JP5535588B2 - ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 - Google Patents

ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5535588B2
JP5535588B2 JP2009267584A JP2009267584A JP5535588B2 JP 5535588 B2 JP5535588 B2 JP 5535588B2 JP 2009267584 A JP2009267584 A JP 2009267584A JP 2009267584 A JP2009267584 A JP 2009267584A JP 5535588 B2 JP5535588 B2 JP 5535588B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
region
glass
glass layer
welding
laser beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009267584A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011111343A (ja
Inventor
松本  聡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hamamatsu Photonics KK
Original Assignee
Hamamatsu Photonics KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hamamatsu Photonics KK filed Critical Hamamatsu Photonics KK
Priority to JP2009267584A priority Critical patent/JP5535588B2/ja
Priority to US13/511,683 priority patent/US9016091B2/en
Priority to KR1020127006077A priority patent/KR101162028B1/ko
Priority to PCT/JP2010/066136 priority patent/WO2011065103A1/ja
Priority to TW099131738A priority patent/TWI402126B/zh
Priority to CN201080053435.2A priority patent/CN102666413B/zh
Publication of JP2011111343A publication Critical patent/JP2011111343A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5535588B2 publication Critical patent/JP5535588B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00Re-forming shaped glass
    • C03B23/20Uniting glass pieces by fusing without substantial reshaping
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/20Bonding
    • B23K26/21Bonding by welding
    • B23K26/211Bonding by welding with interposition of special material to facilitate connection of the parts
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
    • B23K26/0869Devices involving movement of the laser head in at least one axial direction
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/20Bonding
    • B23K26/21Bonding by welding
    • B23K26/24Seam welding
    • B23K26/244Overlap seam welding
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/20Bonding
    • B23K26/32Bonding taking account of the properties of the material involved
    • B23K26/324Bonding taking account of the properties of the material involved involving non-metallic parts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0005Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
    • C03C23/0025Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by a laser beam
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/06Joining glass to glass by processes other than fusing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/06Joining glass to glass by processes other than fusing
    • C03C27/10Joining glass to glass by processes other than fusing with the aid of adhesive specially adapted for that purpose
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/24Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
    • H01J9/26Sealing together parts of vessels
    • H01J9/261Sealing together parts of vessels the vessel being for a flat panel display
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/24Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
    • H01J9/26Sealing together parts of vessels
    • H01J9/265Sealing together parts of vessels specially adapted for gas-discharge tubes or lamps
    • H01J9/266Sealing together parts of vessels specially adapted for gas-discharge tubes or lamps specially adapted for gas-discharge lamps
    • H01J9/268Sealing together parts of vessels specially adapted for gas-discharge tubes or lamps specially adapted for gas-discharge lamps the vessel being flat
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/40Closing vessels

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Joining Of Glass To Other Materials (AREA)

