JP2011111344A - ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 - Google Patents
ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011111344A JP2011111344A JP2009267590A JP2009267590A JP2011111344A JP 2011111344 A JP2011111344 A JP 2011111344A JP 2009267590 A JP2009267590 A JP 2009267590A JP 2009267590 A JP2009267590 A JP 2009267590A JP 2011111344 A JP2011111344 A JP 2011111344A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- heat input
- glass layer
- input amount
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 374
- 238000003466 welding Methods 0.000 title claims abstract description 79
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 54
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 23
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 40
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 37
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 16
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 6
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims description 5
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 173
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 11
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 11
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 11
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLMOMDXKLRBTDY-UHFFFAOYSA-A [V+5].[V+5].[V+5].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O Chemical compound [V+5].[V+5].[V+5].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O GLMOMDXKLRBTDY-UHFFFAOYSA-A 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 239000005385 borate glass Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- ZPPSOOVFTBGHBI-UHFFFAOYSA-N lead(2+);oxido(oxo)borane Chemical compound [Pb+2].[O-]B=O.[O-]B=O ZPPSOOVFTBGHBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 239000012002 vanadium phosphate Substances 0.000 description 2
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
- C03C27/04—Joining glass to metal by means of an interlayer
- C03C27/048—Joining glass to metal by means of an interlayer consisting of an adhesive specially adapted for that purpose
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/26—Sealing together parts of vessels
- H01J9/261—Sealing together parts of vessels the vessel being for a flat panel display
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/0006—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring taking account of the properties of the material involved
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/18—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring using absorbing layers on the workpiece, e.g. for marking or protecting purposes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/20—Bonding
- B23K26/32—Bonding taking account of the properties of the material involved
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
- C03C27/04—Joining glass to metal by means of an interlayer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
- C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/26—Sealing together parts of vessels
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/02—Details
- H05B33/04—Sealing arrangements, e.g. against humidity
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/50—Inorganic material, e.g. metals, not provided for in B23K2103/02 – B23K2103/26
- B23K2103/54—Glass
Abstract
【課題】 、信頼性の高いガラス溶着体を製造することができるガラス溶着方法、及びそのためのガラス層定着方法を提供する。
【解決手段】 溶着予定領域Ｒに沿ってレーザ光Ｌ１を照射してガラス層３を溶融させる際、第１の入熱量を有するレーザ光Ｌ１を溶着予定領域Ｒに沿って照射することで、バインダをガス化させると共にガラスフリット２を溶融させ、レーザ光Ｌ１の進行方向と略直交する方向におけるガラス層３の溶融率が所定値を越えたときに入熱量を切り替えて、第１の入熱量よりも少ない第２の入熱量を有するレーザ光Ｌ１を溶着予定領域Ｒに沿って照射することで、バインダをガス化させると共にガラスフリット２溶融させ、ガラス部材４にガラス層３を定着させる。
【選択図】 図７
【解決手段】 溶着予定領域Ｒに沿ってレーザ光Ｌ１を照射してガラス層３を溶融させる際、第１の入熱量を有するレーザ光Ｌ１を溶着予定領域Ｒに沿って照射することで、バインダをガス化させると共にガラスフリット２を溶融させ、レーザ光Ｌ１の進行方向と略直交する方向におけるガラス層３の溶融率が所定値を越えたときに入熱量を切り替えて、第１の入熱量よりも少ない第２の入熱量を有するレーザ光Ｌ１を溶着予定領域Ｒに沿って照射することで、バインダをガス化させると共にガラスフリット２溶融させ、ガラス部材４にガラス層３を定着させる。
【選択図】 図７
Description
本発明は、ガラス部材同士を溶着してガラス溶着体を製造するガラス溶着方法、及びそのためのガラス層定着方法に関する。
上記技術分野における従来のガラス溶着方法として、レーザ光吸収性顔料を含むガラス層を、溶着予定領域に沿うように一方のガラス部材に焼き付けた後、そのガラス部材にガラス層を介して他方のガラス部材を重ね合わせ、溶着予定領域に沿ってレーザ光を照射することにより、一方のガラス部材と他方のガラス部材とを溶着する方法が知られている。
ところで、ガラス部材にガラス層を焼き付ける技術としては、ガラスフリット、レーザ光吸収性顔料、有機溶剤及びバインダを含むペースト層から有機溶剤及びバインダを除去することにより、ガラス部材にガラス層を固着させた後、ガラス層が固着したガラス部材を焼成炉内で加熱することにより、ガラス層を溶融させて、ガラス部材にガラス層を焼き付ける技術が一般的である（例えば、特許文献１参照）。
