JP2011118049A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2011118049A5
JP2011118049A5 JP2009273679A JP2009273679A JP2011118049A5 JP 2011118049 A5 JP2011118049 A5 JP 2011118049A5 JP 2009273679 A JP2009273679 A JP 2009273679A JP 2009273679 A JP2009273679 A JP 2009273679A JP 2011118049 A5 JP2011118049 A5 JP 2011118049A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure
roll
exposure apparatus
laser
pulse
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009273679A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5650902B2 (ja
JP2011118049A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2009273679A priority Critical patent/JP5650902B2/ja
Priority claimed from JP2009273679A external-priority patent/JP5650902B2/ja
Publication of JP2011118049A publication Critical patent/JP2011118049A/ja
Publication of JP2011118049A5 publication Critical patent/JP2011118049A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5650902B2 publication Critical patent/JP5650902B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2009273679A 2009-12-01 2009-12-01 ナノインプリント用モールドの露光装置及びナノインプリント用モールドの製造方法 Expired - Fee Related JP5650902B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009273679A JP5650902B2 (ja) 2009-12-01 2009-12-01 ナノインプリント用モールドの露光装置及びナノインプリント用モールドの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009273679A JP5650902B2 (ja) 2009-12-01 2009-12-01 ナノインプリント用モールドの露光装置及びナノインプリント用モールドの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011118049A JP2011118049A (ja) 2011-06-16
JP2011118049A5 true JP2011118049A5 (https=) 2012-12-20
JP5650902B2 JP5650902B2 (ja) 2015-01-07

Family

ID=44283488

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009273679A Expired - Fee Related JP5650902B2 (ja) 2009-12-01 2009-12-01 ナノインプリント用モールドの露光装置及びナノインプリント用モールドの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5650902B2 (https=)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2583813B1 (en) 2010-06-16 2020-07-01 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Roller mold manufacturing device and manufacturing method
JP5968601B2 (ja) * 2011-06-30 2016-08-10 株式会社ホロン ロールモールド製作装置およびロールモールド作製方法
US9391236B2 (en) 2011-08-31 2016-07-12 Asahi Kasei E-Materials Corporation Substrate for optics having a plurality of dot lines, semiconductor light emitting device. and exposure apparatus
CN102566260A (zh) * 2011-12-30 2012-07-11 西安交通大学 超长光栅尺辊压模具表面图形化的快速加工方法
KR101705958B1 (ko) * 2012-05-14 2017-02-10 아사히 가세이 가부시키가이샤 롤러 몰드의 제작 장치 및 제작 방법
JP6047051B2 (ja) * 2013-03-28 2016-12-21 日立マクセル株式会社 光学素子および光学装置
JP6818479B2 (ja) 2016-09-16 2021-01-20 デクセリアルズ株式会社 原盤の製造方法
US12243832B2 (en) * 2022-04-08 2025-03-04 Nanya Technology Corporation Method for manufacturing semiconductor device structure with overlay marks

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3668600B2 (ja) * 1997-11-07 2005-07-06 大日本スクリーン製造株式会社 画像出力装置
JPH11149642A (ja) * 1997-11-14 1999-06-02 Canon Inc 光記録媒体およびその製造方法
JP4258013B2 (ja) * 2001-08-08 2009-04-30 株式会社オーク製作所 多重露光描画装置および多重露光描画方法
EP1710094B1 (en) * 2004-01-27 2011-10-05 Asahi Kasei Chemicals Corporation Process for producing laser engravable printing substrate
JP2007144995A (ja) * 2005-10-25 2007-06-14 Dainippon Printing Co Ltd 光硬化ナノインプリント用モールド及びその製造方法
JP4559997B2 (ja) * 2006-03-31 2010-10-13 財団法人光産業技術振興協会 偏光板
JP4367442B2 (ja) * 2006-06-23 2009-11-18 ヤマハ株式会社 光ディスク描画方法および光ディスク描画装置
JP2008004243A (ja) * 2006-06-26 2008-01-10 Yamaha Corp 光ディスク描画方法および光ディスク装置並びに光ディスク記録媒体
JP5028892B2 (ja) * 2006-07-18 2012-09-19 コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 画像形成装置及びプリントヘッド
KR101220641B1 (ko) * 2008-01-25 2013-01-10 아사히 가세이 가부시키가이샤 심리스 몰드의 제조 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011118049A5 (https=)
US20110024400A1 (en) Method and apparatus for laser processing the surface of a drum
JP2007260773A5 (https=)
CN104105569B (zh) 用于在介电基片中形成精细尺度结构的方法和设备
JPH11186189A5 (ja) レーザ照射装置及び半導体装置の作製方法
TW201026420A (en) Method and apparatus for forming grooves in the surface of a polymer layer
JP2012187618A (ja) ガラス基板のレーザ加工装置
JP5650902B2 (ja) ナノインプリント用モールドの露光装置及びナノインプリント用モールドの製造方法
JP2010274328A5 (https=)
JP2004249508A (ja) 光造形装置
Zhang et al. High aspect-ratio micromachining of polymers with an ultrafast laser
JP6533644B2 (ja) ビーム整形マスク、レーザ加工装置及びレーザ加工方法
JP2009537333A (ja) 移動基板をマイクロ構造化するための方法およびユニット
JP2004126312A (ja) 三次元ホログラフィック記録方法および三次元ホログラフィック記録装置
JP2008126283A (ja) 微細構造体の製造方法、露光方法
JP2005084617A (ja) 多光子吸収露光方法および装置
CN103273196B (zh) 有机玻璃的co2激光选区辐照扫描加工微透镜阵列的方法
JP2003257025A5 (https=)
JP2008112985A5 (https=)
CN1821883A (zh) 对光滑表面进行微米结构光刻蚀的方法及装置
JP4436162B2 (ja) レーザ加工装置
KR20220148321A (ko) 연속 회절 광학 소자를 생성하기 위한 방법, 생성 방법을 수행하기 위한 장치, 및 연속 회절 광학 소자
JP2003014915A (ja) Ｄａｍｍａｎｎ型グレーティングをつけた光学素子
JP6107131B2 (ja) ナノ構造体及びその作製方法
US8585390B2 (en) Mold making system and mold making method