Description

本発明は、ガラス部材同士を溶着してガラス溶着体を製造するガラス溶着方法、及びそのためのガラス層定着方法に関する。
上記技術分野における従来のガラス溶着方法として、有機物(有機溶剤やバインダ)、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を、溶着予定領域に沿うように一方のガラス部材に定着させた後、そのガラス部材にガラス層を介して他方のガラス部材を重ね合わせ、溶着予定領域に沿ってレーザ光を照射することにより、一方及び他方のガラス部材同士を溶着する方法が知られている。
ところで、ガラス部材にガラス層を定着させるために、炉内での加熱に代えて、レーザ光の照射によってガラス層から有機物を除去する技術が提案されている(例えば、特許文献1,2参照)。このような技術によれば、ガラス部材に形成された機能層等が加熱されて劣化するのを防止することができ、また、炉の使用による消費エネルギの増大及び炉内での加熱時間の長時間化を抑制することができる。
特開2002−366050号公報 特開2002−367514号公報
しかしながら、レーザ光の照射によってガラス部材にガラス層を定着させ(いわゆる仮焼成)、その後、レーザ光の照射によってガラス層を介してガラス部材同士を溶着すると(いわゆる本焼成)、ガラス層でリークが起こり、気密な溶着を必要とするガラス溶着体を得ることができない場合があった。
そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、気密な溶着を必要とするガラス溶着体を製造することができるガラス溶着方法、及びそのためのガラス層定着方法を提供することを目的とする。
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、ガラス溶着体においてガラス層でリークが起こるのは、ガラス層からのバインダの除去に起因していることを突き止めた。つまり、バインダをガス化させると共にガラス粉を溶融させてガラス部材にガラス層を定着させるために、溶着予定領域に沿ってレーザ光の照射領域を相対的に移動させてガラス層にレーザ光を照射すると、ガラス粉の融点がバインダの分解点よりも高いので、溶融したガラス層からバインダの分解ガスが抜け切る前にガラス層が固化する場合がある。これにより、図13に示されるように、ガラス層に多数の気泡が形成され、その気泡が繋がると、ガラス溶着体においてガラス層でリークが起こるのである。
なお、ガラス層に形成された気泡を消すために再度レーザ光を照射しても、容易にはガラス層における気泡を埋めることができない。これは、ガラス層の粘度が高くなっているからと想定される。また、ガラス粉を溶融させずにバインダのみをガス化させ得るレーザパワーでレーザ光を照射し、その後、ガラス粉を溶融させ得るレーザパワーでレーザ光を照射することで、ガラス部材にガラス層を定着させようとすると、図14に示されるように、ガラス層がガラス部材に濡れずに凝集してしまう。これは、最初のレーザ光の照射の際に、ガス化したバインダがガラス部材とガラス層との間に入り込むためと想定される。
本発明者は、以上の知見に基づいて更に検討を重ね、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明に係るガラス溶着方法は、第1のガラス部材と第2のガラス部材とを溶着してガラス溶着体を製造するガラス溶着方法であって、延在する溶着予定領域に沿うように、バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を所定の幅で第1のガラス部材に配置する工程と、溶着予定領域に沿って第1のレーザ光の照射領域を相対的に移動させてガラス層に第1のレーザ光を照射することにより、バインダをガス化させると共にガラス粉を溶融させ、第1のガラス部材にガラス層を定着させる工程と、ガラス層が定着した第1のガラス部材にガラス層を介して第2のガラス部材を重ね合わせ、ガラス層に第2のレーザ光を照射することにより、第1のガラス部材と第2のガラス部材とを溶着する工程と、を含み、第1のレーザ光の照射領域は、溶着予定領域の延在方向に沿って配列された第1の領域及び第2の領域を有し、第2の領域に対して第1の領域が先行するように溶着予定領域に沿って移動させられ、第2の領域は、第1の領域の照射によって溶融させられたガラス層が固化する前にガラス層に照射され、第1の領域と第2の領域とは、繋がっており、溶着予定領域に沿って長尺状となっていること、又は第1の領域と第2の領域とは、離れていることを特徴とする。また、本発明に係るガラス層定着方法は、第1のガラス部材にガラス層を定着させてガラス層定着部材を製造するガラス層定着方法であって、延在する溶着予定領域に沿うように、バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を所定の幅で第1のガラス部材に配置する工程と、溶着予定領域に沿って第1のレーザ光の照射領域を相対的に移動させてガラス層に第1のレーザ光を照射することにより、バインダをガス化させると共にガラス粉を溶融させ、第1のガラス部材にガラス層を定着させる工程と、を含み、第1のレーザ光の照射領域は、溶着予定領域の延在方向に沿って配列された第1の領域及び第2の領域を有し、第2の領域に対して第1の領域が先行するように溶着予定領域に沿って移動させられ、第2の領域は、第1の領域の照射によって溶融させられたガラス層が固化する前にガラス層に照射され、第1の領域と第2の領域とは、繋がっており、溶着予定領域に沿って長尺状となっていること、又は第1の領域と第2の領域とは、離れていることを特徴とする。
これらのガラス溶着方法及びガラス層定着方法では、バインダをガス化させると共にガラス粉を溶融させて第1のガラス部材にガラス層を定着させるために、第1のレーザ光がガラス層に照射される。ここで、第1のレーザ光の照射領域は、溶着予定領域の延在方向に沿って配列された第1の領域及び第2の領域を有しており、第2の領域に対して第1の領域が先行するように溶着予定領域に沿って移動させられる。そして、第2の領域は、第1の領域の照射によって溶融させられたガラス層が固化する前にガラス層に照射される。このように、ガラス層が固化する前に第1のレーザ光の第2の領域がガラス層に照射されるので、ガラス層が固化するのに要する時間が長くなり、その結果、第1のレーザ光の第1の領域の照射によってガス化したバインダがガラス層から抜け易くなる。従って、これらのガラス溶着方法及びガラス層定着方法によれば、ガラス層に気泡が形成されることを抑制することができるので、気密な溶着を必要とするガラス溶着体を製造することが可能となる。また、第1の領域と第2の領域とが繋がっている場合にも、第1の領域と第2の領域とが離れていても、ガラス層が固化する前に第1のレーザ光の第2の領域がガラス層に照射されるので、第1のレーザ光の第1の領域の照射によってガス化したバインダがガラス層から抜け易くなる。なお、第1の領域の照射と第2の領域の照射との間における冷却によって発生する応力を低減するという観点では、第1の領域と第2の領域とが繋がっていたほうがよい。
また、本発明に係るガラス溶着方法においては、第1の領域における第1のレーザ光の強度は、第2の領域における第1のレーザ光の強度よりも高くなっていることが好ましい。この場合、ガラス層を短時間で効率良く溶融させることができる。その一方で、第1の領域に続いて第2の領域がガラス層に照射されても、ガラス層の温度が上昇し続けて結晶化温度に達するのを防止し、ガラス層の温度を融点よりも高く且つ結晶化温度よりも低い温度に維持することができる。