また、ガラス部材にガラス層を定着させるために、炉内での加熱に代えて、レーザ光の照射によってガラス層から有機物（有機溶剤やバインダ）を除去する技術が提案されている（例えば、特許文献２，３参照）。このような技術によれば、ガラス部材に形成された機能層等が加熱されて劣化するのを防止することができ、また、炉の使用による消費エネルギの増大及び炉内での加熱時間の長時間化を抑制することができる。
しかしながら、ガラス部材に対するガラス層の焼付けをレーザ光の照射によって行うと、焼付け時や、その後のガラス部材同士の溶着時に、ガラス部材にクラックが生じるなど、ガラス部材が破損することがあった。
そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、信頼性の高いガラス溶着体を製造することができるガラス溶着方法、及びそのためのガラス層定着方法を提供することを目的とする。
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、レーザ光の照射によるガラス層の焼付けがガラス部材の破損に繋がるのは、図１２に示されるように、焼付け時にガラス層の温度が融点Ｔｍを超えるとガラス層のレーザ光吸収率が急激に高くなることに起因していることを突き止めた。つまり、ガラス部材に配置されたガラス層においては、ガラスフリットの粒子性等によって、レーザ光吸収性顔料の吸収特性を上回る光散乱が起こり、レーザ光吸収率が低い状態となっている（例えば、可視光下において白っぽく見える）。
そこで、図１３に示されるように、ガラス層の温度が融点Ｔｍよりも高く且つ結晶化温度Ｔｃよりも低い温度ＴｐとなるようにレーザパワーＰでレーザ光を照射すると、ガラスフリットの溶融によって粒子性が崩れるなどして、レーザ光吸収性顔料の吸収特性が顕著に現れ、ガラス層のレーザ光吸収率が急激に高くなる（例えば、可視光下において黒っぽく或いは緑っぽく見える）。これにより、ガラス層において想定以上のレーザ光の吸収が起こり、入熱過多によるヒートショックでガラス部材にクラックが生じるのである。
また、レーザパワーＰでのレーザ光の照射によって、実際には、図１３に示されるように、ガラス層の温度が結晶化温度Ｔｃよりも高い温度Ｔａに達する。ガラス層において焼付け対象のガラス部材と反対側に位置する部分（すなわち、ガラス層において溶着対象のガラス部材側に位置する部分）が入熱過多によって結晶化すると、その部分の融点が高くなる。そのため、その後のガラス部材同士の溶着時に、ガラス層において溶着対象のガラス部材側に位置する部分を溶融させるべく、レーザパワーを高くしてレーザ光を照射することが必要となり、焼付け時と同様に入熱過多によるヒートショックでガラス部材にクラックが生じるのである。
更に、図１４に示されるように、ガラス層の粘度は、ガラス層の温度が結晶化温度Ｔｃに達するまでは徐々に低くなるが、ガラス層の温度が結晶化温度Ｔｃを超えると徐々に高くなる傾向にある。これは、溶融したガラス層において結晶部が析出し、その結晶部が（セラミックス等からなる膨張係数調整用のフィラーが含まれる場合には、そのフィラーも）核となって結晶成長することにより、ガラス層の流動性が低下するためと想定される。ここで、上述したようにガラス層のレーザ光吸収率が急激に上昇すると、それに伴って、図１４に示されるように、ガラス層の温度もＴ１からＴ２というように急激に上昇するので、ガラス層の粘度も急激に高くなる。その結果、溶融したガラス層にバインダのガス化によって形成された気泡が埋まり難くなるので、バインダの分解ガスが抜け切る前にガラス層が固化してしまう。これにより、ガラス層に多数の気泡が形成され、その気泡が繋がると、ガラス溶着体においてガラス層でリークが起こるおそれがある。
本発明者は、この知見に基づいて更に検討を重ね、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明に係るガラス溶着方法は、第１のガラス部材と第２のガラス部材とを溶着してガラス溶着体を製造するガラス溶着方法であって、バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を、溶着予定領域に沿うように第１のガラス部材に配置する工程と、第１の入熱量を有する第１のレーザ光を溶着予定領域に沿って照射することによりバインダをガス化させると共にガラス粉を溶融させ、第１のレーザ光の進行方向と交差する方向におけるガラス層の溶融率が所定値を越えたときに、第１の入熱量から第１の入熱量よりも少ない第２の入熱量に切り替えて、第２の入熱量を有する第１のレーザ光を溶着予定領域に沿って照射することによりバインダをガス化させると共にガラス粉を溶融させ、第１のガラス部材にガラス層を定着させる工程と、ガラス層が定着した第１のガラス部材にガラス層を介して第２のガラス部材を重ね合わせ、溶着予定領域に沿って第２のレーザ光を照射することにより、第１のガラス部材と第２のガラス部材とを溶着する工程と、を含むことを特徴とする。
また、本発明に係るガラス層定着方法は、第１のガラス部材にガラス層を定着させてガラス層定着部材を製造するガラス層定着方法であって、バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を、溶着予定領域に沿うように第１のガラス部材に配置する工程と、第１の入熱量を有する第１のレーザ光を溶着予定領域に沿って照射することによりバインダをガス化させると共にガラス粉を溶融させ、第１のレーザ光の進行方向と交差する方向におけるガラス層の溶融率が所定値を越えたときに、第１の入熱量から第１の入熱量よりも少ない第２の入熱量に切り替えて、第２の入熱量を有する第１のレーザ光を溶着予定領域に沿って照射することによりバインダをガス化させると共にガラス粉を溶融させ、第１のガラス部材にガラス層を定着させる工程と、を含むことを特徴とする。
これらのガラス溶着方法及びガラス層定着方法では、溶着予定領域に沿って第１のレーザ光を照射してガラス層を溶融させる際、第１の入熱量を有する第１のレーザ光を溶着予定領域に沿って照射することによりバインダをガス化させると共にガラス粉を溶融させ、第１のレーザ光の進行方向と交差する方向におけるガラス層の溶融率が所定値を越えたときに入熱量を切り替えて、第１の入熱量よりも少ない第２の入熱量を有する第１のレーザ光を溶着予定領域に沿って照射することによりバインダをガス化させると共にガラス粉を溶融させ、第１のガラス部材にガラス層を定着させる。このガラス層の定着時には、ガラス層の溶融率が所定値を越えるとガラス層のレーザ光吸収率が急激に高くなるが、それ以降、第１の入熱量よりも少ない第２の入熱量を有する第１のレーザ光を照射するようにしているため、ガラス層が入熱過多の状態となることが抑止される。このような入熱量の切替えにより、第１のレーザ光の照射によって第１のガラス部材にガラス層を定着させても、ガラス層の定着時や、その後のガラス部材同士の溶着時に、ガラス部材にクラックが生じるなど、ガラス部材が破損するのを防止することができる。更に、このような入熱量の切替えにより、ガラス層の急激な温度上昇に起因してガラス層の粘度が急激に高くなることが抑制されるので、溶融したガラス層からバインダの分解ガスが抜け易くなる。これにより、ガラス層に多数の気泡が形成されるのを防止することができる。従って、これらのガラス溶着方法及びガラス層定着方法によれば、信頼性の高いガラス溶着体を製造することが可能となる。なお、「入熱量」とは、第１のレーザ光がその照射領域で有するエネルギ密度である。また、「ガラス層の溶融率」とは、第１のレーザ光の進行方向と交差する方向において、「ガラス層の溶融部分の幅」が「ガラス層の全幅」に占める割合である。
本発明に係るガラス溶着方法においては、第１のレーザ光の照射パワーを低下させることにより、第１の入熱量から第２の入熱量に切り替えることが好ましい。この場合、照射パワーの低下により入熱量の切替えを行っているため、第１の入熱量から第２の入熱量へ確実に切り替えることが可能となる。
本発明に係るガラス溶着方法においては、ガラス層に対する第１のレーザ光の進行速度を上昇させることにより、第１の入熱量から第２の入熱量に切り替えることが好ましい。この場合、第１のレーザ光の進行速度の上昇により入熱量の切替えを行っているため、第１の入熱量から第２の入熱量へ確実に切り替えることが可能となる。しかも、進行速度を上昇させて切替えを行うことから、ガラス層の定着に要する時間を短縮化させることが可能となる。なお、「ガラス層に対する第１のレーザ光の進行速度」とは、第１のレーザ光の相対的な進行速度を意味し、第１のレーザ光が固定されてガラス層が移動する場合、ガラス層が固定されて第１のレーザ光が移動する場合、第１のレーザ光及びガラス層のそれぞれが移動する場合を含む。
本発明に係るガラス溶着方法においては、第１のレーザ光の照射開始から所定時間経過したときに、第１の入熱量から第２の入熱量に切り替えることが好ましい。この場合、予め求められた所定時間を制御するといった簡易な方法で第１の入熱量から第２の入熱量に容易に切り替えることが可能となる。しかも、同じ構成のガラス層の場合、第１のレーザ光の照射条件が同一であれば、所定時間を略同一とすることができるため、同じ構成のガラス層を連続して又は同時に複数溶融させることが容易に行え、製造効率を向上させることが可能となる。
本発明に係るガラス溶着方法においては、ガラス層から放射される熱輻射光の強度が所定値まで上昇したときに、第１の入熱量から第２の入熱量に切り替えることが好ましい。この場合、ガラス層の溶融率が上昇するにつれて漸増するといった関連性を有する熱輻射光の強度を検出することで、入熱量の切替えを正確に行うことが可能となる。
本発明に係るガラス溶着方法においては、ガラス層で反射された第１のレーザ光の反射光の強度が所定値まで低下したときに、第１の入熱量から第２の入熱量に切り替えることが好ましい。この場合、ガラス層の溶融率が上昇するにつれて漸減するといった関連性を有する反射光の強度を検出することで、入熱量の切替えを正確に行うことが可能となる。
