JP2011100741A - 放電空間内の電気放電を介するプラズマの発生のための方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、少なくとも2つの電極を含む放電空間内の電気放電を介するプラズマの発生のための方法及び装置であって、前記電極の少なくとも一方は、蒸発スポットによる侵食影響領域が、少なくとも電流フローによって形成されるように、マトリックス材料又はキャリア材料から構成されている方法及び装置に関する。電気放電によるプラズマの前記発生のための方法又は装置を提供するために、放電動作中の犠牲材38の沸点が前記キャリア材料30の融点よりも低い犠牲材38が、前記電流フローにおいて生じる電荷キャリアが前記犠牲材38から主に生成されるように、少なくとも前記蒸発スポットに設けられることが提案される。
【選択図】図2
Description
12 電極II
14 第1開孔
16 第2開孔
18 絶縁体
20 キャパシタバンク
22 放電空間
24 対称性の軸
26 プラズマ
28 放射
30 キャリア材料、マトリックス材料
32 供給通路
34 貯留部
36 表面
38 犠牲材
40 マトリックス
42 電流フロー
44 犠牲材の蒸気
46 毛細管力
48 チャネル
50 気体
52 濡らされた表面
p ガス圧
T、T1、T2 温度
U 点火電圧
Claims (20)
- 少なくとも2つの電極を含む放電空間内の電気放電を介するプラズマの発生のための方法であって、
前記電極の少なくとも一方は、蒸発スポットによる侵食影響領域が少なくとも電流フローによって形成されるようにマトリックス材料又はキャリア材料から構成されており、犠牲材が、少なくとも前記蒸発スポットに供給され、前記電流フローにおいて生じる電荷キャリアが前記犠牲材から主に生成されるように、放電動作中の前記犠牲材の沸点は、前記キャリア材料の融点よりも低く、大幅に多くの前記犠牲材が、放電前、付加的なエネルギの短期間の導入を介して、少なくとも、カソードのスポット若しくは蒸発領域が通常生じる場所又は複数の場所において、例えば、レーザパルス又は電子線によって、蒸発されることを特徴とする、方法。 - 前記犠牲材は、前記電極を介して、前記電気放電に面している表面に供給されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記電気放電に面している表面は、前記犠牲材によって濡らされることを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記電気放電は、前記犠牲材の融点よりも高い前記電極の平均温度において動作することを特徴とする、請求項1ないし3の何れか一項に記載の方法。
- 前記電気放電によって蒸発される前記犠牲材の量は、貯留部から補充されることを特徴とする、請求項1ないし4の何れか一項に記載の方法。
- 蒸発された前記犠牲材は、凝縮の後、前記貯留部又は他の貯留部内に戻されることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 前記電気放電は、所与のガス圧においてパッシェン曲線の左側の分岐において動作することを特徴とする、請求項1ないし6の何れか一項に記載の方法。
- ガスが、前記電極間に存在し、前記ガスは、放射を発生する少なくとも1つの成分を含んでいることを特徴とする、請求項1ないし7の何れか一項に記載の方法。
- 前記ガスの主成分は、放出される前記放射に対して透明であることを特徴とする、請求項8に記載の方法。
- スズ、インジウム、ガリウム、リチウム、金、ランタン、アルミニウム、及びこれらの合金、並びに/又はこれらと他の原子との化合物のような、前記犠牲材が、使用されることを特徴とする、請求項1ないし9の何れか一項に記載の方法。
- 電気放電を介してプラズマを発生させる装置であって、少なくとも2つの電極を有する放電空間であって、前記電極の少なくとも一方は、蒸発スポットによる侵食影響領域が少なくとも電流のフローによって形成されるように、マトリックス材料又はキャリア材料から構成されている装置において、犠牲材を、少なくとも前記蒸発スポットに供給する構成であって、前記犠牲材の沸点は、前記電流のフローの場合に生じる電荷キャリアが前記犠牲材から主に生成されることができるように、放電動作中、前記キャリア材料の融点よりも低く、大幅に多くの前記犠牲材が、放電前、付加的なエネルギの短期間の導入を介して、少なくとも、カソードのスポット若しくは蒸発領域が通常生じる場所又は複数の場所において、例えば、レーザパルス又は電子線によって、蒸発される構成を有することを特徴とする装置。
- プラズマは、規定されている点火電圧に到達した場合、前記放電空間内の開孔によって規定される対称性の軸に沿って形成されることができ、該放電空間は少なくとも2つの電極と少なくとも1つの絶縁体とによって形成されていることを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- 前記キャリア材料は、多孔質である又は毛細管型チャネルであることを特徴とする、請求項11又は12に記載の装置。
- 前記キャリア材料は、液状及び/又は気体の形態における前記犠牲材を含む少なくとも1つの貯留部に接続されている、請求項11ないし13の何れか一項に記載の装置。
- 前記キャリア材料は、屈折性金属、好ましくは、金属若しくは合金、又はセラミック材料によって形成されていることを特徴とする、請求項11ないし14の何れか一項に記載の装置。
- 前記キャリア材料は、前記電極の一方の前記プラズマに面している面の少なくとも1つにおいて多孔質の形状を有し、該形状は、前記キャリア材料の他の部分の多孔質の形状とは異なっていることを特徴とする、請求項12ないし15の何れか一項に記載の装置。
- 極紫外線及び/又は軟X線放射の範囲内の放射の発生のためであって、特にEUVリソグラフィのための、請求項1ないし10の何れか一項に記載のプラズマの発生のための方法の使用。
- 極紫外線及び/又は軟X線放射の範囲内の放射の発生のためであって、特にEUVリソグラフィのための、請求項11ないし16の何れか一項に記載のプラズマの発生のための装置の使用。
- 特に高出力スイッチの場合、非常に高い電流強度を制御する、請求項1ないし10の何れか一項に記載のプラズマの発生のための方法の使用。
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