また、本発明に係るガラス溶着方法においては、第1のレーザ光は、第1のガラス部材側から第1のガラス部材を介してガラス層に照射されることが好ましい。この場合、ガラス層における第1のガラス部材側の部分が十分に加熱されるので、第1のガラス部材に対するガラス層の密着性を向上させることができる。しかも、ガラス層における第1のガラス部材と反対側の部分(すなわち、ガラス層において第2のガラス部材と溶着される部分)が入熱過多によって結晶化するのが防止されるので、第2のガラス部材に対するガラス層の溶着状態を均一化することができる。
本発明によれば、気密な溶着を必要とするガラス溶着体を製造することが可能となる。
本発明に係るガラス溶着方法の一実施形態によって製造されたガラス溶着体の斜視図である。 図1のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 図1のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための断面図である。 図1のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための平面図である。 図1のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための断面図である。 図1のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための平面図である。 仮焼成用のレーザ光の照射領域とガラス層との関係を示す図である。 図1のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 図1のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 ガラス部材に定着させられたガラス層の写真を示す図である。 仮焼成用のレーザ光の照射領域とガラス層との関係を示す図である。 仮焼成用のレーザ光の照射領域とガラス層との関係を示す図である。 気泡が形成されたガラス層の写真を示す図である。 凝集したガラス層の写真を示す図である。
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
図1に示されるように、ガラス溶着体1は、溶着予定領域Rに沿って形成されたガラス層3を介して、ガラス部材(第1のガラス部材)4とガラス部材(第2のガラス部材)5とが溶着されたものである。ガラス部材4,5は、例えば、無アルカリガラスからなる厚さ0.7mmの矩形板状の部材であり、溶着予定領域Rは、ガラス部材4,5の外縁に沿うように所定の幅で矩形環状に設定されている。ガラス層3は、例えば、低融点ガラス(バナジウムリン酸系ガラス、鉛ホウ酸ガラス等)からなり、溶着予定領域Rに沿うように所定の幅で矩形環状に形成されている。
次に、上述したガラス溶着体1を製造するためのガラス溶着方法(ガラス部材4とガラス部材5とを溶着してガラス溶着体1を製造するために、ガラス部材4にガラス層3を定着させてガラス層定着部材を製造するガラス層定着方法を含む)について説明する。
まず、図2に示されるように、ディスペンサやスクリーン印刷等によってフリットペーストを塗布することにより、溶着予定領域Rに沿ってガラス部材4の表面4aにペースト層6を形成する。フリットペーストは、例えば、低融点ガラス(バナジウムリン酸系ガラス、鉛ホウ酸ガラス等)からなる粉末状のガラスフリット(ガラス粉)2、酸化鉄等の無機顔料であるレーザ光吸収性顔料(レーザ光吸収材)、酢酸アミル等である有機溶剤及びガラスの軟化点温度以下で熱分解する樹脂成分(アクリル等)であるバインダを混練したものである。つまり、ペースト層6は、有機溶剤、バインダ、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット2を含んでいる。
続いて、ペースト層6を乾燥させて有機溶剤を除去する。これにより、矩形環状に延在する溶着予定領域Rに沿うように、ガラス層3が所定の幅でガラス部材4に配置されることになる。つまり、ガラス層3は、バインダ、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット2を含んでいる。なお、ガラス部材4の表面4aに配置されたガラス層3は、ガラスフリット2の粒子性等によってレーザ光吸収性顔料の吸収特性を上回る光散乱が起こり、レーザ光吸収率が低い状態となっている(例えば、可視光下においては、ガラス層3が白っぽく見える)。
続いて、図3に示されるように、ガラス部材4に対してガラス層3を鉛直方向上側に位置させた状態で、ガラス部材4を載置台7上に載置する。そして、溶着予定領域Rに沿って矩形環状に形成されたガラス層3の1つの角部に集光スポットを合わせてレーザ光L1を照射する。このレーザ光L1のスポット径は、ガラス層3の幅より大きくなるように設定され、ガラス層3に照射されるレーザ光L1のレーザパワーがガラス層の幅方向(レーザ光L1の進行方向と略直交する方向)において同程度になるように調整されている。これにより、ガラス層3の一部が幅方向全体に同等に溶融されて、レーザ光の吸収率が高いレーザ光吸収部8aが幅方向全体にわたって形成される。
その後、図4に示されるように、ガラス層3の残りの3つの角部にも、同様にレーザ光L1を順に照射してレーザ光吸収部8b,8c,8dを形成する。なお、レーザ光吸収部8a〜8dでは、ガラスフリット2の溶融によってその粒子性が崩れるなどしてレーザ光吸収性顔料の吸収特性が顕著に現れ、この部分のレーザ光吸収率は、レーザ光L1を照射されなかった部分に比べて高い状態となる(例えば、可視光下においては、レーザ光吸収部8a〜8dに対応する角部のみが黒っぽく或いは緑っぽく見える)。
続いて、図5,6に示されるように、レーザ光吸収部8aを起点(照射開始位置)として、ガラス層3に集光スポットを合わせてレーザ光(第1のレーザ光)L2を溶着予定領域Rに沿って照射する。すなわち、レーザ光吸収部8aを照射開始位置として、溶着予定領域Rに沿ってレーザ光L2の照射領域を相対的に移動させてガラス層3にレーザ光L2を照射する。このとき、レーザ光L2は、ガラス部材4に対してガラス層3を鉛直方向上側に位置させた状態で、載置台7に設けられた開口(図示せず)、及びガラス部材4を介して、ガラス部材4側からガラス層3に照射される(レーザ光L1も同様)。これにより、バインダがガス化してガラス層3から除去されると共にガラス層3が溶融・再固化し、ガラス部材4の表面4aにガラス層3が焼き付けられて定着させられ(仮焼成)、ガラス層定着部材が製造される。
ここで、仮焼成用のレーザ光L2の照射領域は、図7(a)に示されるように、溶着予定領域Rの延在方向(すなわち、ガラス層3の幅方向と略直交する方向)に沿って配列された第1の領域A1及び第2の領域A2を有しており、第1の領域A1と第2の領域A2とは繋がっている。図7(b)に示されるように、第1の領域A1におけるレーザ光L2の強度は、第2の領域A2におけるレーザ光L2の強度よりも高くなっており、レーザ光L2の照射領域は、第2の領域A2に対して第1の領域A1が先行するように溶着予定領域Rに沿って移動させられる。ガラス層3においては、第1の領域A1の照射によってバインダがガス化させられると共にガラスフリット2が溶融させられる。そして、第1の領域A1の照射によって溶融させられたガラス層3が固化する前にガラス層3に第2の領域A2が照射されることにより、ガス化したバインダがガラス層3から逃がされる。つまり、バインダは、第1の領域A1の照射によってガス化させられ、第2の領域A2の照射によってガラス層3から逃がされる。
