JPS6188435A - X線発生装置 - Google Patents
X線発生装置Info
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- JPS6188435A JPS6188435A JP59208225A JP20822584A JPS6188435A JP S6188435 A JPS6188435 A JP S6188435A JP 59208225 A JP59208225 A JP 59208225A JP 20822584 A JP20822584 A JP 20822584A JP S6188435 A JPS6188435 A JP S6188435A
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- 239000011553 magnetic fluid Substances 0.000 claims abstract description 45
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 35
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 19
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 claims 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 abstract description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 3
- 230000035897 transcription Effects 0.000 abstract 1
- 238000013518 transcription Methods 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—Production of X-ray radiation generated from plasma the plasma being generated from a material in a liquid or gas state
Landscapes
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- Plasma & Fusion (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、放電型のX線発生装置の改良に関わる。
最近、1μm以下の微細なパターン形成のために、数人
〜10数人の波長の軟X線を使用したパターン転写技術
としてのX線露光法が注目され、そのため、高出力で安
定なX線発生装置の実現が望まれている。X線発生の方
法は種々あるが、就中対向した電極間に大電流放電を起
し、生成した放電プラズマの2ピンチ等から発生するX
線を利用する放電型のX線発生装置は、高輝度、安定で
、構造簡単な装置を提供できる。しかし、この種の放電
型X線発生装置では、大電流放電に対する電極の消耗を
できるでけ少なくして、メンテナンスの省力化を図らね
ばならないという課題があった。
〜10数人の波長の軟X線を使用したパターン転写技術
としてのX線露光法が注目され、そのため、高出力で安
定なX線発生装置の実現が望まれている。X線発生の方
法は種々あるが、就中対向した電極間に大電流放電を起
し、生成した放電プラズマの2ピンチ等から発生するX
線を利用する放電型のX線発生装置は、高輝度、安定で
、構造簡単な装置を提供できる。しかし、この種の放電
型X線発生装置では、大電流放電に対する電極の消耗を
できるでけ少なくして、メンテナンスの省力化を図らね
ばならないという課題があった。
その対策として、古くより水銀整流器に見られるように
、電極の少なくとも一方を液体金属として。
、電極の少なくとも一方を液体金属として。
放電面の形状を液面そのものとすることで解決すること
はイオンビーム発生装置でも見られる所である。X線発
生装置に適用した例として特開昭58年188040号
ほかを挙げることができ、これを第2図に示す。図から
明らかなごとく、高電圧電源1により充電されたコンデ
ンサ2からなる電源を備え、その電荷を一対の電極3,
4間で放電させ、電極間空間に放電プラズマを生成し、
そこから放射されるX線を利用するもので、特に第2図
の場合は、電極3に小孔3aが穿れ、内部に液体金属5
が充填されている。液体金属5は毛細管現象もしくは重
力により、対向電極4側に向ってそれ自身放電面を形成
し、その放電はトリガ電極6により開始される。この装
置は、前記したごとく、高輝度・安定・構造簡単な特長
があるほか、液体金属を用いた場合の共通な利点として
、多数回放電により液体金属が蒸発・消耗したとしても
、電極先端放電面の形状は殆んど変化しないという利点
がある。しかしながら、単に液体金属を用いただけでは
、電極面に必要かつ十分な量を適切な時間内に供給する
方法についての課題が残されていたといえる。即ち、例
えば第2図の例で言えば、液体金属の供給は主として毛
