５が後方移動端に位置する状態では、離脱制御突起５７の離脱保持面５７ｂと離脱保持面５１ｃの係合により付勢方向への回動が規制され、挿脱制御レバー５１は離脱保持位置に保持されている（図１０、図１４、図１５、図１８及び図１９）。この挿脱制御レバー５１の離脱保持位置では、挿脱ガイド溝部５５内の離脱ガイド面５５ａが位置制御ピン３１ｈの上方への移動を規制し、第２レンズ群ＬＧ２を保持する第２ステージ３１は撮影光軸Ｏに対して下方に変位した離脱位置に保持される。

図９、図１０及び図１８から分かるように、第２ステージ３１の離脱位置では、第２レンズ群ＬＧ２を保持するレンズ保持筒部３１ａが、Ｙ方向において第１ステージ３０の下辺部３０ｂと重なる位置まで下降される。前述の通り、下辺部３０ｂにオフセット凹部３０ｆを形成したことで、当該離脱位置でのレンズ保持筒部３１ａと下辺部３０ｂの干渉が生じない。また、図９に示すように、第２ステージ３１が離脱位置にあるときには永久磁石４１、４２も撮影光軸Ｏの下方に位置される。永久磁石４１、４２とこれを保持する支持腕部３１ｂ、３１ｃは、Ｙ方向で上方（防振駆動位置側）に進むほど互いの間隔を広くするＶ字状の配置になっているため、図９のように正面視したとき、永久磁石４１については、第１ステージ３０の下辺部３０ｂと側辺部３０ｃの境界付近に重なって位置し、永久磁石４２については、第１ステージ３０の下辺部３０ｂと側辺部３０ｄの境界付近に重なって位置する。したがって、第２ステージ３１を離脱位置に位置させることで、第１ステージ３０の開口３０ｅにおける開放領域が相対的に増大し、開口３０ｅ内の撮影光軸Ｏ付近の領域は、第２ステージが存在しない空きスペースとなっている。

そして、図１、図９及び図１０に示すように、第２ステージ３１が離脱位置に移動したことによって形成される開口３０ｅの開放領域内（撮影状態では第２レンズ群ＬＧ２、第２ステージ３１、永久磁石４１、４２などが位置する領域）に３群レンズ枠１３のレンズ保持筒部１３ａが進入して、第２レンズ群ＬＧ２と第３レンズ群ＬＧ３がＹ方向に並列する位置関係となる。これにより、ズームレンズ鏡筒１０の収納状態では撮像光学系の光軸方向の厚みが小さくなり、鏡筒収納長の薄型化が達成される。

第２ステージ３１が離脱位置にあるとき、第１ステージ３０はＸ方向の可動範囲の中央（離脱方向中心線Ｐが撮影光軸Ｏ上を通る位置）付近に保持される。前述のように、Ｘ方向の可動範囲の中央を所定以上外れた状態で第２ステージ３１が離脱位置へ移動されると、レンズ保持筒部３１ａの外面と収納凹部２５ｄの部分円形凹面部の当接により、第１ステージ３０がＸ方向の可動範囲の略中央まで案内される。第２ステージ３１上には第２レンズ群ＬＧ２を挟んでＶ字状に支持椀部３１ｂ、３１ｃと永久磁石４１、４２が配置されているため、このようにＸ方向の可動範囲の略中央に位置を定めることで、第１ステージ３０の開口３０ｅに対して最もスペース効率の良いＸ方向の位置に支持椀部３１ｂ、３１ｃと永久磁石４１、４２を位置させることができる。

また、３群レンズ枠１３のレンズ保持筒部１３ａは四隅が面取りされた角筒形状であり、レンズ保持筒部１３ａを開口３０ｅに進入させたときには、図９に示すように、該レンズ保持筒部１３ａの下辺部側の２つの面取り部と２群レンズ移動環２５の内周面の間に形成されるＶ字状のスペースに沿って第２ステージ３１の支持椀部３１ｂ、３１ｃと永久磁石４１、４２が収納される。また、レンズ保持筒部１３ａにおける上記２つの面取り部に挟まれる下辺部と２群レンズ移動環２５の内周面との間に、第２ステージ３１のレンズ保持筒部３１ａが位置される。このレンズ保持筒部３１ａの径サイズは、支持椀部３１ｂ、３１ｃの幅よりも大きいが、レンズ保持筒部１３ａの一部が収納凹部２５ｄに進入することで、２群レンズ移動環２５と干渉せずに当該位置に収納することができる。よって、第２ステージ３１と３群レンズ枠１３と２群レンズ移動環２５の関係においてもスペース効率に優れた収納構造となっている。