なお、ガラス層3の仮焼成の際には、レーザ光吸収率が予め高められたレーザ光吸収部8aを照射開始位置としてレーザ光L2の照射を開始しているため、照射開始位置からすぐに、ガラス層3が幅方向全体にわたって溶融する。これにより、溶着予定領域R全域にわたって、ガラス層3の溶融が不安定となる不安定領域が低減され、ガラス層3の溶融が安定した安定領域となる。また、残りの3つの角部にもそれぞれレーザ光吸収部8b〜8dを設けているため、ガラス溶着体として機能させる際に負荷がかかり易い角部が、仮焼成の際に確実に溶融する。なお、ガラス部材4の表面4aに定着させられたガラス層3は、溶着予定領域R全域にわたって、ガラスフリット2の溶融によってその粒子性が崩れるなどしてレーザ光吸収性顔料の吸収特性が顕著に現れ、レーザ光吸収率が高い状態となる。
ガラス層3の仮焼成に続いて、図8に示されるように、ガラス層定着部材10(すなわち、ガラス層3が定着したガラス部材4)にガラス層3を介してガラス部材5を重ね合わせる。続いて、図9に示されるように、ガラス層3に集光スポットを合わせてレーザ光(第2のレーザ光)L3を溶着予定領域Rに沿って照射する。すなわち、溶着予定領域Rに沿ってレーザ光L3の照射領域を相対的に移動させてガラス層3にレーザ光L3を照射する。これにより、溶着予定領域R全域にわたってレーザ光吸収率が高く且つ均一な状態となっているガラス層3にレーザ光L3が吸収されて、ガラス層3及びその周辺部分(ガラス部材4,5の表面4a,5a部分)が溶融・再固化し(本焼成)、ガラス部材4とガラス部材5とが溶着予定領域Rに沿って溶着されてガラス溶着体1が得られる(溶着においては、ガラス層3が溶融し、ガラス部材4,5が溶融しない場合もある)。なお、レーザ光L3の照射は、ガラス層3の全体に対して一括で行うものであってもよい。
以上説明したように、ガラス溶着体1の製造するためのガラス溶着方法(ガラス層定着方法を含む)においては、バインダをガス化させると共にガラス層3を溶融させてガラス部材4にガラス層3を定着させるために(すなわち、仮焼成のために)、レーザ光L2がガラス層3に照射される。ここで、レーザ光L2の照射領域は、溶着予定領域Rの延在方向に沿って配列された第1の領域A1及び第2の領域A2を有しており、第2の領域A2に対して第1の領域A1が先行するように溶着予定領域Rに沿って移動させられる。そして、第2の領域A2は、第1の領域A1の照射によって溶融させられたガラス層3が固化する前にガラス層3に照射される。このように、ガラス層3が固化する前にレーザ光L2の第2の領域A2がガラス層3に照射されるので、ガラス層3が固化するのに要する時間が長くなり、その結果、レーザ光L2の第1の領域A1の照射によってガス化したバインダがガラス層3から抜け易くなる。従って、このガラス溶着方法によれば、溶融したガラス層3からガス化したバインダを確実に逃がして、図10に示されるように、ガラス層3に気泡が形成されるのを抑制することができるので、気密な溶着を必要とするガラス溶着体1を製造することが可能となる。
また、図7(b)に示されるように、第1の領域A1におけるレーザ光L2の強度が、第2の領域A2におけるレーザ光L2の強度よりも高くなっているので、ガラス層3を短時間で効率良く溶融させることができる。その一方で、第1の領域A1に続いて第2の領域A2がガラス層3に照射されても、ガラス層3の温度が上昇し続けて結晶化温度Tcに達するのを防止し、ガラス層3の温度を融点Tmよりも高く且つ結晶化温度Tcよりも低い温度に維持することができる。
また、仮焼成用のレーザ光L2は、ガラス部材4側からガラス部材4を介してガラス層3に照射される。これにより、ガラス層3におけるガラス部材4側の部分が十分に加熱されるので、ガラス部材4に対するガラス層3の密着性を向上させることができる。しかも、ガラス層3におけるガラス部材4と反対側の部分(すなわち、ガラス層3においてガラス部材5と溶着される部分)が入熱過多によって結晶化するのが防止されるので、ガラス部材5に対するガラス層3の溶着状態を均一化することができる。
また、仮焼成用のレーザ光L2は、ガラス部材4に対してガラス層3を鉛直方向上側に位置させた状態で、ガラス層3に照射される。これにより、仮焼成の際に発生するガス(例えば、バインダの分解ガスや水蒸気等)を効率良く上方に逃がすことができる。
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、仮焼成用のレーザ光L2において、第1の領域A1と第2の領域A2とは、図11に示されるように、所定の間隔だけ離れていてもよい。このような場合にも、ガラス層3が固化する前にレーザ光L2の第2の領域A2がガラス層3に照射されるので、ガラス層3に気泡が形成されるのを抑制することができる。更に、第1の領域A1におけるレーザ光L2の強度が、第2の領域A2におけるレーザ光L2の強度よりも高くなっているので、ガラス層3を短時間で効率良く溶融させることができる一方で、ガラス層3の温度を融点Tmよりも高く且つ結晶化温度Tcよりも低い温度に維持することができる。
なお、第1の領域A1と第2の領域A2との間隔が5mmであり、溶着予定領域Rに沿ってのレーザ光L2の相対的な移動速度が30mm/secである場合、第1の領域A1の強度と第2の領域A2の強度との比は、例えば5:1である。
また、図12に示されるように、仮焼成用のレーザ光L2において、第1の領域A1と第2の領域A2とは、強度が同等であってもよい。このような場合には、ガラス層3の温度が徐々に上昇し続けるので、ガラス層3の温度が結晶化温度Tcに達しないように第1の領域A1及び第2の領域A2の強度を制御する必要がある。
ただし、このような場合でも、ガラス層3に気泡が形成されるのを抑制しつつ、十分な加工速度を得ることができる。例えば、照射領域が円形状(直径1.6mm)のレーザ光で、ガラス層3に気泡が形成されるのを抑制しようとすると、溶着予定領域Rに沿ってのレーザ光L2の相対的な移動速度を1mm/secにまで下げる必要がある。これに対し、照射領域(強度が同等である第1の領域A1及び第2の領域A2を有する照射領域)が溶着予定領域Rに沿って長尺状(1.0mm×3.2mm)のレーザ光L2で、ガラス層3に気泡が形成されるのを抑制しようとすると、溶着予定領域Rに沿ってのレーザ光L2の相対的な移動速度を10mm/secにまで上げることができる。このように、加工速度は、前者に対し後者が10倍にもなる。なお、レーザパワーは、前者が5W程度、後者が20W程度というように、前者に対し後者は10倍も必要ない。
また、仮焼成用のレーザ光L2の照射対象となるガラス層3は、バインダ、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット2を含んだものに限定されず、有機溶剤、バインダ、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット2を含んだペースト層6に相当するものであってもよい。また、ガラスフリット2は、ガラス部材4,5の融点よりも低い融点を有するものに限定されず、ガラス部材4,5の融点以上の融点を有するものであってもよい。また、レーザ光吸収性顔料は、ガラスフリット2自体に含まれていてもよい。
1…ガラス溶着体、2…ガラスフリット(ガラス粉)、3…ガラス層、4…ガラス部材(第1のガラス部材)、5…ガラス部材(第2のガラス部材)、10…ガラス層定着部材、A1…第1の領域、A2…第2の領域、R…溶着予定領域、L2…レーザ光(第1のレーザ光)、L3…レーザ光(第2のレーザ光)。