本発明によれば、信頼性の高いガラス溶着体を製造することが可能となる。
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
図１は、本発明に係るガラス溶着方法の一実施形態によって製造されたガラス溶着体の斜視図である。図１に示されるように、ガラス溶着体１は、溶着予定領域Ｒに沿って形成されたガラス層３を介して、ガラス部材（第１のガラス部材）４とガラス部材（第２のガラス部材）５とが溶着されたものである。ガラス部材４，５は、例えば、無アルカリガラスからなる厚さ０．７ｍｍの矩形板状の部材であり、溶着予定領域Ｒは、ガラス部材４，５の外縁に沿って矩形環状に設定されている。ガラス層３は、例えば、低融点ガラス（バナジウムリン酸系ガラス、鉛ホウ酸ガラス等）からなり、溶着予定領域Ｒに沿って矩形環状に形成されている。
次に、上述したガラス溶着体１を製造するためのガラス溶着方法（ガラス部材４とガラス部材５とを溶着してガラス溶着体１を製造するために、ガラス部材４にガラス層３を定着させてガラス層定着部材を製造するガラス層定着方法を含む）について説明する。
まず、図２に示されるように、ディスペンサやスクリーン印刷等によってフリットペーストを塗布することにより、溶着予定領域Ｒに沿ってガラス部材４の表面４ａにペースト層６を形成する。フリットペーストは、例えば、低融点ガラス（バナジウムリン酸系ガラス、鉛ホウ酸ガラス等）からなる粉末状のガラスフリット（ガラス粉）２、酸化鉄等の無機顔料であるレーザ光吸収性顔料（レーザ光吸収材）、酢酸アミル等である有機溶剤、及びガラスの軟化点温度以下で熱分解する樹脂成分（ニトロセルロース、エチルセルロース、アクリル等）であるバインダを混練したものである。フリットペーストは、レーザ光吸収性顔料（レーザ光吸収材）が予め添加された低融点ガラスを粉末状にしたガラスフリット（ガラス粉）、有機溶剤、及びバインダを混練したものであってもよい。つまり、ペースト層６は、ガラスフリット２、レーザ光吸収性顔料、有機溶剤及びバインダを含んでいる。
続いて、ペースト層６を乾燥させて有機溶剤を除去することにより、溶着予定領域Ｒに沿ってガラス部材４の表面４ａにガラス層３を固着させる。これにより、バインダ、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット２を含むガラス層３が、溶着予定領域Ｒに沿うようにガラス部材４に配置されることになる。なお、ガラス部材４の表面４ａに固着したガラス層３は、ガラスフリット２の粒子性等によって、レーザ光吸収性顔料の吸収特性を上回る光散乱が起こり、レーザ光吸収率が低い状態となっている（例えば、可視光において白っぽく見える）。
続いて、図３〜図５に示されるように、ガラス層３の溶着予定領域Ｒにおける照射開始位置Ａに集光スポットを合わせて、レーザ光（第１のレーザ光）Ｌ１の照射を開始し、溶着予定領域Ｒに沿って図示矢印の進行方向に向かって照射を進める。ところで、レーザ光Ｌ１は、図６に示されるように、幅方向（レーザ光Ｌ１の進行方向と略直交する方向）の中央部の温度が高く両端部に向かって温度が低くなる温度分布を有している。このため、図５に示されるように、ガラス層３の溶融率（レーザ光Ｌ１の進行方向と略直交する方向において、ガラス層３の溶融部分の幅がガラス層３の全幅に占める割合）が略ゼロである照射開始位置Ａから溶融率が徐々に上昇して、溶融率が１００％近い安定領域となる安定領域開始位置Ｂまでは所定の距離があり、照射開始位置Ａから安定領域開始位置Ｂまでは、ガラス層３の溶融が幅方向の一部で行われる不安定領域となっている。
この不安定領域では、ガラス層３の溶融が幅方向全体にわたって為されていないため、レーザ光吸収率が完全には高くなっていない。そこで、図７に示されるように、レーザ光Ｌ１は、安定領域のガラス層３に照射した場合に結晶化してしまうような強い照射条件、例えば、レーザ光Ｌ１の照射パワーが１０Ｗといった第１の入熱量で照射を開始する。なお、入熱量とは、次の数式（１）で表わすことができ、本実施形態においては、進行速度やスポット径は一定となっているため、照射パワーによって入熱量が変化するようになっている。
入熱量（Ｊ／ｍｍ２）＝パワー密度（Ｊ・Ｓ／ｍｍ２）÷進行速度（Ｓ）・・・（１）
入熱量（Ｊ／ｍｍ２）＝パワー密度（Ｊ・Ｓ／ｍｍ２）÷進行速度（Ｓ）・・・（１）
その後、安定領域開始位置Ｂへ至ってガラス層３が幅方向全体にわたって溶融する安定領域となると、ガラス層３の温度が幅方向にわたって融点Ｔｍ以上となり、ガラスフリットの溶融によって粒子性が崩れるなどして、レーザ光吸収性顔料の吸収特性が顕著に現れ、ガラス層３のレーザ光吸収率が幅方向全体にわたって急激に高くなり、溶融率が１００％近くなる（例えば、可視光において黒っぽく見える）。これにより、ガラス層３において想定以上のレーザ光Ｌ１の吸収が起こり、ガラス層３への入熱が過多となる。
そこで、図７に示されるように、ガラス層３の溶融率が１００％近くなる所定時間Ｘを経過した後（若しくはその直前）、すなわちガラス層３が幅方向全体において融点Ｔｍを超えてレーザ光吸収率が急激に高くなった直後、レーザ光Ｌ１の照射パワーを照射パワー１０Ｗから照射パワー８Ｗに低下させる切替えを行い、照射パワー１０Ｗの第１の入熱量から照射パワー８Ｗの第２の入熱量へと入熱量の切替えを行う。本実施形態では、所定時間Ｘをガラス層３の構成毎に事前に求めており、予め求められた所定時間Ｘを制御するといった簡易な方法で第１の入熱量から第２の入熱量へと切り替えている。また、同じ構成のガラス層の場合、同じ入熱量に対しては略同一の溶融度合となるため、レーザ光Ｌ１の照射条件が同一であれば、所定時間Ｘを略同一とすることができる。
その後、第２の入熱量である照射パワー８Ｗでレーザ照射を行い、溶着予定領域Ｒに沿って照射開始位置Ａに戻るまで、レーザ光Ｌ１によるガラス層３への照射を続け、焼付けを終了させる。なお、必要に応じて、不安定領域にレーザ光Ｌ１を再照射して安定領域とするように、レーザ照射をオーバラップさせてもよい。
このような入熱量を切り替える制御を行ってガラス層３の焼付けを行うことにより、ガラス部材４に配置されたガラス層３は、結晶化が抑止された状態で溶融・再固化し、ガラス部材４の表面４ａにガラス層３が焼き付けられて定着させられる。その結果、ガラス層定着部材（すなわち、ガラス層３が定着したガラス部材４）が製造される。更に、このような入熱量の切替えにより、ガラス層３の急激な温度上昇に起因してガラス層３の粘度が急激に高くなることが抑制されるので、溶融したガラス層３からバインダの分解ガスが抜け易くなる。これにより、ガラス層３に多数の気泡が形成されるのを防止することができる。なお、ガラス部材４の表面４ａに焼き付けられたガラス層３は、ガラスフリット２の溶融によって粒子性が崩れるなどして、レーザ光吸収性顔料の吸収特性が顕著に現れ、レーザ光吸収率が高い状態となる（例えば、可視光において黒っぽく見える）。
そして、溶着予定領域Ｒ全周にわたって結晶化を抑止されたガラス層３の焼付けが終了すると、図８に示されるように、ガラス層定着部材１０（すなわち、ガラス層３が定着したガラス部材４）に対し、ガラス層３を介してガラス部材５を重ね合わせる。
続いて、図９に示されるように、ガラス層３に集光スポットを合わせて、レーザ光（第２のレーザ光）Ｌ２を溶着予定領域Ｒに沿って照射する。これにより、溶着予定領域Ｒ全周にわたってレーザ光吸収率が高く且つ結晶化が抑止された状態となっているガラス層３にレーザ光Ｌ２が吸収されて、ガラス層３及びその周辺部分（ガラス部材４，５の表面４ａ，５ａ部分）が溶融・再固化し、ガラス部材４とガラス部材５とが溶着される（溶着においては、ガラス層３が溶融し、ガラス部材４，５が溶融しない場合もある）。このとき、ガラス部材４に焼き付けられたガラス層３の溶融が溶着予定領域Ｒ全周にわたって結晶化が抑止された安定領域として形成され、バインダも十分に除去されているため、ガラス層３の融点が高くなることなく、ガラス部材４とガラス部材５とが溶着予定領域Ｒに沿って均一に溶着され、破損が防止される。
以上説明したように、ガラス溶着体１を製造するためのガラス溶着方法（ガラス層定着方法を含む）においては、溶着予定領域Ｒに沿ってレーザ光Ｌ１を照射してガラス層３を溶融させる際、第１の入熱量を有するレーザ光Ｌ１を溶着予定領域Ｒに沿って照射することによりバインダをガス化させると共にガラスフリット２を溶融させ、レーザ光Ｌ１の進行方向と略直交する方向におけるガラス層３の溶融率が１００％近くなった際に入熱量を切り替えて、第１の入熱量よりも少ない第２の入熱量を有するレーザ光Ｌ１を溶着予定領域Ｒに沿って照射することにより、バインダをガス化させると共にガラスフリット２を溶融させ、ガラス部材４にガラス層３を定着させる。このガラス層３の定着時には、ガラス層３の溶融率が１００％近くになるとガラス層３のレーザ光吸収率が急激に高くなるが、それ以降、第１の入熱量よりも少ない第２の入熱量を有するレーザ光Ｌ１を照射するようにしているため、ガラス層３が入熱過多の状態となることが抑止される。このような入熱量の切替えにより、レーザ光Ｌ１の照射によってガラス部材４にガラス層３を定着させても、ガラス層３の定着時や、その後のガラス部材４，５同士の溶着時に、ガラス部材４，５にクラックが生じるなど、ガラス部材４，５が破損するのを防止することができる。更に、このような入熱量の切替えにより、ガラス層３の急激な温度上昇に起因してガラス層３の粘度が急激に高くなることが抑制されるので、溶融したガラス層３からバインダの分解ガスが抜け易くなる。これにより、ガラス層３に多数の気泡が形成されるのを防止することができる。従って、これらのガラス溶着方法及びガラス層定着方法によれば、信頼性の高いガラス溶着体１を製造することが可能となる。
また、上述したガラス溶着方法においては、レーザ光Ｌ１の照射パワーを低下させることにより、第１の入熱量から第２の入熱量に切り替えている。このような照射パワーの低下により入熱量の切替えを行っているため、第１の入熱量から第２の入熱量へ確実に切り替えることが可能となる。