ズームモータ６２の駆動によってズームレンズ鏡筒１０が図１の収納位置から繰り出され、２群レンズ移動環２５が光軸方向前方へ所定量移動されると、挿脱制御レバー５１が離脱制御突起５７から離れて離脱保持面５７ｂによる回動規制が解除され、レバー付勢ばね５４の付勢力によって挿脱制御レバー５１が離脱保持位置（図１０、図１４、図１５、図１８及び図１９）から挿入位置（図８、図１１、図１２、図１６及び図１７）へ向けて回動していく。すると、挿脱ガイド溝部５５内の挿入ガイド面５５ｂが位置制御ピン３１ｈを上方に押圧し、第２ステージ３１がＹ方向における防振駆動位置に向けて移動される。この段階で防振ユニット２６は３群レンズ枠１３よりも前方に移動されており、第１ステージ３０の開口３０ｅ内からレンズ保持筒部１３ａが既に離脱しているので、防振駆動位置へ向けて移動する第２ステージ３１が３群レンズ枠１３と干渉することはない。挿脱制御レバー５１によって第２ステージ３１がある程度上方に移動されると、永久磁石４１と永久磁石４２がそれぞれコイル４３とコイル４４に対向し、電磁アクチュエータ４０によって第１ステージ３０及び第２ステージ３１の位置制御を行うことが可能な状態、すなわち防振駆動位置に達する。前述の通り、防振駆動位置では位置制御ピン３１ｈは離脱防止溝部５６に対して遊嵌し、Ｘ及びＹ方向の移動が許容された状態にあり、第１ステージ３０及び第２ステージ３１の位置制御は電磁アクチュエータ４０によって行われる。

挿脱制御レバー５１による第２ステージ３１の防振駆動位置への移動は、図２のワイド端に達する前に完了する。防振駆動位置では挿脱制御レバー５１が離脱制御突起５７から前方に離れ、カム当接部５１ｂと端面カム５７ａが光軸方向に離間して対向している。これ以降は再び鏡筒収納動作を行うまで、挿脱制御レバー５１と離脱制御突起５７が当接することはなく、第２ステージ３１は防振駆動位置に保持され続ける。ワイド端からテレ端までのズーム域では、カム環２１の回転に応じて２群レンズ移動環２５の光軸方向位置が変化するが、２群レンズ移動環２５は図２に示すワイド端位置付近がズーム域における後方移動端であり、挿脱制御レバー５１が離脱制御突起５７に接触することはない。つまり、ズーム域全体で、第２ステージ３１が防振駆動位置に維持される。なお、外部からの衝撃が加わった場合や、コイル４３、４４への通電を解除して電磁アクチュエータ４０による保持を停止した場合でも、挿脱制御レバー５１の離脱防止溝部５６の下方離脱防止面５６ａ及び上方離脱防止面５６ｂと位置制御ピン３１ｈとの当接によって、２レンズ群ＬＧ２（第２ステージ３１）は防振駆動位置からの離脱が規制されるため、電磁アクチュエータ４０によって位置制御を行う状態にいつでも復帰することができる。

ズーム域では、ズームレンズ鏡筒１０に加わる振れの方向と大きさに応じて、電磁アクチュエータ４０によって第１ステージ３０と第２ステージ３１をＸ方向とＹ方向に駆動することで、撮像素子１２の受光面上での被写体像のずれ（像振れ）を抑制することができる。詳細には、Ｘジャイロセンサ６４とＹジャイロセンサ６５によってＸ軸とＹ軸周りにおける移動角速度を検出し、それぞれの振れの角速度を時間積分して移動角度を求め、該移動角度から焦点面（撮像素子１２の受光面）上でのＸ軸方向及びＹ軸方向の像の移動量を演算すると共に、この像振れをキャンセルするための各軸方向に関する第２レンズ群ＬＧ２の駆動量及び駆動方向を演算する。そして、この演算値に基づいて、コイル４３とコイル４４の通電制御を行う。