Claims (6)

  1. 第1のガラス部材と第2のガラス部材とを溶着してガラス溶着体を製造するガラス溶着方法であって、
    延在する溶着予定領域に沿うように、バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を所定の幅で前記第1のガラス部材に配置する工程と、
    前記溶着予定領域に沿って第1のレーザ光の照射領域を相対的に移動させて前記ガラス層に前記第1のレーザ光を照射することにより、前記バインダをガス化させると共に前記ガラス粉を溶融させ、前記第1のガラス部材に前記ガラス層を定着させる工程と、
    前記ガラス層が定着した前記第1のガラス部材に前記ガラス層を介して前記第2のガラス部材を重ね合わせ、前記ガラス層に第2のレーザ光を照射することにより、前記第1のガラス部材と前記第2のガラス部材とを溶着する工程と、を含み、
    前記第1のレーザ光の照射領域は、前記溶着予定領域の延在方向に沿って配列された第1の領域及び第2の領域を有し、前記第2の領域に対して前記第1の領域が先行するように前記溶着予定領域に沿って移動させられ、
    前記第2の領域は、前記第1の領域の照射によって溶融させられた前記ガラス層が固化する前に前記ガラス層に照射され
    前記第1の領域と前記第2の領域とは、繋がっており、前記溶着予定領域に沿って長尺状となっていることを特徴とするガラス溶着方法。
  2. 第1のガラス部材と第2のガラス部材とを溶着してガラス溶着体を製造するガラス溶着方法であって、
    延在する溶着予定領域に沿うように、バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を所定の幅で前記第1のガラス部材に配置する工程と、
    前記溶着予定領域に沿って第1のレーザ光の照射領域を相対的に移動させて前記ガラス層に前記第1のレーザ光を照射することにより、前記バインダをガス化させると共に前記ガラス粉を溶融させ、前記第1のガラス部材に前記ガラス層を定着させる工程と、
    前記ガラス層が定着した前記第1のガラス部材に前記ガラス層を介して前記第2のガラス部材を重ね合わせ、前記ガラス層に第2のレーザ光を照射することにより、前記第1のガラス部材と前記第2のガラス部材とを溶着する工程と、を含み、
    前記第1のレーザ光の照射領域は、前記溶着予定領域の延在方向に沿って配列された第1の領域及び第2の領域を有し、前記第2の領域に対して前記第1の領域が先行するように前記溶着予定領域に沿って移動させられ、
    前記第2の領域は、前記第1の領域の照射によって溶融させられた前記ガラス層が固化する前に前記ガラス層に照射され、
    前記第1の領域と前記第2の領域とは、離れていることを特徴とするガラス溶着方法。
  3. 前記第1の領域における前記第1のレーザ光の強度は、前記第2の領域における前記第1のレーザ光の強度よりも高くなっていることを特徴とする請求項1又は2記載のガラス溶着方法。
  4. 前記第1のレーザ光は、前記第1のガラス部材側から前記第1のガラス部材を介して前記ガラス層に照射されることを特徴とする請求項1〜のいずれか一項記載のガラス溶着方法。
  5. 第1のガラス部材にガラス層を定着させてガラス層定着部材を製造するガラス層定着方法であって、
    延在する溶着予定領域に沿うように、バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含む前記ガラス層を所定の幅で前記第1のガラス部材に配置する工程と、
    前記溶着予定領域に沿って第1のレーザ光の照射領域を相対的に移動させて前記ガラス層に前記第1のレーザ光を照射することにより、前記バインダをガス化させると共に前記ガラス粉を溶融させ、前記第1のガラス部材に前記ガラス層を定着させる工程と、を含み、
    前記第1のレーザ光の照射領域は、前記溶着予定領域の延在方向に沿って配列された第1の領域及び第2の領域を有し、前記第2の領域に対して前記第1の領域が先行するように前記溶着予定領域に沿って移動させられ、
    前記第2の領域は、前記第1の領域の照射によって溶融させられた前記ガラス層が固化する前に前記ガラス層に照射され
    前記第1の領域と前記第2の領域とは、繋がっており、前記溶着予定領域に沿って長尺状となっていることを特徴とするガラス層定着方法。
  6. 第1のガラス部材にガラス層を定着させてガラス層定着部材を製造するガラス層定着方法であって、
    延在する溶着予定領域に沿うように、バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含む前記ガラス層を所定の幅で前記第1のガラス部材に配置する工程と、
    前記溶着予定領域に沿って第1のレーザ光の照射領域を相対的に移動させて前記ガラス層に前記第1のレーザ光を照射することにより、前記バインダをガス化させると共に前記ガラス粉を溶融させ、前記第1のガラス部材に前記ガラス層を定着させる工程と、を含み、
    前記第1のレーザ光の照射領域は、前記溶着予定領域の延在方向に沿って配列された第1の領域及び第2の領域を有し、前記第2の領域に対して前記第1の領域が先行するように前記溶着予定領域に沿って移動させられ、
    前記第2の領域は、前記第1の領域の照射によって溶融させられた前記ガラス層が固化する前に前記ガラス層に照射され、
    前記第1の領域と前記第2の領域とは、離れていることを特徴とするガラス層定着方法。
JP2009267584A 2009-11-25 2009-11-25 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 Active JP5535588B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009267584A JP5535588B2 (ja) 2009-11-25 2009-11-25 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
US13/511,683 US9016091B2 (en) 2009-11-25 2010-09-17 Glass welding method and glass layer fixing method
KR1020127006077A KR101162028B1 (ko) 2009-11-25 2010-09-17 유리 용착 방법 및 유리층 정착 방법
PCT/JP2010/066136 WO2011065103A1 (ja) 2009-11-25 2010-09-17 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
TW099131738A TWI402126B (zh) 2009-11-25 2010-09-17 Glass welding method and glass layer fixation method
CN201080053435.2A CN102666413B (zh) 2009-11-25 2010-09-17 玻璃熔接方法及玻璃层固定方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009267584A JP5535588B2 (ja) 2009-11-25 2009-11-25 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011111343A JP2011111343A (ja) 2011-06-09
JP5535588B2 true JP5535588B2 (ja) 2014-07-02