また、上述したガラス溶着方法においては、レーザ光Ｌ１の照射開始から所定時間Ｘを経過したときに溶融率が１００％近くなり、第１の入熱量から第２の入熱量に切り替えている。このため、予め求められた、溶融率が１００％近くなる所定時間Ｘを制御するといった簡易な方法で第１の入熱量から第２の入熱量に容易に切り替えることが可能となる。しかも、同じ構成のガラス層の場合、レーザ光Ｌ１の照射条件が同一であれば、所定時間Ｘを略同一とすることができるため、同じ構成のガラス層３を連続して又は同時に複数溶融させることが容易に行え、複数のガラス溶着体１を製造する際の製造効率を大幅に向上させることが可能となる。
ところで、有機ＥＬパッケージ等においては、容器自体が小型であるため、より薄型化されたガラス部材４，５が使用されることから、ガラス部材４，５の材料としては、割れを生じ難くすべく低膨張ガラスが選択されることが多い。このとき、ガラス層３の線膨張係数をガラス部材４，５の線膨張係数と合わせるために（すなわち、ガラス層３の線膨張係数を低くするために）、セラミックス等からなるフィラーをガラス層３に多量に含有させる。ガラス層３にフィラーを多量に含有させると、レーザ光Ｌ１の照射の前後でガラス層３のレーザ光吸収率がより一層大きく変化することになる。従って、上述したガラス溶着方法は、ガラス部材４，５の材料として低膨張ガラスを選択する場合に、特に有効である。
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。
例えば、上記実施形態では、レーザ光Ｌ１の照射開始位置Ａから所定時間Ｘを経過したときに溶融率が１００％近くなり、第１の入熱量から第２の入熱量に切り替えるようにしているが、図１０に示されるように、ガラス層３から放射される熱輻射光の強度が所定値Ｑまで上昇したときに、第１の入熱量から第２の入熱量へ切り替えるようにしてもよい。この場合、ガラス層３の溶融率が上昇するにつれて漸増するといった関連性を有する熱輻射光の強度を検出することで、入熱量の切替えを正確に行うことが可能となる。また、図１１に示されるように、ガラス層３で反射されたレーザ光Ｌ１の反射光の強度が所定値Ｐまで低下したときに、第１の入熱量から第２の入熱量に切り替えるようにしてもよい。この場合、ガラス層３の溶融率が上昇するにつれて漸減するといった関連性を有する反射光の強度を検出することで、入熱量の切替えを正確に行うことが可能となる。
また、上記実施形態では、レーザ光Ｌ１の照射パワーを変更することによりガラス層３への入熱量を制御するようにしていたが、上述した数式（１）で示されるように、レーザ光Ｌ１の照射パワーを一定として、レーザ光Ｌ１の相対的な照射速度（つまり、レーザ光Ｌ１のガラス層３に対する進行速度）を上昇させることによりガラス層３への入熱量の切替えを行うようにしてもよい。この場合、レーザ光Ｌ１の進行速度の上昇により入熱量の切替えを行っているため、第１の入熱量から第２の入熱量へ確実に切り替えることが可能となる。しかも、進行速度を上昇させて切替えを行うことから、ガラス層３の定着に要する時間を短縮化させることが可能となる。なお、進行速度を上昇させることで入熱量の切替えを行う場合、速度の加速過程が含まれる場合が多いため、切替えを行うべきタイミング（所定時間Ｘの経過時、又は熱輻射光若しくは反射光の強度が所定値）になる前に進行速度の切替え制御を開始して、実際に切替えを行うべきタイミングには切替えが完了していることが、ガラス層３の結晶化抑止の観点からは好ましい。
また、上記実施形態では、固定されたガラス部材４，５に対してレーザ光Ｌ１，Ｌ２を進行させるようにしているが、レーザ光Ｌ１，Ｌ２が各ガラス部材４，５に対して相対的に進行すればよく、レーザ光Ｌ１，Ｌ２を固定してガラス部材４，５を移動させるようにしてもよいし、ガラス部材４，５とレーザ光Ｌ１，Ｌ２とをそれぞれ移動させるようにしてもよい。
また、上記実施形態では、溶融率が１００％といった所定値の際に入熱量の切替えを行っているが、ガラス層３が適切に溶融していれば、例えば溶融率が９０％といった所定値の際に入熱量の切替えを行って、ガラス層３の結晶化を確実に抑止させるようにしてもよい。なお、溶融率が低いうちに入熱量を切替えると、切替えた後のレーザ光の吸収率が不十分となり、ガラス層の溶融処理を維持することができなくなるおそれがあることから、入熱量の切替えを行うための溶融率の所定値は８０％が好ましい。
また、上記実施形態では、直接、ガラス層３にレーザ光Ｌ１を照射させていたが、ガラス部材４を介してガラス層３にレーザ光Ｌ１を照射させるようにしてもよい。
１…ガラス溶着体、２…ガラスフリット（ガラス粉）、３…ガラス層、４…ガラス部材（第１のガラス部材）、５…ガラス部材（第２のガラス部材）、６…ペースト層、１０…ガラス層定着部材、Ａ…照射開始位置、Ｂ…安定領域開始位置、Ｒ…溶着予定領域、Ｌ１…レーザ光（第１のレーザ光）、Ｌ２…レーザ光（第２のレーザ光）。
Claims (7)
- 第１のガラス部材と第２のガラス部材とを溶着してガラス溶着体を製造するガラス溶着方法であって、
バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を、溶着予定領域に沿うように前記第１のガラス部材に配置する工程と、
第１の入熱量を有する第１のレーザ光を前記溶着予定領域に沿って照射することにより前記バインダをガス化させると共に前記ガラス粉を溶融させ、前記第１のレーザ光の進行方向と交差する方向における前記ガラス層の溶融率が所定値を越えたときに、前記第１の入熱量から前記第１の入熱量よりも少ない第２の入熱量に切り替えて、前記第２の入熱量を有する前記第１のレーザ光を前記溶着予定領域に沿って照射することにより前記バインダをガス化させると共に前記ガラス粉を溶融させ、前記第１のガラス部材に前記ガラス層を定着させる工程と、
前記ガラス層が定着した前記第１のガラス部材に前記ガラス層を介して前記第２のガラス部材を重ね合わせ、前記溶着予定領域に沿って第２のレーザ光を照射することにより、前記第１のガラス部材と前記第２のガラス部材とを溶着する工程と、を含むことを特徴とするガラス溶着方法。 - 前記第１のレーザ光の照射パワーを低下させることにより、前記第１の入熱量から前記第２の入熱量に切り替えることを特徴とする請求項１記載のガラス溶着方法。
- 前記ガラス層に対する前記第１のレーザ光の進行速度を上昇させることにより、前記第１の入熱量から前記第２の入熱量に切り替えることを特徴とする請求項１記載のガラス溶着方法。
- 前記第１のレーザ光の照射開始から所定時間経過したときに、前記第１の入熱量から前記第２の入熱量に切り替えることを特徴とする請求項１記載のガラス溶着方法。
- 前記ガラス層から放射される熱輻射光の強度が所定値まで上昇したときに、前記第１の入熱量から前記第２の入熱量に切り替えることを特徴とする請求項１記載のガラス溶着方法。
- 前記ガラス層で反射された前記第１のレーザ光の反射光の強度が所定値まで低下したときに、前記第１の入熱量から前記第２の入熱量に切り替えることを特徴とする請求項１記載のガラス溶着方法。
- 第１のガラス部材にガラス層を定着させてガラス層定着部材を製造するガラス層定着方法であって、
バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含む前記ガラス層を、溶着予定領域に沿うように前記第１のガラス部材に配置する工程と、
第１の入熱量を有する第１のレーザ光を前記溶着予定領域に沿って照射することにより前記バインダをガス化させると共に前記ガラス粉を溶融させ、前記第１のレーザ光の進行方向と交差する方向における前記ガラス層の溶融率が所定値を越えたときに、前記第１の入熱量から前記第１の入熱量よりも少ない第２の入熱量に切り替えて、前記第２の入熱量を有する前記第１のレーザ光を前記溶着予定領域に沿って照射することにより前記バインダをガス化させると共に前記ガラス粉を溶融させ、前記第１のガラス部材に前記ガラス層を定着させる工程と、を含むことを特徴とするガラス層定着方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009267590A JP5535589B2 (ja) | 2009-11-25 | 2009-11-25 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| PCT/JP2010/066142 WO2011065109A1 (ja) | 2009-11-25 | 2010-09-17 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| KR1020127013244A KR101844083B1 (ko) | 2009-11-25 | 2010-09-17 | 유리 용착 방법 및 유리층 정착 방법 |
| US13/511,735 US9021836B2 (en) | 2009-11-25 | 2010-09-17 | Glass welding method and glass layer fixing method |
| TW099131740A TWI490072B (zh) | 2009-11-25 | 2010-09-17 | Glass welding method and glass layer fixation method |
| CN201080053494.XA CN102666417B (zh) | 2009-11-25 | 2010-09-17 | 玻璃熔接方法及玻璃层固定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009267590A JP5535589B2 (ja) | 2009-11-25 | 2009-11-25 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011111344A true JP2011111344A (ja) | 2011-06-09 |