前述の通り、ズームレンズ鏡筒１０を正面視して、永久磁石４１とコイル４３の一部がＹガイドシャフト３３と重なって位置し、永久磁石４２とコイル４４の一部がＹガイドシャフト３４と重なって位置する。つまり、第２ステージ３１のＹ方向の移動案内を行う部位（Ｙガイドシャフト３３、３４）と、その移動方向の駆動力を与える部位（永久磁石４１、４２とコイル４３、４４）が重なる関係にある。ガイドシャフトのような案内部材を用いた駆動機構では、当該案内部材と駆動力の付与部が接近しているほど、移動部材（第２ステージ３１）の駆動時におけるモーメントの抑制効果が高いため、ズーム域における像振れ補正制御では、電磁アクチュエータ４０によってＹ方向へ円滑に第２ステージ３１を駆動させることができる。また、図７から分かる通り、第２ステージ３１が防振駆動位置にあるときには、永久磁石４１、４２とコイル４３、４４は、第１ステージ３０のＸ方向への主たる案内部材であるＸガイドシャフト３２に近接した位置（撮影光軸Ｏを通るＸ方向の仮想線とＸガイドシャフト３２の間のＹ方向位置）にある。よって、像振れ補正制御において電磁アクチュエータ４０によってＸ方向へ第１ステージ３０を駆動させるときにも、モーメント抑制効果が得られる。

ズーム域からの鏡筒収納では、繰出時とは逆の動作が行われる。まず、ＡＦモータ６１の駆動によって３群レンズ枠１３を図１に示す後方移動端に位置させる。続いて、ズームモータ６２の収納方向駆動により、２群レンズ移動環２５が光軸方向後方に移動され、２群レンズ移動環２５と共に後退している挿脱制御レバー５１のカム当接部５１ｂが、離脱制御突起５７の端面カム５７ａに当て付く（図１３参照）。すると、カム当接部５１ｂが端面カム５７ａに押圧されて２群レンズ移動環２５の後退移動力から分力が生じ、挿脱制御レバー５１がレバー付勢ばね５４の付勢力に抗して挿入位置から離脱保持位置へ向けて回動される。すると、位置制御ピン３１ｈの位置が離脱防止溝部５６内から挿脱ガイド溝部５５内に変化し、挿入ガイド面５５ｂが位置制御ピン３１ｈを下方に押圧して、第２ステージ３１が防振駆動位置から離脱位置へ向けて移動される。２群レンズ移動環２５がさらに後方に移動すると、挿脱制御レバー５１の離脱保持面５１ｃが離脱制御突起５７の離脱保持面５７ｂに対向する位置関係となり、該離脱保持面５１ｃと離脱保持面５７ｂの当接によって、挿脱制御レバー５１は離脱保持位置に保持されて挿入位置への回動が規制される。つまり第２ステージ３１が離脱位置に保持される。

挿脱制御レバー５１による第２ステージ３１の防振駆動位置から離脱位置への移動は、２群レンズ移動環２５が図１に示す後方移動端に達するよりも前に完了する。そして、第２ステージ３１の離脱完了後に２群レンズ移動環２５がさらに後退移動することにより、開放領域を大きくした開口３０ｅ内に３群レンズ枠１３のレンズ保持筒部１３ａが進入し（図９、図１０）、前述した収納状態（図１）となる。

なお、以上の鏡筒収納時の動作説明では、ズームモータ６２の収納方向駆動に先立ってＡＦモータ６１を駆動させて３群レンズ枠１３の後退動作を行わせるものとしたが、３群レンズ枠１３との干渉が生じる前に第２ステージ３１の離脱位置への移動が完了するという条件を満たしていれば、ＡＦモータ６１による３群レンズ枠１３の後退動作を省略することも可能である。この場合、光軸方向後方への移動は機械的に制限を受けないように３群レンズ枠１３の駆動機構を構成しておき、該３群レンズ枠１３に対してズームモータ６１の駆動力で後退する部材（２群レンズ移動環２５または他の部位）を当接させ、該部材と共に３群レンズ枠１３を図１の後方移動端まで後退させるとよい。