Family

ID=44066206

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009267584A Active JP5535588B2 (ja) 2009-11-25 2009-11-25 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9016091B2 (ja)
JP (1) JP5535588B2 (ja)
KR (1) KR101162028B1 (ja)
CN (1) CN102666413B (ja)
TW (1) TWI402126B (ja)
WO (1) WO2011065103A1 (ja)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5308718B2 (ja) 2008-05-26 2013-10-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
US10322469B2 (en) * 2008-06-11 2019-06-18 Hamamatsu Photonics K.K. Fusion bonding process for glass
DE112009001456T5 (de) * 2008-06-23 2011-05-19 Hamamatsu Photonics K.K., Hamamatsu-shi Glasverschmelzungsverfahren
JP5481167B2 (ja) * 2009-11-12 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
JP5481172B2 (ja) 2009-11-25 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535590B2 (ja) 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5481173B2 (ja) * 2009-11-25 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535589B2 (ja) * 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5525246B2 (ja) * 2009-11-25 2014-06-18 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5567319B2 (ja) 2009-11-25 2014-08-06 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5466929B2 (ja) * 2009-11-25 2014-04-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535588B2 (ja) 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
US9492990B2 (en) * 2011-11-08 2016-11-15 Picosys Incorporated Room temperature glass-to-glass, glass-to-plastic and glass-to-ceramic/semiconductor bonding
JP5869946B2 (ja) * 2012-04-09 2016-02-24 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
TWI576189B (zh) * 2014-06-23 2017-04-01 綠點高新科技股份有限公司 以雷射接合構件的方法及該方法獲得的組合體
FR3046738B1 (fr) * 2016-01-19 2018-01-05 Renault S.A.S Procede et dispositif d'assemblage par soudage laser par transparence d'une premiere piece comprenant au moins un element de liaison avec une deuxieme piece
CN108828848B (zh) * 2018-07-13 2022-03-01 张家港康得新光电材料有限公司 封框胶固化方法及封框胶固化装置
US20220289615A1 (en) * 2019-08-15 2022-09-15 Corning Incorporated Method of bonding substrates and separating a portion of the bonded substrates through the bond, such as to manufacture an array of liquid lenses and separate the array into individual liquid lenses
CN112552069B (zh) * 2020-12-17 2022-06-07 唐山福来瓷科技有限公司 一种陶瓷或玻璃粘贴耐高温烧制二维码或一维码生产工艺