| JP5535589B2 JP5535589B2 (ja) | 2014-07-02 |
Family
ID=44066212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009267590A Active JP5535589B2 (ja) | 2009-11-25 | 2009-11-25 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9021836B2 (ja) |
| JP (1) | JP5535589B2 (ja) |
| KR (1) | KR101844083B1 (ja) |
| CN (1) | CN102666417B (ja) |
| TW (1) | TWI490072B (ja) |
| WO (1) | WO2011065109A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018186094A (ja) * | 2013-02-04 | 2018-11-22 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 封止体の作製方法 |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5308718B2 (ja) | 2008-05-26 | 2013-10-09 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法 |
| DE112009001347T5 (de) * | 2008-06-11 | 2011-04-21 | Hamamatsu Photonics K.K., Hamamatsu | Schmelzverbindungsprozess für Glas |
| KR101651300B1 (ko) * | 2008-06-23 | 2016-08-25 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 유리 용착 방법 |
| JP5481167B2 (ja) * | 2009-11-12 | 2014-04-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法 |
| JP5535588B2 (ja) | 2009-11-25 | 2014-07-02 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| JP5525246B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2014-06-18 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| JP5466929B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2014-04-09 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| JP5481173B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2014-04-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| JP5535589B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2014-07-02 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| JP5535590B2 (ja) | 2009-11-25 | 2014-07-02 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| JP5567319B2 (ja) | 2009-11-25 | 2014-08-06 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| JP5481172B2 (ja) | 2009-11-25 | 2014-04-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| CN102557469B (zh) * | 2012-02-29 | 2013-12-25 | 南京工业大学 | 一种选择性激光熔融制备光转换微纳米晶-玻璃复合功能材料的方法 |
| US9666763B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-05-30 | Corning Incorporated | Glass sealing with transparent materials having transient absorption properties |
| WO2014182776A1 (en) | 2013-05-10 | 2014-11-13 | Corning Incorporated | Laser welding transparent glass sheets using low melting glass or thin absorbing films |
| CN107406292B (zh) | 2014-10-31 | 2021-03-16 | 康宁股份有限公司 | 激光焊接的玻璃封装和制造方法 |
| CN108569851A (zh) * | 2017-03-14 | 2018-09-25 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 玻璃切割方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002366050A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 画像表示装置の製造方法、製造装置およびそれを用いて製造した画像表示装置 |
| JP2006524419A (ja) * | 2003-04-16 | 2006-10-26 | コーニング インコーポレイテッド | フリットにより密封されたガラスパッケージおよびその製造方法 |
| JP2008115057A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Electric Power Dev Co Ltd | 封止材料、ガラスパネルの製造方法および色素増感太陽電池 |
| JP2009123421A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-04 | Canon Inc | 気密容器の製造方法 |
Family Cites Families (94)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1244346B (de) | 1964-10-19 | 1967-07-13 | Menzel Gerhard Glasbearbeitung | Verfahren zum Schneiden von Glas |
| US3663793A (en) * | 1971-03-30 | 1972-05-16 | Westinghouse Electric Corp | Method of decorating a glazed article utilizing a beam of corpuscular energy |
| US4343833A (en) | 1979-06-26 | 1982-08-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing thermal head |
| JPH02120259A (ja) | 1988-10-28 | 1990-05-08 | Toshiba Corp | ガラスの封止接合体およびその製造方法 |
| JPH05166462A (ja) | 1991-12-17 | 1993-07-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 平板型表示装置用真空容器の製造方法 |
| US5489321A (en) | 1994-07-14 | 1996-02-06 | Midwest Research Institute | Welding/sealing glass-enclosed space in a vacuum |
| TWI255934B (en) | 1998-12-04 | 2006-06-01 | Samsung Electronics Co Ltd | A substrate and a liquid crystal display panel capable of being cut by using a laser and a method for manufacturing the same |
| KR100626983B1 (ko) | 1999-06-18 | 2006-09-22 | 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 | 레이저를 이용한 스크라이브 방법 |
| JP2001326290A (ja) | 2000-03-10 | 2001-11-22 | Seiko Epson Corp | パッケージの封止方法、電子素子モジュールの製造方法、封止装置並びにパッケージ品 |
| JP2002015108A (ja) | 2000-06-30 | 2002-01-18 | Nomura Holding Inc | 企業価値分析装置及び企業価値分析方法 |