細管現象によっているので、小孔3aはある程度以上大
径のものとすることはできず、小さければ少量で放電前
の形状に復帰するのに時間も要し、大きければ不必要に
流出滴下してしまうという現象が起る。電極対を鉛直方
向に配置して、重力によって滴下させる場合でも、十分
な量を供給しようとして大きな断面とすれば、連続的に
流出してしまい、不必要に多量な消費となって好ましく
はなかった。さらにまた主電極対には液体金属を用いて
も、放電開始のためにトリガ電極を用いている場合には
、それ自身の消耗もあって、交換等のメンテナンスを要
していた。
はイオンビーム発生装置でも見られる所である。X線発
生装置に適用した例として特開昭58年188040号
ほかを挙げることができ、これを第2図に示す。図から
明らかなごとく、高電圧電源1により充電されたコンデ
ンサ2からなる電源を備え、その電荷を一対の電極3,
4間で放電させ、電極間空間に放電プラズマを生成し、
そこから放射されるX線を利用するもので、特に第2図
の場合は、電極3に小孔3aが穿れ、内部に液体金属5
が充填されている。液体金属5は毛細管現象もしくは重
力により、対向電極4側に向ってそれ自身放電面を形成
し、その放電はトリガ電極6により開始される。この装
置は、前記したごとく、高輝度・安定・構造簡単な特長
があるほか、液体金属を用いた場合の共通な利点として
、多数回放電により液体金属が蒸発・消耗したとしても
、電極先端放電面の形状は殆んど変化しないという利点
がある。しかしながら、単に液体金属を用いただけでは
、電極面に必要かつ十分な量を適切な時間内に供給する
方法についての課題が残されていたといえる。即ち、例
えば第2図の例で言えば、液体金属の供給は主として毛
細管現象によっているので、小孔3aはある程度以上大
径のものとすることはできず、小さければ少量で放電前
の形状に復帰するのに時間も要し、大きければ不必要に
流出滴下してしまうという現象が起る。電極対を鉛直方
向に配置して、重力によって滴下させる場合でも、十分
な量を供給しようとして大きな断面とすれば、連続的に
流出してしまい、不必要に多量な消費となって好ましく
はなかった。さらにまた主電極対には液体金属を用いて
も、放電開始のためにトリガ電極を用いている場合には
、それ自身の消耗もあって、交換等のメンテナンスを要
していた。
本発明の第1の目的は、電極の少なくとも一部を液体金
属で形成した場合の利点を保持しつつ、その供給を量的
にも時間的にも制御して、パターン転写に好適な安定な
Xs発生装置を得ることにある。さらに本発明の第2の
目的は、放電開始に特別な電極を設ける必要のない簡単
な構造のX線発生装置を得ることにある。
属で形成した場合の利点を保持しつつ、その供給を量的
にも時間的にも制御して、パターン転写に好適な安定な
Xs発生装置を得ることにある。さらに本発明の第2の
目的は、放電開始に特別な電極を設ける必要のない簡単
な構造のX線発生装置を得ることにある。
本発明の骨子は、プラズマ化してX線を放出する物質を
含む磁性流体を用い、これに磁界を作用させることによ
り、該物質の供給制御を容易ならしめたこと、および磁
界作用下で磁性流体が示す液面不安定性を利用し、液面
の隆起もしくは液滴の飛揚によって放電プラズマを生成
するようにしたことにある。
含む磁性流体を用い、これに磁界を作用させることによ
り、該物質の供給制御を容易ならしめたこと、および磁
界作用下で磁性流体が示す液面不安定性を利用し、液面
の隆起もしくは液滴の飛揚によって放電プラズマを生成
するようにしたことにある。
以下、本発明の一実施例を図によって説明する。
第1図は本発明の第1の実施例に係わるX線発生装置を
示す概818構成図である。1は高電圧電源であって、
コンデンサ2を充電する。この電荷を一対の電極3,4
間で放電させ、放電プラズマを生成して、X線放射を実
現する。電極3には小孔3aが穿たれるが、その内部に
は本発明により磁性流体7が充填される。8は磁性流体
を貯蔵する容器であって、小孔3aと連通し、同じ磁性
流体7が収納されている。9は永久磁石9aと同じ磁路
中に構成されたコイル9bからなる磁界発生装置であっ
て小孔3a内の磁性流体に対し、常時静磁界を印加しま
た端子9cからコイルに通電して該静磁界を打消す方向
に、制御された動磁界を付与することができる。本実施
例では、磁性流体7の小孔3aに充填された部分は、容
器8内の磁性流体液面との落差に応じて、図示左方向の
力が働いており、磁界発生装置9がなければ、流体は電
極先端より流出してしまう。しかし磁石9aで小孔3a
内に強力な磁界を作用させた場合も磁性流体は磁気エネ
ルギーの変化を受けて前記した落差による左方向の力に
抗して小孔内に膠着することができる。放電プラズマを
生成する際には、予め電極対が耐える所定の電圧までコ
ンデンサ2を充電しておき、端子9cからコイル9bに
電流を流せば、上記磁石による磁界の少なくとも一部を
打消して、磁性流体は電極4の方向に向って噴出する。
示す概818構成図である。1は高電圧電源であって、
コンデンサ2を充電する。この電荷を一対の電極3,4
間で放電させ、放電プラズマを生成して、X線放射を実
現する。電極3には小孔3aが穿たれるが、その内部に
は本発明により磁性流体7が充填される。8は磁性流体
を貯蔵する容器であって、小孔3aと連通し、同じ磁性
流体7が収納されている。9は永久磁石9aと同じ磁路
中に構成されたコイル9bからなる磁界発生装置であっ
て小孔3a内の磁性流体に対し、常時静磁界を印加しま
た端子9cからコイルに通電して該静磁界を打消す方向
に、制御された動磁界を付与することができる。本実施
例では、磁性流体7の小孔3aに充填された部分は、容
器8内の磁性流体液面との落差に応じて、図示左方向の
力が働いており、磁界発生装置9がなければ、流体は電
極先端より流出してしまう。しかし磁石9aで小孔3a
内に強力な磁界を作用させた場合も磁性流体は磁気エネ
ルギーの変化を受けて前記した落差による左方向の力に
抗して小孔内に膠着することができる。放電プラズマを
生成する際には、予め電極対が耐える所定の電圧までコ
ンデンサ2を充電しておき、端子9cからコイル9bに
電流を流せば、上記磁石による磁界の少なくとも一部を
打消して、磁性流体は電極4の方向に向って噴出する。
これにより電極間の放電を起し、同時に磁性流体に含ま
れる特性X線発生物質の電極間空間への供給ができる。
れる特性X線発生物質の電極間空間への供給ができる。
この噴出作用を助けるために。
小孔3aの軸方向に沿った磁界を印加してもよい。
本発明で用い得る磁性流体は種々のものがある。
通常は100人程鹿の強磁性金属粒子を適切な溶媒中に
ある種の界面活性剤の助力を受けて分散浮遊させたもの
である。特に水銀等の液体金属中に強磁性金属粒子を分
散させる手法も開発されており水銀のほかにも適当な温
熱したガリウム等の低融点金属を用いれば、これら金属
が発する特性X線はパターン転写装置に適した波長領域
にある。
ある種の界面活性剤の助力を受けて分散浮遊させたもの
である。特に水銀等の液体金属中に強磁性金属粒子を分
散させる手法も開発されており水銀のほかにも適当な温
熱したガリウム等の低融点金属を用いれば、これら金属
が発する特性X線はパターン転写装置に適した波長領域
にある。
本実施例によれば、磁界の印加。軽減によりX線発生装
置を含む磁性流体の供給・封止を簡単に行なうことがで
き、特に量的にも、時間的にも確実に制御できるので、
パターン転写システムの他の機構ともバランスのとれた
X線発生装置を得ることができる。また特別なトリガ電
極を必要とせず蒸発消耗したとしても常に新しく形状不
変の先端放電面形状になると同時に、常に同じ条件で磁
性流体を電極間に向って噴出飛翔させることができるの
で放電時の電圧、従って発生するX線強度の安定性も改
善できるという効果がある。さらにこの磁性流体の噴出
飛翔は、電極間電圧によっても僅かに影響は受けるもの
の、はとんどは液体の落差を磁界の強さに依っているの
で、電極間に電圧がなくても行なわせることができる。
置を含む磁性流体の供給・封止を簡単に行なうことがで
き、特に量的にも、時間的にも確実に制御できるので、
パターン転写システムの他の機構ともバランスのとれた
X線発生装置を得ることができる。また特別なトリガ電
極を必要とせず蒸発消耗したとしても常に新しく形状不
変の先端放電面形状になると同時に、常に同じ条件で磁
性流体を電極間に向って噴出飛翔させることができるの
で放電時の電圧、従って発生するX線強度の安定性も改
善できるという効果がある。さらにこの磁性流体の噴出
飛翔は、電極間電圧によっても僅かに影響は受けるもの
の、はとんどは液体の落差を磁界の強さに依っているの
で、電極間に電圧がなくても行なわせることができる。
つまり。
放電プラズマの生成に先立って噴出飛翔させ、対向する
電Vi4の放電面をこの磁性流体で予め濡らしておけば
、プラズマ発生空間へのX線発生物質の供給をより確実
にかつ豊富に行なうことができる。
電Vi4の放電面をこの磁性流体で予め濡らしておけば
、プラズマ発生空間へのX線発生物質の供給をより確実
にかつ豊富に行なうことができる。
第3図は本発明になる他の実施例の1つであって、第1
図に比してより実際的にパターン転写システムとして応
用する場合の構成を示した断面構造図である。本例では
電極3,4が気密容器10内に収納される。容器10は
、一方の端子11aを有する端板11.他方の端12a
を有する端板12、少なくとも一部がガラス等の絶縁物
からなる円筒13からなり、内部は、13で示す排気装
置により高真空に維持するか、もしくはHe等のX線透
過率の高い気体を充填してもよい。端板12の底部12
bが磁性流体溜を形成し、そこに磁性流体、望ましくは
磁性流体化させた低融点金属7aが収納される。電極3
及び端板12の中心部には小孔14が穿れ、ここから下
方に向ってX線が取出される。この取出路14は下方に
伸び、Be等のX線透過物質からなる取出窓15で密封
される。取出路14の外周に、複数のコイル16a。
図に比してより実際的にパターン転写システムとして応
用する場合の構成を示した断面構造図である。本例では
電極3,4が気密容器10内に収納される。容器10は
、一方の端子11aを有する端板11.他方の端12a
を有する端板12、少なくとも一部がガラス等の絶縁物
からなる円筒13からなり、内部は、13で示す排気装
置により高真空に維持するか、もしくはHe等のX線透
過率の高い気体を充填してもよい。端板12の底部12
bが磁性流体溜を形成し、そこに磁性流体、望ましくは
磁性流体化させた低融点金属7aが収納される。電極3
及び端板12の中心部には小孔14が穿れ、ここから下
方に向ってX線が取出される。この取出路14は下方に
伸び、Be等のX線透過物質からなる取出窓15で密封
される。取出路14の外周に、複数のコイル16a。
16b・・・と、永久磁石17a、17bなどが配置さ
れる。コイル16は端12を通して磁性流体7aに磁界
を作用させ、該磁性流体の液面不安定を招いて放電プラ
ズマをトリガする。また磁石17は、路14内に入った
一部の磁性流体や定理イオンを偏向ないし捕捉し、14
の曲げられを壁14aにこれらを付着せしめて下部の液
溜18に収積される。液溜18は液管19.ポンプ20
を介して外部の液容器21に連通しており、容器21に
は補充用の磁性流体7bが充填されている。
れる。コイル16は端12を通して磁性流体7aに磁界
を作用させ、該磁性流体の液面不安定を招いて放電プラ
ズマをトリガする。また磁石17は、路14内に入った
一部の磁性流体や定理イオンを偏向ないし捕捉し、14
の曲げられを壁14aにこれらを付着せしめて下部の液
溜18に収積される。液溜18は液管19.ポンプ20
を介して外部の液容器21に連通しており、容器21に
は補充用の磁性流体7bが充填されている。
一方、電極部の液溜12bも配管22を通して、容器2
1と連通しており、管口22aは容器21内の液面下に
位置するように延びているので5容器よ立向に空気が侵
入することはない。配管22の途中に少なくとも一組の
磁界制御装置23が置かれている。また24で示すよう
に磁性流体を適切な粘度に維持するためのヒータなどの
温度調整装置を置くことができる。磁界制御装置23は
。
1と連通しており、管口22aは容器21内の液面下に
位置するように延びているので5容器よ立向に空気が侵
入することはない。配管22の途中に少なくとも一組の
磁界制御装置23が置かれている。また24で示すよう
に磁性流体を適切な粘度に維持するためのヒータなどの
温度調整装置を置くことができる。磁界制御装置23は
。
原理的に第1図の磁界発生装置9と数似のものであって
、より具体的にその構成を例示したのが第4図である。
、より具体的にその構成を例示したのが第4図である。
磁性流体を通す配管22には、永久磁石25からの磁束
Φ8がヨーク26a、26bを介して到達している。ヨ
ークの途中に分磁路が適切な空隙26cを介して設けら
れ、ここにコイル27が巻回され、このコイルは、配管
22に於ける磁束Φ8を打消すような磁束Φ。を発生す
る。
Φ8がヨーク26a、26bを介して到達している。ヨ
ークの途中に分磁路が適切な空隙26cを介して設けら
れ、ここにコイル27が巻回され、このコイルは、配管
22に於ける磁束Φ8を打消すような磁束Φ。を発生す
る。
このような構成とすることにより、常時は磁束Φ8によ
って配管内の磁性流体が膠着し、容器21内の液7bに
作用する大気圧とつり合って封止されている。コイル2
7に電流を流せば打消し磁束Φ。が発生し、磁性流体の
拘束は解かれるため、液7bは容器21から配管22を
通って溜12bに注入される。このように磁性流体の補
充が真空容器外から行なうことができる。放電トリガは
、コイル1bを励磁することにより、液7aが液面不安
定を示し、あたかも王冠の如く、電極3の周囲に林立す
ることにより行なわれる。これにより電極3と4の間の
耐電圧が低下し、電極間の固有の耐電圧に較べ、著しく
低い電圧でも放電を起すことができる。なお容器上以内
に絶縁筒28は上記のようにして起った放電によって周
囲に飛散した電極蒸気や磁性流体を捕捉するためのもの
である。
って配管内の磁性流体が膠着し、容器21内の液7bに
作用する大気圧とつり合って封止されている。コイル2
7に電流を流せば打消し磁束Φ。が発生し、磁性流体の
拘束は解かれるため、液7bは容器21から配管22を
通って溜12bに注入される。このように磁性流体の補
充が真空容器外から行なうことができる。放電トリガは
、コイル1bを励磁することにより、液7aが液面不安
定を示し、あたかも王冠の如く、電極3の周囲に林立す
ることにより行なわれる。これにより電極3と4の間の
耐電圧が低下し、電極間の固有の耐電圧に較べ、著しく
低い電圧でも放電を起すことができる。なお容器上以内
に絶縁筒28は上記のようにして起った放電によって周
囲に飛散した電極蒸気や磁性流体を捕捉するためのもの
である。
第3図の実施例では、第1図と同様の効果があるほかに
、磁性流体の補充やトリガ制御をいずれも大気中から行
うことができ、そのっど真空系を解体する必要がないと
いう効果がある。
、磁性流体の補充やトリガ制御をいずれも大気中から行
うことができ、そのっど真空系を解体する必要がないと
いう効果がある。
以上説明したごとく1本発明によれば、X線放出物質を
含んだ磁性流体を用いたことによりイ磁界を作用させる
だけで、該物質の供給制御や放電のトリガ制御が、容易
かつ確実に行なうことができ、安定なX線発生装置を提
供することができる。
含んだ磁性流体を用いたことによりイ磁界を作用させる
だけで、該物質の供給制御や放電のトリガ制御が、容易
かつ確実に行なうことができ、安定なX線発生装置を提
供することができる。
第1図は本発明になるX線発生装置の一実施例を示す概
略構成図、第2図は従来公知のX線発生装置の一例を示
す概略構成図、第3図は本発明になる他の実施例を示す
断面構造図、第4図は磁界発生装置の具体的構造の一例
を示す断面図である。
略構成図、第2図は従来公知のX線発生装置の一例を示
す概略構成図、第3図は本発明になる他の実施例を示す
断面構造図、第4図は磁界発生装置の具体的構造の一例
を示す断面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、対向配置された少なくとも一対の電極、これら電極
間に放電プラズマを形成するための電源からなり、該プ
ラズマの生成によりX線を発生せしめるX線発生装置に
おいて、前記電極の少なくとも一方は、少なくともその
先端部が、磁性流体で形成され、該磁性流体を制御する
磁界発生装置を備えたことを特徴とするX線発生装置。 2、前記磁性流体は、磁性流体化された液体金属である
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のX線発生
装置。 3、前記放電プラズマの生成は、磁性流体の磁界による
液面不安定を利用し、液面の隆起もしくは液滴の飛揚に
よつてトリガすることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載のX線発生装置。 4、前記プラズマ生成が、大気圧以下の圧力で気密にさ
れた容器内に於て行なわれるものであつて該容器内外の
差圧力と磁界による磁性流体の膠着を利用して該磁性流
体を供給及び封止することを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載のX線発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59208225A JPS6188435A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | X線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59208225A JPS6188435A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | X線発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6188435A true JPS6188435A (ja) | 1986-05-06 |
Family
ID=16552733
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59208225A Pending JPS6188435A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | X線発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6188435A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5243638A (en) * | 1992-03-10 | 1993-09-07 | Hui Wang | Apparatus and method for generating a plasma x-ray source |
JP2006521670A (ja) * | 2003-03-10 | 2006-09-21 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 放電空間内の電気放電を介するプラズマの発生のための方法及び装置 |
CN103019036A (zh) * | 2011-09-23 | 2013-04-03 | Asml荷兰有限公司 | 辐射源 |
-
1984
- 1984-10-05 JP JP59208225A patent/JPS6188435A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5243638A (en) * | 1992-03-10 | 1993-09-07 | Hui Wang | Apparatus and method for generating a plasma x-ray source |
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JP2011100741A (ja) * | 2003-03-10 | 2011-05-19 | Koninkl Philips Electronics Nv | 放電空間内の電気放電を介するプラズマの発生のための方法及び装置 |
CN103019036A (zh) * | 2011-09-23 | 2013-04-03 | Asml荷兰有限公司 | 辐射源 |
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