以上のようにズームレンズ鏡筒１０では、撮影状態で第２レンズ群ＬＧ２と第３レンズ群ＬＧ３が光軸方向に離間して位置し、収納状態では下方に離脱移動した第２レンズ群ＬＧ２と第３レンズ群ＬＧ３をＹ方向に重ねて位置させることで、撮像光学系の収納長短縮が達成されている。そして、撮影状態において電磁アクチュエータ４０によって防振ユニット２６の第１ステージ３０と第２ステージ３１を位置制御して像振れ補正を行い、収納するときには、第１ステージ３０上に支持された第２ステージ３１のみを挿脱駆動機構５０によって離脱位置に移動させるように第２レンズ群ＬＧ２の位置制御装置を構成したので、離脱動作を行う部位が小型で軽量になっており、省スペース性と挿脱駆動機構５０の負荷軽減の効果が得られる。

特に、電磁アクチュエータ４０の構成要素である永久磁石４１、４２に関し、前述の通り、第２ステージ３１のレンズ保持筒部３１ａを挟み離脱方向中心線Ｐに対するＶ字状の配置構造としたため、第２ステージ３１を離脱位置に移動させたときに第１ステージ３０、３群レンズ枠１３のレンズ保持筒部１３ａ及び２群レンズ移動環２５に対して最良のスペース効率が得られる。特に、永久磁石４１、４２は、第２ステージ３１が離脱位置にあるとき、第１ステージ３０の開口３０ｅにおける撮影光軸Ｏ付近の開放領域を広くさせる配置構造であるため、該開口３０ｅ内に３群レンズ枠１３のレンズ保持筒部１３ａの全体を進入させることが可能となっている。

以上の第１の実施形態における電磁アクチュエータ４０は、第２ステージ３１に２つの永久磁石４１、４２を支持し、２群レンズ移動環２５内に固定されるシャッタユニット２７にコイル４３、４４が支持される構成であるが、図２１及び図２２に示す第２の実施形態における電磁アクチュエータ１４０のように、永久磁石とコイルの配置関係を逆にしても本発明は有効である。この電磁アクチュエータ１４０を構成する２つのコイル１４３、１４４は、第１の実施形態のコイル４３、４４と同様に、長辺部１４３ａ、１４４ａと湾曲部１４３ｂ、１４４ｂをそれぞれ一対有しており、コイル１４３は第２ステージ３１の支持腕部３１ｂの前面に保持され、コイル１４４は第２ステージ３１の支持腕部３１ｃの前面に保持されている。コイル１４３、１４４は、それぞれの長辺部１４３ａ、１４４ａの延設方向である長軸方向線Ｑ１１、Ｑ１２が、Ｙ方向における離脱位置側（図２１及び図２２の下方）から防振駆動位置側（同図の上方）に進むにつれて第２ステージ３１（第２レンズ群ＬＧ２）の離脱方向中心線Ｐから離れるように（長軸方向線Ｑ１１、Ｑ１２の間隔を広くするように）、離脱方向中心線Ｐを挟んでＶ字状に配置されている。

支持腕部３１ｂ、３１ｃにはさらに、コイル１４３とレンズ保持筒部３１ａの間に位置センサ１４５が設けられ、コイル１４４とレンズ保持筒部３１ａの間に位置センサ１４６が設けられている。位置センサ１４５、１４６は、第１の実施形態の位置センサ４５、４６と同様に、第２レンズ群ＬＧ２のＸ方向及びＹ方向の位置を検出するものである。

コイル１４３、１４４と位置センサ１４５、１４６は、第２ステージ３１上に支持されるＦＰＣ１４７上のモジュールとして設けられている。ＦＰＣ１４７は制御回路６０（図２０）に接続している。図２１に示すように、第２ステージ３１が防振駆動位置にあるとき、ＦＰＣ１４７はレンズ保持筒部３１ａの外周面に沿って２群レンズ移動環２５の内周面に向けて延出されており、第２レンズ群ＬＧ２を通る光束を妨げることがない。また、図２２に示すように、第２ステージ３１が離脱位置にあるときにＦＰＣ１４７は、レンズ保持筒部３１ａと収納凹部２５ｄの間のスペースを通り、さらに支持腕部３１ｃの側面に沿って取り回しされていて、第２ステージ３１の離脱動作の妨げになることもない。