| WO2002054436A1 (en) | 2000-12-28 | 2002-07-11 | Jae-Hong Park | A method for sealing a flat panel display in a vacuum |
| WO2006124682A2 (en) | 2005-05-16 | 2006-11-23 | Donnelly Corporation | Vehicle mirror assembly with indicia at reflective element |
| JP2002224871A (ja) | 2001-01-31 | 2002-08-13 | Seiko Epson Corp | レーザ切断方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器およびレーザ切断装置 |
| JP2002287107A (ja) | 2001-03-28 | 2002-10-03 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置およびその製造方法 |
| JP2002367514A (ja) | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 表示パネルおよびその製造方法およびその製造装置 |
| US6565400B1 (en) | 2001-06-26 | 2003-05-20 | Candescent Technologies Corporation | Frit protection in sealing process for flat panel displays |
| TW517356B (en) * | 2001-10-09 | 2003-01-11 | Delta Optoelectronics Inc | Package structure of display device and its packaging method |
| JP2004182567A (ja) | 2002-12-05 | 2004-07-02 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 真空ガラスパネルの製造方法、及び該製造方法により製造された真空ガラスパネル |
| US20040206953A1 (en) | 2003-04-16 | 2004-10-21 | Robert Morena | Hermetically sealed glass package and method of fabrication |
| US20050116245A1 (en) | 2003-04-16 | 2005-06-02 | Aitken Bruce G. | Hermetically sealed glass package and method of fabrication |
| JP4202836B2 (ja) | 2003-06-17 | 2008-12-24 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ溶接方法およびレーザ溶接装置 |
| KR101110998B1 (ko) | 2003-07-16 | 2012-02-17 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 광학 시트, 라미네이트 및 라미네이트 제조 방법 |
| US20050103755A1 (en) | 2003-11-13 | 2005-05-19 | Baker Martin C. | Hand-held laser welding wand reflection shield |
| JP2005213125A (ja) | 2004-02-02 | 2005-08-11 | Futaba Corp | 電子管と電子管の気密容器の製造方法 |
| US7820941B2 (en) | 2004-07-30 | 2010-10-26 | Corning Incorporated | Process and apparatus for scoring a brittle material |
| US7371143B2 (en) | 2004-10-20 | 2008-05-13 | Corning Incorporated | Optimization of parameters for sealing organic emitting light diode (OLED) displays |
| JP4692918B2 (ja) | 2004-12-01 | 2011-06-01 | 日本電気硝子株式会社 | 封着材料 |
| US20070001579A1 (en) | 2005-06-30 | 2007-01-04 | Eun-Suk Jeon | Glass-to-glass joining method using laser, vacuum envelope manufactured by the method, electron emission display having the vacuum envelope |
| KR101285442B1 (ko) | 2005-08-09 | 2013-07-12 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 박판 유리 적층체 및 박판 유리 적층체를 이용한 표시장치의 제조 방법 |
| JP2007090405A (ja) | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Epson Toyocom Corp | 積層光学素子、及びその製造方法 |
| US7537504B2 (en) * | 2005-12-06 | 2009-05-26 | Corning Incorporated | Method of encapsulating a display element with frit wall and laser beam |
| WO2007067384A2 (en) | 2005-12-06 | 2007-06-14 | Corning Incorporated | Hermetically sealed glass package and method of manufacture |
| EP1971558B1 (en) * | 2005-12-06 | 2016-05-04 | Corning Incorporated | Glass package that is hermetically sealed with a frit and method of fabrication |
| US9150450B2 (en) * | 2005-12-06 | 2015-10-06 | Corning Incorporated | System and method for frit sealing glass packages |
| KR100673765B1 (ko) | 2006-01-20 | 2007-01-24 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기전계발광 표시장치 및 그 제조방법 |
| JP4456092B2 (ja) * | 2006-01-24 | 2010-04-28 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 有機電界発光表示装置及びその製造方法 |
| KR100732808B1 (ko) * | 2006-01-26 | 2007-06-27 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기전계발광 표시장치의 제조방법 |
| KR100671647B1 (ko) * | 2006-01-26 | 2007-01-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기전계발광 표시 장치 |
| KR100713987B1 (ko) | 2006-02-20 | 2007-05-04 | 삼성에스디아이 주식회사 | 기판 밀착장치 및 이를 이용한 유기전계발광 표시장치의밀봉방법 |
| JP4977391B2 (ja) | 2006-03-27 | 2012-07-18 | 日本電気株式会社 | レーザ切断方法、表示装置の製造方法、および表示装置 |
| CN101437772B (zh) | 2006-05-08 | 2011-09-07 | 旭硝子株式会社 | 薄板玻璃叠层体、使用了薄板玻璃叠层体的显示装置的制造方法及支持用玻璃基板 |
| KR101274807B1 (ko) * | 2006-06-30 | 2013-06-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 전계 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
| US20080124558A1 (en) | 2006-08-18 | 2008-05-29 | Heather Debra Boek | Boro-silicate glass frits for hermetic sealing of light emitting device displays |
| JP2008115067A (ja) | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Lemi Ltd | フラットパネルディスプレィ薄板の割断方法 |