Family Cites Families (96)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1244346B (de) 1964-10-19 1967-07-13 Menzel Gerhard Glasbearbeitung Verfahren zum Schneiden von Glas
US3663793A (en) 1971-03-30 1972-05-16 Westinghouse Electric Corp Method of decorating a glazed article utilizing a beam of corpuscular energy
US4343833A (en) 1979-06-26 1982-08-10 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of manufacturing thermal head
JPH02120259A (ja) 1988-10-28 1990-05-08 Toshiba Corp ガラスの封止接合体およびその製造方法
JPH05166462A (ja) 1991-12-17 1993-07-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 平板型表示装置用真空容器の製造方法
US5489321A (en) 1994-07-14 1996-02-06 Midwest Research Institute Welding/sealing glass-enclosed space in a vacuum
TWI255934B (en) 1998-12-04 2006-06-01 Samsung Electronics Co Ltd A substrate and a liquid crystal display panel capable of being cut by using a laser and a method for manufacturing the same
JP2001326290A (ja) 2000-03-10 2001-11-22 Seiko Epson Corp パッケージの封止方法、電子素子モジュールの製造方法、封止装置並びにパッケージ品
JP2002015108A (ja) 2000-06-30 2002-01-18 Nomura Holding Inc 企業価値分析装置及び企業価値分析方法
WO2002054436A1 (en) 2000-12-28 2002-07-11 Jae-Hong Park A method for sealing a flat panel display in a vacuum
JP2002224871A (ja) 2001-01-31 2002-08-13 Seiko Epson Corp レーザ切断方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器およびレーザ切断装置
JP2002287107A (ja) 2001-03-28 2002-10-03 Hitachi Ltd 液晶表示装置およびその製造方法
JP2002367514A (ja) 2001-06-12 2002-12-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 表示パネルおよびその製造方法およびその製造装置
JP2002366050A (ja) * 2001-06-12 2002-12-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 画像表示装置の製造方法、製造装置およびそれを用いて製造した画像表示装置
US6565400B1 (en) 2001-06-26 2003-05-20 Candescent Technologies Corporation Frit protection in sealing process for flat panel displays
TW517356B (en) 2001-10-09 2003-01-11 Delta Optoelectronics Inc Package structure of display device and its packaging method
JP2004182567A (ja) 2002-12-05 2004-07-02 Nippon Sheet Glass Co Ltd 真空ガラスパネルの製造方法、及び該製造方法により製造された真空ガラスパネル
US20040206953A1 (en) 2003-04-16 2004-10-21 Robert Morena Hermetically sealed glass package and method of fabrication
US6998776B2 (en) 2003-04-16 2006-02-14 Corning Incorporated Glass package that is hermetically sealed with a frit and method of fabrication
US20050116245A1 (en) 2003-04-16 2005-06-02 Aitken Bruce G. Hermetically sealed glass package and method of fabrication
JP4202836B2 (ja) 2003-06-17 2008-12-24 浜松ホトニクス株式会社 レーザ溶接方法およびレーザ溶接装置
KR101110998B1 (ko) 2003-07-16 2012-02-17 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 광학 시트, 라미네이트 및 라미네이트 제조 방법
US20050103755A1 (en) 2003-11-13 2005-05-19 Baker Martin C. Hand-held laser welding wand reflection shield
JP2005213125A (ja) 2004-02-02 2005-08-11 Futaba Corp 電子管と電子管の気密容器の製造方法
US7820941B2 (en) 2004-07-30 2010-10-26 Corning Incorporated Process and apparatus for scoring a brittle material
US7371143B2 (en) 2004-10-20 2008-05-13 Corning Incorporated Optimization of parameters for sealing organic emitting light diode (OLED) displays
JP4692918B2 (ja) 2004-12-01 2011-06-01 日本電気硝子株式会社 封着材料
EP1883855B1 (en) 2005-05-16 2011-07-20 Donnelly Corporation Vehicle mirror assembly with indicia at reflective element
JP5200538B2 (ja) 2005-08-09 2013-06-05 旭硝子株式会社 薄板ガラス積層体及び薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法
JP2007090405A (ja) 2005-09-29 2007-04-12 Epson Toyocom Corp 積層光学素子、及びその製造方法
US8375744B2 (en) 2005-12-06 2013-02-19 Corning Incorporated Hermetically sealed glass package and method of manufacture
US7537504B2 (en) 2005-12-06 2009-05-26 Corning Incorporated Method of encapsulating a display element with frit wall and laser beam
JP5178204B2 (ja) 2005-12-06 2013-04-10 コーニング インコーポレイテッド フリットで密封されたガラスパッケージおよびその製造方法
CN101501808B (zh) 2005-12-06 2011-11-09 康宁股份有限公司 用于玻璃料密封玻璃封装体的系统和方法
KR100673765B1 (ko) 2006-01-20 2007-01-24 삼성에스디아이 주식회사 유기전계발광 표시장치 및 그 제조방법
JP4456092B2 (ja) 2006-01-24 2010-04-28 三星モバイルディスプレイ株式會社 有機電界発光表示装置及びその製造方法
KR100671647B1 (ko) 2006-01-26 2007-01-19 삼성에스디아이 주식회사 유기전계발광 표시 장치
KR100732808B1 (ko) 2006-01-26 2007-06-27 삼성에스디아이 주식회사 유기전계발광 표시장치의 제조방법
KR100713987B1 (ko) 2006-02-20 2007-05-04 삼성에스디아이 주식회사 기판 밀착장치 및 이를 이용한 유기전계발광 표시장치의밀봉방법
JP4977391B2 (ja) 2006-03-27 2012-07-18 日本電気株式会社 レーザ切断方法、表示装置の製造方法、および表示装置
WO2007129554A1 (ja) 2006-05-08 2007-11-15 Asahi Glass Company, Limited 薄板ガラス積層体、薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法および、支持ガラス基板
KR101274807B1 (ko) 2006-06-30 2013-06-13 엘지디스플레이 주식회사 유기 전계 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
US20080124558A1 (en) 2006-08-18 2008-05-29 Heather Debra Boek Boro-silicate glass frits for hermetic sealing of light emitting device displays
JP2008115057A (ja) * 2006-11-07 2008-05-22 Electric Power Dev Co Ltd 封止材料、ガラスパネルの製造方法および色素増感太陽電池
JP2008115067A (ja) 2006-11-07 2008-05-22 Lemi Ltd フラットパネルディスプレィ薄板の割断方法
US7800303B2 (en) 2006-11-07 2010-09-21 Corning Incorporated Seal for light emitting display device, method, and apparatus
JP2008127223A (ja) 2006-11-17 2008-06-05 Lemi Ltd フラットパネルディスプレィ薄板の割断方法
DE102007008634B3 (de) 2007-02-16 2008-08-07 Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Trennen von Verbundglasscheiben
DE202008017990U1 (de) 2007-05-30 2011-02-10 Panasonic Electric Works Co., Ltd., Kadoma-shi Laminier-Formgebungsvorrichtung
JP2009070687A (ja) 2007-09-13 2009-04-02 Canon Inc 気密容器の製造方法
US8247730B2 (en) 2007-09-28 2012-08-21 Corning Incorporated Method and apparatus for frit sealing with a variable laser beam
JP2009123421A (ja) 2007-11-13 2009-06-04 Canon Inc 気密容器の製造方法
US7815480B2 (en) 2007-11-30 2010-10-19 Corning Incorporated Methods and apparatus for packaging electronic components
JP4928483B2 (ja) 2008-02-22 2012-05-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
TWI421601B (zh) 2008-04-25 2014-01-01 Au Optronics Corp 適用雷射切割技術之顯示面板及其母板
US8490430B2 (en) 2008-04-25 2013-07-23 Hamamatsu Photonics K.K. Process for fusing glass
JP5308718B2 (ja) 2008-05-26 2013-10-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
JP5308717B2 (ja) 2008-05-26 2013-10-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
US7992411B2 (en) 2008-05-30 2011-08-09 Corning Incorporated Method for sintering a frit to a glass plate
US8147632B2 (en) 2008-05-30 2012-04-03 Corning Incorporated Controlled atmosphere when sintering a frit to a glass plate
US10322469B2 (en) 2008-06-11 2019-06-18 Hamamatsu Photonics K.K. Fusion bonding process for glass
WO2009150975A1 (ja) 2008-06-11 2009-12-17 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
US8448468B2 (en) 2008-06-11 2013-05-28 Corning Incorporated Mask and method for sealing a glass envelope
DE112009001456T5 (de) 2008-06-23 2011-05-19 Hamamatsu Photonics K.K., Hamamatsu-shi Glasverschmelzungsverfahren
JP5535655B2 (ja) * 2008-06-23 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
EP2300381A4 (en) 2008-07-16 2016-04-27 Ferro Corp GLASS COMPOSITIONS WITH MELT ADHESIVE SEALS AND MANUFACTURING AND USE METHOD THEREFOR
EP2321694A4 (en) 2008-07-28 2012-05-30 Corning Inc METHOD FOR SEALING A LIQUID IN A GLASS PACKAGING AND RESULTING GLASS PACKAGING
US20100095705A1 (en) 2008-10-20 2010-04-22 Burkhalter Robert S Method for forming a dry glass-based frit
US20100116119A1 (en) 2008-11-10 2010-05-13 Bayne John F Method for separating a composite glass assembly
US8245536B2 (en) 2008-11-24 2012-08-21 Corning Incorporated Laser assisted frit sealing of high CTE glasses and the resulting sealed glass package
CN102224115A (zh) 2008-11-26 2011-10-19 旭硝子株式会社 带密封材料层的玻璃构件以及使用该构件的电子器件及其制造方法
SG171754A1 (en) 2008-12-12 2011-07-28 Asahi Glass Co Ltd Sealing glass, glass member provided with sealing material layer, electronic device and process for producing it
KR101097307B1 (ko) 2009-04-16 2011-12-21 삼성모바일디스플레이주식회사 실링 장치
US8440479B2 (en) * 2009-05-28 2013-05-14 Corning Incorporated Method for forming an organic light emitting diode device
JP5418594B2 (ja) 2009-06-30 2014-02-19 旭硝子株式会社 封着材料層付きガラス部材とそれを用いた電子デバイスおよびその製造方法
CN102066280A (zh) 2009-07-23 2011-05-18 旭硝子株式会社 带密封材料层的玻璃构件的制造方法及制造装置以及电子器件的制造方法
JP5481167B2 (ja) 2009-11-12 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
JP5481172B2 (ja) 2009-11-25 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5567319B2 (ja) 2009-11-25 2014-08-06 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535589B2 (ja) 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5466929B2 (ja) 2009-11-25 2014-04-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5481173B2 (ja) 2009-11-25 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535590B2 (ja) 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535588B2 (ja) 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5525246B2 (ja) 2009-11-25 2014-06-18 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
KR101113381B1 (ko) 2009-11-30 2012-03-02 삼성에스디아이 주식회사 배터리 팩
TWI497466B (zh) 2010-03-19 2015-08-21 Asahi Glass Co Ltd Electronic device and manufacturing method thereof
CN102939271B (zh) 2010-04-15 2016-08-03 费罗公司 低温熔化的无铅铋密封玻璃
WO2011139751A2 (en) 2010-04-27 2011-11-10 Ferro Corporation Hermetic sealing of glass plates
JP2011233479A (ja) 2010-04-30 2011-11-17 Canon Inc 気密容器および画像表示装置の製造方法
CN102939270B (zh) 2010-06-14 2015-11-25 旭硝子株式会社 密封材料糊以及使用其的电子器件的制造方法
KR101401177B1 (ko) 2010-07-23 2014-05-29 파나소닉 주식회사 표시 패널 및 그 제조 방법
JP5947098B2 (ja) 2011-05-13 2016-07-06 株式会社半導体エネルギー研究所 ガラス封止体の作製方法および発光装置の作製方法
JP6111022B2 (ja) 2011-06-17 2017-04-05 株式会社半導体エネルギー研究所 封止体の作製方法および発光装置の作製方法
KR102058387B1 (ko) 2011-11-28 2019-12-24 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 유리 패턴 및 그 형성 방법, 밀봉체 및 그 제작 방법, 및 발광 장치
KR20130118491A (ko) 2012-04-20 2013-10-30 삼성디스플레이 주식회사 레이저 실링 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011111343A (ja) 2011-06-09
KR101162028B1 (ko) 2012-07-03
CN102666413A (zh) 2012-09-12
TWI402126B (zh) 2013-07-21
US20120260694A1 (en) 2012-10-18
TW201127533A (en) 2011-08-16
KR20120035230A (ko) 2012-04-13
US9016091B2 (en) 2015-04-28
WO2011065103A1 (ja) 2011-06-03
CN102666413B (zh) 2015-01-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5535588B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5567319B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5481172B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535589B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5481173B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535653B2 (ja) ガラス溶着方法
JP5535654B2 (ja) ガラス溶着方法
JP5525246B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5466929B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535590B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP2010105913A (ja) ガラス層定着方法、及びガラス層定着装置
WO2011065104A1 (ja) ガラス溶着方法
JP5651327B2 (ja) ガラス溶着方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120629

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140121

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140320

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140415

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140423

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5535588

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250