永久磁石１４１、１４２は、図２１及び図２２には表れていないが、第１の実施形態のコイル４３、４４と同様に２群レンズ移動環２５内に固定的に支持されるシャッタユニット２７の後面に固定されている。ズームレンズ鏡筒１０を正面視したとき、永久磁石１４１は、その一部がＹガイドシャフト３３と重なるＸ方向位置にあり、永久磁石１４２は、その一部がＹガイドシャフト３４と重なるＸ方向位置にある。またＹ方向においては、永久磁石１４１、１４２の略全体が、撮影光軸Ｏを通るＸ方向の仮想線とＸガイドシャフト３２の間に位置している。永久磁石１４１の磁極境界線Ｍ１１はコイル１４３の長軸方向線Ｑ１１と略平行で、永久磁石１４２の磁極境界線Ｍ１２はコイル１４４の長軸方向線Ｑ１２と略平行な関係にある。第２ステージ３１が図２１の防振駆動位置にあるとき、各コイル１４３、１４４の長辺部１４３ａ、１４４ａに沿う方向に電流が流れると、永久磁石１４１とコイル１４３の関係では長軸方向線Ｑ１１（磁極境界線Ｍ１１）と略直交する方向の駆動力が生じ、永久磁石１４２とコイル１４４の関係では長軸方向線Ｑ１２（磁極境界線Ｍ１２）と略直交する方向の駆動力が生じる。

以上の構成の電磁アクチュエータ１４０においても、第１の実施形態と同様に、第２ステージ３１上でコイル１４３、１４４を、レンズ保持筒部３１ａを挟み離脱方向中心線Ｐに対するＶ字状の配置構造としたことにより、第２ステージ３１を離脱位置（図２２）に移動させたときに第１ステージ３０の開口３０ｅの開放領域が大きく確保され、３群レンズ枠１３のレンズ保持筒部１３ａや２群レンズ移動環２５との関係において、優れたスペース効率が得られる。

なお、本発明は第２ステージ３１を防振駆動位置と離脱位置の間で移動させる挿脱駆動機構の具体的構成を問うものではない。図２３及び図２４は、第２ステージ３１の位置制御を行う挿脱動作部材を、挿脱制御レバー５１のような揺動部材に代えて、Ｙ方向に直進移動する直進挿脱部材（挿脱動作部材）７１で構成した挿脱駆動機構７０を示している。挿脱駆動機構７０は駆動源としてモータ（挿脱動作部材の駆動源）７２を備え、該モータ７２のドライブシャフト７３がＹ方向に沿って上方へ延出されている。ドライブシャフト７３の外面には送りねじが形成されており、直進挿脱部材７１はこの送りねじに螺合するねじ穴を有する。直進挿脱部材７１は、ドライブシャフト７３の軸回りの回転を行わないように回り止めされている。よって、モータ７２によりドライブシャフト７３を正逆に回転駆動すると、直進挿脱部材７１がＹ方向に上下移動される。図２３は、第２レンズ群ＬＧ２（第２ステージ３１）の防振駆動位置に対応する直進挿脱部材７１の挿入位置を示し、図２４は、第２レンズ群ＬＧ２（第２ステージ３１）の離脱位置に対応する直進挿脱部材７１の離脱保持位置を示している。

直進挿脱部材７１は、Ｘ方向の一端部が開口されたコ字状の凹部７４を有し、該凹部７４内にＹ方向に離間する離脱ガイド面７５と挿入ガイド面７６が形成されている。離脱ガイド面７５と挿入ガイド面７６はそれぞれＸ方向に延びる面であって、互いの間に第２ステージ３１の位置制御ピン３１ｈが挿入されている。離脱ガイド面７５と挿入ガイド面７６のＹ方向の間隔や、凹部７４のＸ方向の深さは、いずれも位置制御ピン３１ｈの径サイズに対して所定以上に大きく、凹部７４に対して位置制御ピン３１ｈは遊嵌状態で挿入される。より詳しくは、離脱ガイド面７５と挿入ガイド面７６のＹ方向間隔と、凹部７４のＸ方向の深さは、電磁アクチュエータ４０、１４０（図２３及び図２４では省略されている）による第２ステージ３１（及び第１ステージ３０）の像振れ補正用の移動を妨げないサイズに設定されている。よって、図２３に示す直進挿脱部材７１の挿入位置では、直進挿脱部材７１に妨げられることなく、防振ユニット２６の第１ステージ３０と第２ステージ３１を電磁アクチュエータ４０（１４０）で位置制御して像振れ補正を行うことができる。そして、電磁アクチュエータ４０（１４０）による防振駆動範囲を超える第２ステージ３１のＹ方向の移動は、離脱ガイド面７５と挿入ガイド面７６に対する位置制御ピン３１ｈの当接で規制される。つまり、直進挿脱部材７１が挿入位置にあるとき、離脱ガイド面７５と挿入ガイド面７６は、第２ステージ３１のＹ方向の過度移動を規制する離脱規制部として機能する。なお、挿脱制御レバー５１を用いる場合と同様に、第２ステージ３１の上方への移動規制については、離脱ガイド面７５と位置制御ピン３１ｈの当接に代えて、第２ステージ３１の支持腕部３１ｂ、３１ｃと第１ステージ３０の上辺部３０ａの当接などによって行わせることもできる。

モータ７２の駆動によって直進挿脱部材７１を図２３の挿入位置から図２４の離脱保持位置へ向けて移動させると、離脱ガイド面７５が位置制御ピン３１ｈを下方に押圧し、第２ステージ３１は電磁アクチュエータ４０によって位置制御される防振駆動位置を外れて離脱位置に保持される。反対に、モータ７２の駆動によって直進挿脱部材７１を図２４の離脱保持位置から図２３の挿入位置へ向けて移動させると、挿入ガイド面７６が位置制御ピン３１ｈを上方に押圧し、第２ステージ３１は電磁アクチュエータ４０によって位置制御される防振駆動位置に戻る。

以上、図示実施形態に基づき説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、図示実施形態は、像振れ補正用の光学要素がレンズ群であるが、撮像素子などレンズ群以外の光学要素の位置制御装置としても本発明は適用が可能である。

１０ ズームレンズ鏡筒
１１ ローパスフィルタ
１２ 撮像素子
１３ ３群レンズ枠
１３ａ レンズ保持筒部
１４ ハウジング
１５ 撮像素子ホルダ
１６ ヘリコイド環
１７ 第１繰出筒
２０ 第１直進案内環
２１ カム環
２２ 第２直進案内環
２３ 第２繰出筒
２５ ２群レンズ移動環（支持部材）
２５ｃ 長孔
２５ｄ 収納凹部
２５ｅ 軸支持孔
２５ｆ ストッパ
２６ 防振ユニット
２７ シャッタユニット
２８ 第３繰出筒
２９ １群レンズ枠
３０ 第１ステージ（中間支持部材）
３０ａ 上辺部（第１方向辺部）
３０ｂ 下辺部（第１方向辺部）
３０ｃ 側辺部（第２方向辺部）
３０ｄ 側辺部（第２方向辺部）
３０ｅ 開口（開口空間）
３０ｆ オフセット凹部
３０ｇ Ｘガイド孔
３１ 第２ステージ（移動部材）
３１ａ レンズ保持筒部（光学要素保持部）
３１ｂ ３１ｃ 支持腕部
３１ｄ ３１ｅ Ｙガイド孔
３１ｆ ３１ｇ 磁石保持部
３１ｈ 位置制御ピン
３２ Ｘガイドシャフト
３３ ３４ Ｙガイドシャフト（直進ガイド軸）
３５ ２群レンズ枠
４０ 電磁アクチュエータ
４１ ４２ 永久磁石
４３ ４４ コイル
４３ａ ４４ａ コイルの長辺部
４３ｂ ４４ｂ コイルの湾曲部
４５ ４６ 位置センサ
４７ シャッタＦＰＣ
５０ 挿脱駆動機構
５１ 挿脱制御レバー（挿脱動作部材）
５１ａ 軸孔
５１ｂ カム当接部
５１ｃ 離脱保持面
５２ 支持軸
５３ レバー押さえ部材
５４ レバー付勢ばね（付勢部材）
５５ 挿脱ガイド溝部
５５ａ 離脱ガイド面
５５ｂ 挿入ガイド面
５６ 離脱防止溝部
５６ａ 下方離脱防止面
５６ｂ 上方離脱防止面
５７ 離脱制御突起
５７ａ 端面カム
５７ｂ 離脱保持面
６０ 制御回路
６１ ＡＦモータ
６２ ズームモータ（挿脱動作部材の駆動源）
６３ シャッタアクチュエータ
６４ Ｘジャイロセンサ
６５ Ｙジャイロセンサ
７０ 挿脱駆動機構
７１ 直進挿脱部材（挿脱動作部材）
７２ モータ（挿脱動作部材の駆動源）
７３ ドライブシャフト
７４ 凹部
７５ 離脱ガイド面
７６ 挿入ガイド面
１４０ 電磁アクチュエータ
１４１ １４２ 永久磁石
１４３ １４４ コイル
１４３ａ １４４ａ コイルの長辺部
１４３ｂ １４４ｂ コイルの湾曲部
１４５ １４６ 位置センサ
１４７ ＦＰＣ
ＬＧ１ 第１レンズ群
ＬＧ２ 第２レンズ群（光学要素）
ＬＧ３ 第３レンズ群（第２の光学要素）
Ｍ１ Ｍ２ Ｍ１１ Ｍ１２ 磁極境界線
Ｏ 撮影光軸
Ｐ 離脱方向中心線
Ｑ１ Ｑ２ Ｑ１１ Ｑ１２ コイルの長軸方向線
Ｓ シャッタ

Claims (15)

1. 光学素子を保持し、該光学要素が光学系の光軸上に位置する防振駆動範囲から該防振駆動範囲を外れた離脱位置まで直進移動可能に支持部材に支持された移動部材；
   上記支持部材に支持されるコイルと上記移動部材に支持される磁石を備え、光学系に加わる振れの大きさと方向に応じて、コイルの通電制御によって上記防振駆動範囲内で上記移動部材を駆動制御する電磁アクチュエータ；及び
   上記電磁アクチュエータとは異なる駆動源によって、上記移動部材を上記防振駆動範囲に位置させる挿入位置と上記離脱位置に位置させる離脱保持位置との間で移動される挿脱動作部材；
   を有し、
   上記電磁アクチュエータは、上記移動部材が上記防振駆動範囲にあるときそれぞれが光軸方向に対向する第１の上記磁石及び第１の上記コイルと、第２の上記磁石及び第２の上記コイルを備え、
   上記第１の磁石と第２の磁石は、上記光学要素の略中心を通り上記移動部材の移動方向に向く離脱方向中心線を挟んで、各磁石の磁極の境界を通る磁極境界線が上記離脱位置側から上記防振駆動範囲側に進むにつれて互いの間隔を広くするように配置されていることを特徴とする光学要素の位置制御装置。
2. 請求項１記載の光学要素の位置制御装置において、上記第１の磁石の磁極境界線と上記第２の磁石の磁極境界線は、上記離脱方向中心線に対して傾斜方向反対で略同一角度で交差する光学要素の位置制御装置。
3. 請求項２記載の光学要素の位置制御装置において、上記第１の磁石の磁極境界線と上記第２の磁石の磁極境界線の、上記離脱方向中心線に対する交差角は約４５度である光学要素の位置制御装置。
4. 請求項１ないし３のいずれか１項記載の光学要素の位置制御装置において、上記移動部材を上記防振駆動範囲から離脱位置まで移動可能に支持し、該移動部材の移動方向と略直交する方向に移動可能に上記支持部材に支持された中間支持部材を備え、上記電磁アクチュエータは上記第１と第２のコイルの通電により上記移動部材と上記中間支持部材の両方を駆動制御する光学要素の位置制御装置。
5. 請求項４記載の光学要素の位置制御装置において、上記中間支持部材は、上記離脱方向中心線と略直交する方向に延設される一対の第１方向辺部と、該一対の第１方向辺部を接続し上記離脱方向中心線と略平行に延設される一対の第２方向辺部と、該一対の第１方向辺部と一対の第２方向辺部で囲まれる開口空間とを有する枠状体であり、
   上記一対の第２方向辺部の一方と他方に沿って、上記離脱方向中心線と略平行に延設される一対の直進ガイド軸を備え、
   上記移動部材は、上記光学要素を保持する光学要素保持部と、該光学要素保持部から上記第１の磁石と第２の磁石のそれぞれの上記磁極境界線に沿う方向に延出されて上記一対の直進ガイド軸に摺動可能に支持される一対の支持腕部を有し、該一対の支持腕部の一方と他方に上記第１の磁石と第２の磁石が支持される光学要素の位置制御装置。
6. 請求項５記載の光学要素の位置制御装置において、光軸に沿って見て、上記第１の磁石と第１のコイルの少なくとも一部が上記一対の直進ガイド軸の一方と重なる位置にあり、上記第２の磁石と第２のコイルの少なくとも一部が上記一対の直進ガイド軸の他方と重なる位置にある光学要素の位置制御装置。
7. 請求項５または６記載の光学要素の位置制御装置において、上記移動部材は上記防振駆動範囲にあるときに上記中間支持部材の開口空間内に位置し、
   該移動部材が上記離脱位置に移動することで形成される上記中間支持部材の開口空間内の領域に、上記光学要素と異なる第２の光学要素が進入する光学要素の位置制御装置。
8. 請求項１ないし７のいずれか１項記載の光学要素の位置制御装置において、上記第１の磁石と第２の磁石はそれぞれ、上記磁極境界線に沿う方向に長い細長矩形形状である光学要素の位置制御装置。
9. 光学素子を保持し、該光学要素が光学系の光軸上に位置する防振駆動範囲から該防振駆動範囲を外れた離脱位置まで直進移動可能に支持部材に支持された移動部材；
   上記支持部材に支持される磁石と上記移動部材に支持されるコイルを備え、光学系に加わる振れの大きさと方向に応じて、コイルの通電制御によって上記防振駆動範囲内で上記移動部材を駆動制御する電磁アクチュエータ；及び
   上記電磁アクチュエータとは異なる駆動源によって、上記移動部材を上記防振駆動範囲に位置させる挿入位置と上記離脱位置に位置させる離脱保持位置との間で移動される挿脱動作部材；
   を有し、
   上記電磁アクチュエータは、上記移動部材が上記防振駆動範囲にあるときそれぞれが光軸方向に対向する第１の上記磁石及び第１の上記コイルと、第２の上記磁石及び第２の上記コイルを備え、第１のコイルと第２のコイルはそれぞれ直線状の長辺部を有し、
   上記第１のコイルと第２のコイルは、上記光学要素の略中心を通り上記移動部材の移動方向に向く離脱方向中心線を挟んで、各コイルの上記長辺部に沿う長手方向線が上記離脱位置側から上記防振駆動範囲側に進むにつれて互いの間隔を広くするように配置されていることを特徴とする光学要素の位置制御装置。
10. 請求項９記載の光学要素の位置制御装置において、上記第１のコイルの長手方向線と上記第２のコイルの長手方向線は、上記離脱方向中心線に対して傾斜方向反対で略同一角度で交差する光学要素の位置制御装置。
11. 請求項１０記載の光学要素の位置制御装置において、上記第１のコイルの長手方向線と上記第２のコイルの長手方向線の、上記離脱方向中心線に対する交差角は約４５度である光学要素の位置制御装置。
12. 請求項９ないし１１のいずれか１項記載の光学要素の位置制御装置において、上記移動部材を上記防振駆動範囲から離脱位置まで移動可能に支持し、該移動部材の移動方向と略直交する方向に移動可能に上記支持部材に支持された中間支持部材を備え、上記電磁アクチュエータは上記第１と第２のコイルの通電により上記移動部材と上記中間支持部材の両方を駆動制御する光学要素の位置制御装置。
13. 請求項１２記載の光学要素の位置制御装置において、上記中間支持部材は、上記離脱方向中心線と略直交する方向に延設される一対の第１方向辺部と、該一対の第１方向辺部を接続し上記離脱方向中心線と略平行に延設される一対の第２方向辺部と、該一対の第１方向辺部と一対の第２方向辺部で囲まれる開口空間とを有する枠状体であり、
    上記一対の第２方向辺部の一方と他方に沿って、上記離脱方向中心線と略平行に延設される一対の直進ガイド軸を備え、
    上記移動部材は、上記光学要素を保持する光学要素保持部と、該光学要素保持部から上記第１のコイルと第２のコイルのそれぞれの上記長手方向線に沿う方向に延出されて上記一対の直進ガイド軸に摺動可能に支持される一対の支持腕部を有し、該一対の支持腕部の一方と他方に上記第１のコイルと第２のコイルが支持される光学要素の位置制御装置。
14. 請求項１３記載の光学要素の位置制御装置において、光軸に沿って見て、上記第１の磁石と第１のコイルの少なくとも一部が上記一対の直進ガイド軸の一方と重なる位置にあり、上記第２の磁石と第２のコイルの少なくとも一部が上記一対の直進ガイド軸の他方と重なる位置にある光学要素の位置制御装置。
15. 請求項１３または１４記載の光学要素の位置制御装置において、上記移動部材は上記防振駆動範囲にあるときに上記中間支持部材の開口空間内に位置し、
    該移動部材が上記離脱位置に移動することで形成される上記中間支持部材の開口空間内の領域に、上記光学要素と異なる第２の光学要素が進入する光学要素の位置制御装置。

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