| US7800303B2 (en) | 2006-11-07 | 2010-09-21 | Corning Incorporated | Seal for light emitting display device, method, and apparatus |
| JP2008127223A (ja) | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Lemi Ltd | フラットパネルディスプレィ薄板の割断方法 |
| DE102007008634B3 (de) | 2007-02-16 | 2008-08-07 | Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Trennen von Verbundglasscheiben |
| US8070474B2 (en) * | 2007-05-30 | 2011-12-06 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Lamination shaping apparatus |
| JP2009070687A (ja) | 2007-09-13 | 2009-04-02 | Canon Inc | 気密容器の製造方法 |
| US8247730B2 (en) | 2007-09-28 | 2012-08-21 | Corning Incorporated | Method and apparatus for frit sealing with a variable laser beam |
| US7815480B2 (en) | 2007-11-30 | 2010-10-19 | Corning Incorporated | Methods and apparatus for packaging electronic components |
| JP4928483B2 (ja) | 2008-02-22 | 2012-05-09 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法 |
| US8490430B2 (en) | 2008-04-25 | 2013-07-23 | Hamamatsu Photonics K.K. | Process for fusing glass |
| TWI421601B (zh) | 2008-04-25 | 2014-01-01 | Au Optronics Corp | 適用雷射切割技術之顯示面板及其母板 |
| JP5308718B2 (ja) * | 2008-05-26 | 2013-10-09 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法 |
| JP5308717B2 (ja) * | 2008-05-26 | 2013-10-09 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法 |
| US8147632B2 (en) * | 2008-05-30 | 2012-04-03 | Corning Incorporated | Controlled atmosphere when sintering a frit to a glass plate |
| US7992411B2 (en) * | 2008-05-30 | 2011-08-09 | Corning Incorporated | Method for sintering a frit to a glass plate |
| US8448468B2 (en) | 2008-06-11 | 2013-05-28 | Corning Incorporated | Mask and method for sealing a glass envelope |
| DE112009001347T5 (de) | 2008-06-11 | 2011-04-21 | Hamamatsu Photonics K.K., Hamamatsu | Schmelzverbindungsprozess für Glas |
| KR101651301B1 (ko) | 2008-06-11 | 2016-08-25 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 유리 용착 방법 |
| JP5535655B2 (ja) | 2008-06-23 | 2014-07-02 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法 |
| KR101651300B1 (ko) | 2008-06-23 | 2016-08-25 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 유리 용착 방법 |
| CN102089251B (zh) * | 2008-07-16 | 2014-06-11 | 费罗公司 | 热熔性密封玻璃组合物及其制造和使用的方法 |
| US9165719B2 (en) | 2008-07-28 | 2015-10-20 | Corning Incorporated | Method for sealing a liquid within a glass package and the resulting glass package |
| US20100095705A1 (en) * | 2008-10-20 | 2010-04-22 | Burkhalter Robert S | Method for forming a dry glass-based frit |
| US20100116119A1 (en) | 2008-11-10 | 2010-05-13 | Bayne John F | Method for separating a composite glass assembly |
| US8245536B2 (en) | 2008-11-24 | 2012-08-21 | Corning Incorporated | Laser assisted frit sealing of high CTE glasses and the resulting sealed glass package |
| JP5673102B2 (ja) * | 2008-11-26 | 2015-02-18 | 旭硝子株式会社 | 封着材料層付きガラス部材およびそれを用いた電子デバイスとその製造方法 |
| JP5413373B2 (ja) * | 2008-12-12 | 2014-02-12 | 旭硝子株式会社 | レーザ封着用ガラス材料、封着材料層付きガラス部材、および電子デバイスとその製造方法 |
| KR101097307B1 (ko) | 2009-04-16 | 2011-12-21 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 실링 장치 |
| US8440479B2 (en) | 2009-05-28 | 2013-05-14 | Corning Incorporated | Method for forming an organic light emitting diode device |
| CN102471151B (zh) * | 2009-06-30 | 2015-04-01 | 旭硝子株式会社 | 带密封材料层的玻璃构件以及使用该构件的电子器件及其制造方法 |
| KR20120048528A (ko) * | 2009-07-23 | 2012-05-15 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 봉착 재료층이 부착된 유리 부재의 제조 방법 및 제조 장치, 그리고 전자 디바이스의 제조 방법 |
| JP5481167B2 (ja) * | 2009-11-12 | 2014-04-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法 |
| JP5525246B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2014-06-18 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| JP5481173B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2014-04-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| JP5535588B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2014-07-02 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| JP5535589B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2014-07-02 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| JP5567319B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2014-08-06 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| JP5481172B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2014-04-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| JP5535590B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2014-07-02 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| JP5466929B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2014-04-09 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 |
| KR101113381B1 (ko) | 2009-11-30 | 2012-03-02 | 삼성에스디아이 주식회사 | 배터리 팩 |
| TWI497466B (zh) * | 2010-03-19 | 2015-08-21 | Asahi Glass Co Ltd | Electronic device and manufacturing method thereof |
| US9540274B2 (en) * | 2010-04-15 | 2017-01-10 | Ferro Corporation | Low-melting lead-free bismuth sealing glasses |
| EP2564471B1 (en) * | 2010-04-27 | 2021-01-20 | Ferro Corporation | Hermetic sealing of glass plates |
| JP2011233479A (ja) | 2010-04-30 | 2011-11-17 | Canon Inc | 気密容器および画像表示装置の製造方法 |
| CN102939270B (zh) * | 2010-06-14 | 2015-11-25 | 旭硝子株式会社 | 密封材料糊以及使用其的电子器件的制造方法 |
| KR101401177B1 (ko) | 2010-07-23 | 2014-05-29 | 파나소닉 주식회사 | 표시 패널 및 그 제조 방법 |
| JP5947098B2 (ja) * | 2011-05-13 | 2016-07-06 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | ガラス封止体の作製方法および発光装置の作製方法 |
| JP6111022B2 (ja) * | 2011-06-17 | 2017-04-05 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 封止体の作製方法および発光装置の作製方法 |
| KR102058387B1 (ko) * | 2011-11-28 | 2019-12-24 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 유리 패턴 및 그 형성 방법, 밀봉체 및 그 제작 방법, 및 발광 장치 |
| KR20130118491A (ko) | 2012-04-20 | 2013-10-30 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 실링 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
-
2009
- 2009-11-25 JP JP2009267590A patent/JP5535589B2/ja active Active
-
2010
- 2010-09-17 KR KR1020127013244A patent/KR101844083B1/ko active IP Right Grant
- 2010-09-17 WO PCT/JP2010/066142 patent/WO2011065109A1/ja active Application Filing
- 2010-09-17 US US13/511,735 patent/US9021836B2/en active Active
- 2010-09-17 TW TW099131740A patent/TWI490072B/zh not_active IP Right Cessation
- 2010-09-17 CN CN201080053494.XA patent/CN102666417B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002366050A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 画像表示装置の製造方法、製造装置およびそれを用いて製造した画像表示装置 |
| JP2006524419A (ja) * | 2003-04-16 | 2006-10-26 | コーニング インコーポレイテッド | フリットにより密封されたガラスパッケージおよびその製造方法 |
| JP2008115057A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Electric Power Dev Co Ltd | 封止材料、ガラスパネルの製造方法および色素増感太陽電池 |
| JP2009123421A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-04 | Canon Inc | 気密容器の製造方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018186094A (ja) * | 2013-02-04 | 2018-11-22 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 封止体の作製方法 |
| JP2019220488A (ja) * | 2013-02-04 | 2019-12-26 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置の作製方法 |
| JP2021009860A (ja) * | 2013-02-04 | 2021-01-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | ガラス層の形成方法 |
| JP2022079735A (ja) * | 2013-02-04 | 2022-05-26 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | ガラス層の形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN102666417A (zh) | 2012-09-12 |
| JP5535589B2 (ja) | 2014-07-02 |
| TW201127534A (en) | 2011-08-16 |
| KR101844083B1 (ko) | 2018-03-30 |
| US20120247153A1 (en) | 2012-10-04 |
| WO2011065109A1 (ja) | 2011-06-03 |
| TWI490072B (zh) | 2015-07-01 |
| CN102666417B (zh) | 2015-01-21 |
| KR20120117749A (ko) | 2012-10-24 |
| US9021836B2 (en) | 2015-05-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5535589B2 (ja) | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 | |
| JP5535653B2 (ja) | ガラス溶着方法 | |
| JP5535588B2 (ja) | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 | |
| JP5567319B2 (ja) | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 | |
| JP5140201B2 (ja) | ガラス層定着方法 | |
| JP5481172B2 (ja) | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 | |
| JP5481173B2 (ja) | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 | |
| JP5535654B2 (ja) | ガラス溶着方法 | |
| JP5308718B2 (ja) | ガラス溶着方法 | |
| JP2011111353A (ja) | ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 | |
| JP5651327B2 (ja) | ガラス溶着方法 | |
| WO2011065104A1 (ja) | ガラス溶着方法 | |
| JP2010043000A (ja) | ガラス層定着方法 | |
| JP2012031032A (ja) | ガラス溶着方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120628 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140121 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140415 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140423 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5535589 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |