JP2011080996A - 気体感応型の半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ゲート電極、および/または、このゲート電極を半導体チャネルから絶縁するゲート絶縁層、および/または、ゲート電極と半導体チャネルとの間に設けられるゲートスタック層が2つの面セクションを有し、この2つの面セクションは、複数の気体に対して異なる感度を有する。
【選択図】図1
Description
Claims (10)
- 第1のチャネル電極(12)および第2のチャネル電極(14)に接している半導体チャネル(10)と、該半導体チャネル(10)に対応付けられており、且つ、気体の作用に対する応答として前記半導体チャネル(10)の導電率が変化するように該半導体チャネル(10)と相互作用するゲート電極(16)とを備えた気体感応型の半導体装置において、
前記ゲート電極(16)、および/または、該ゲート電極(16)を前記半導体チャネル(10)から絶縁するゲート絶縁層(20)、および/または、前記ゲート電極(16)と前記半導体チャネル(10)との間に設けられるゲートスタック層(18)が2つの面セクション(22,24)を有し、該2つの面セクション(22,24)は、複数の気体に対して異なる感度を有することを特徴とする、気体感応型の半導体装置。 - 半導体装置はCHEMFETの形の半導体素子であり、前記第1のチャネル電極(12)は前記CHEMFETのドレイン電極であり、前記第2のチャネル電極(14)は前記CHEMFETのソース電極である、請求項1記載の半導体装置。
- 前記ゲート電極(16)は面状に構成されており、且つ、前記2つの面セクション(22,24)に応じて、異なる材料から成る2つの領域に分割されており、該2つの領域の領域移行部は前記第1のチャネル電極(12)と前記第2のチャネル電極(14)との間に位置し、且つ、前記半導体チャネル(10)の延在方向を横断する方向に延在している、請求項1または2記載の半導体装置。
- 前記ゲート電極(16)は、前記2つの面セクション(22,24)を実現するために、2つの異なる金属または金属化部を有する、請求項1から3までのいずれか1項記載の半導体装置。
- 前記ゲート電極(16)の前記2つの面セクション(22,24)のうちの一方の面セクションは気密なコーティング部を有する、請求項1から4までのいずれか1項記載の半導体装置。
- 前記ゲート電極(16)の前記2つ面セクション(22,24)のうちの少なくとも一方の面セクションは、多孔性コーティング部、および/または、触媒活性のコーティング部を有する、請求項1から5までのいずれか1項記載の半導体装置。
- 前記ゲート電極(16)は多孔性の金属化部を有し、前記ゲートスタック層(18)は前記2つの面セクション(22,24)を実現するために異なる表面材料を有する、請求項1から4および6までのいずれか1項記載の半導体装置。
- 第1の動作モードにおいて、前記第1のチャネル電極(12)と前記第2のチャネル電極(14)との間に第1の極性の第1の電圧を印加することによって動作点を調整する手段が設けられており、該動作点を調整する手段は、第2の動作モードにおける前記第1の極性とは反対の第2の極性の第2の電圧の印加を制御するよう構成されている、請求項1から7までのいずれか1項記載の半導体装置。
- 前記第1の動作モードおよび前記第2の動作モードにおける半導体装置の動作信号を検出し、該動作信号を比較する、および/または、該動作信号の差を形成する電子的な評価手段が設けられている、請求項8記載の装置。
- 工業オートメーションおよび/またはホームオートメーションのための気体センサおよび/または監視を目的とした気体センサを実現するため、および/または、排ガスセンサとしての、請求項1から9までのいずれか1項に記載された気体感応型の半導体装置の使用。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103529108A (zh) * | 2012-07-03 | 2014-01-22 | 罗伯特·博世有限公司 | 气体传感器和用于制造这种气体传感器的方法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009045475B4 (de) * | 2009-10-08 | 2023-06-29 | Robert Bosch Gmbh | Gassensitive Halbleitervorrichtung sowie deren Verwendung |
DE102012213530A1 (de) | 2012-08-01 | 2014-02-06 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren und Messgerät zum Bestimmen eines Zustands eines Halbleitermaterials eines von einem Hersteller getesteten und ausgelieferten chemosensitiven Feldeffekttransistors |
DE102012213533A1 (de) | 2012-08-01 | 2014-02-06 | Robert Bosch Gmbh | Halbleiterbauelement und Verfahren zum Bestimmen eines Zustands eines Halbleitermaterials des Halbleiterbauelements |
CN103308563A (zh) * | 2013-05-16 | 2013-09-18 | 黑龙江大学 | 一种以单壁碳纳米管/酞菁复合材料为氨敏材料的气敏元件及其制备方法 |
US10770573B2 (en) * | 2018-09-20 | 2020-09-08 | Tower Semiconductor Ltd. | Apparatus, system and method of an electrostatically formed nanowire (EFN) |
CN109580725B (zh) * | 2018-12-10 | 2020-06-26 | 华中科技大学 | 基于天线结构的二维过渡金属硫化物气体传感器及制备 |
TWI740325B (zh) * | 2018-12-28 | 2021-09-21 | 鴻海精密工業股份有限公司 | 氣體感測器及其製備方法 |
CN117783244A (zh) * | 2023-12-11 | 2024-03-29 | 哈尔滨工业大学 | 传感器敏感模块、钌岛增强氨气传感器和氨气中氨分子检测方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5226292A (en) * | 1975-08-23 | 1977-02-26 | Res Dev Corp Of Japan | Ion sensor |
JPS5481897A (en) * | 1977-12-12 | 1979-06-29 | Kuraray Co | Fet comparison electrode |
JPS5672339A (en) * | 1979-11-16 | 1981-06-16 | Kuraray Co Ltd | Fet multisensor |
JPS58129239A (ja) * | 1982-01-12 | 1983-08-02 | ユニヴア−シテイ・オヴ・ユ−タ | 流体内成分の濃度測定装置及び濃度測定方法 |
JPS6018750A (ja) * | 1983-07-12 | 1985-01-30 | Nec Corp | 半導体マルチイオンセンサの製造方法 |
JPS62225938A (ja) * | 1986-03-12 | 1987-10-03 | ソ−ン イ−エムアイ ピ−エルシ− | ガス感知装置 |
JPH10267895A (ja) * | 1997-03-26 | 1998-10-09 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 排気ガスセンサ及びそれを用いた排気ガスセンサシステム |
WO2003052097A1 (en) * | 2001-12-19 | 2003-06-26 | Hitachi High-Technologies Corporation | Potentiometric dna microarray, process for producing the same and method of analyzing nucleic acid |
US6955749B2 (en) * | 2001-04-12 | 2005-10-18 | Micronas Gmbh | Sensor for measuring an ion concentration or gas concentration |
Family Cites Families (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4020830A (en) * | 1975-03-12 | 1977-05-03 | The University Of Utah | Selective chemical sensitive FET transducers |
US4158807A (en) * | 1977-04-25 | 1979-06-19 | Massachusetts Institute Of Technology | Gapped gate charge-flow transistor with a thin film sensor having two modes of conduction within the gapped gate used to sense a property of the ambient environment |
US4273636A (en) * | 1977-05-26 | 1981-06-16 | Kiyoo Shimada | Selective chemical sensitive field effect transistor transducers |
US4158808A (en) * | 1977-08-18 | 1979-06-19 | The Valeron Corporation | Load source simulator |
JPS5466194A (en) * | 1977-11-04 | 1979-05-28 | Kuraray Co | Fet sensor |
US4180771A (en) * | 1977-12-02 | 1979-12-25 | Airco, Inc. | Chemical-sensitive field-effect transistor |
US4198851A (en) * | 1978-05-22 | 1980-04-22 | University Of Utah | Method and structure for detecting the concentration of oxygen in a substance |
US4264728A (en) * | 1979-08-17 | 1981-04-28 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Indirect microbial detection |
US4322680A (en) * | 1980-03-03 | 1982-03-30 | University Of Utah Research Foundation | Chemically sensitive JFET transducer devices utilizing a blocking interface |
GB2077439B (en) * | 1980-04-28 | 1984-03-28 | Kuraray Co | Compensating temperature-dependent characteristic changes in ion-sensitive fet transducers |
US4397714A (en) * | 1980-06-16 | 1983-08-09 | University Of Utah | System for measuring the concentration of chemical substances |
GB8522785D0 (en) * | 1985-09-14 | 1985-10-16 | Emi Plc Thorn | Chemical-sensitive semiconductor device |
US4671852A (en) * | 1986-05-07 | 1987-06-09 | The Standard Oil Company | Method of forming suspended gate, chemically sensitive field-effect transistor |
US5212050A (en) * | 1988-11-14 | 1993-05-18 | Mier Randall M | Method of forming a permselective layer |
US5063081A (en) * | 1988-11-14 | 1991-11-05 | I-Stat Corporation | Method of manufacturing a plurality of uniform microfabricated sensing devices having an immobilized ligand receptor |
US6306594B1 (en) * | 1988-11-14 | 2001-10-23 | I-Stat Corporation | Methods for microdispensing patterened layers |
US4947104A (en) * | 1989-01-19 | 1990-08-07 | Stephen C. Pyke | Device and method for detection of fluid concentration utilizing charge storage in a MIS diode |
DE4314888C1 (de) * | 1993-05-05 | 1994-08-18 | Ignaz Eisele | Verfahren zum Abscheiden einer ganzflächigen Schicht durch eine Maske und optionalem Verschließen dieser Maske |
DE19613274C2 (de) | 1996-04-03 | 2002-11-21 | Daimlerchrysler Aerospace Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung spezifischer Gas- oder Ionenkonzentrationen |
US5911873A (en) * | 1997-05-02 | 1999-06-15 | Rosemount Analytical Inc. | Apparatus and method for operating an ISFET at multiple drain currents and gate-source voltages allowing for diagnostics and control of isopotential points |
EP1085320A1 (en) * | 1999-09-13 | 2001-03-21 | Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum Vzw | A device for detecting an analyte in a sample based on organic materials |
DE10210819B4 (de) * | 2002-03-12 | 2004-04-15 | Micronas Gmbh | Mikrostrukturierter Gassensor mit Steuerung der gassensitiven Eigenschaften durch Anlegen eines elektrischen Feldes |
DE10247889A1 (de) * | 2002-10-14 | 2004-04-22 | Infineon Technologies Ag | Sensor-Anordnung und Verfahren zum Betreiben einer Sensor-Anordnung |
TWI253174B (en) * | 2003-05-09 | 2006-04-11 | Au Optronics Corp | Ion sensitive field effect transistor and fabrication method of the same |
KR101059562B1 (ko) * | 2004-02-20 | 2011-08-26 | 삼성전자주식회사 | 민감도가 향상된 바이오 fet |
BRPI0507992A (pt) * | 2004-02-27 | 2007-07-31 | Tech Resources Pty Ltd | processo e instalação de redução direta para produzir metal fundido |
DE102004013678A1 (de) | 2004-03-18 | 2005-10-20 | Micronas Gmbh | Vorrichtung zur Detektion eines Gases oder Gasgemischs |
JP2005285822A (ja) | 2004-03-26 | 2005-10-13 | Fujitsu Ltd | 半導体装置および半導体センサ |
US7361946B2 (en) | 2004-06-28 | 2008-04-22 | Nitronex Corporation | Semiconductor device-based sensors |
DE102005033226A1 (de) | 2005-07-15 | 2007-01-25 | Siemens Ag | Verfahren zur gleichzeitigen Detektion mehrerer unterschiedlicher Luftbelastungen |
DE102008042139A1 (de) * | 2008-09-16 | 2010-03-18 | Robert Bosch Gmbh | Abgastaugliche Schutzschichten für Hochtemperatur ChemFET Abgassensoren |
US20100301398A1 (en) * | 2009-05-29 | 2010-12-02 | Ion Torrent Systems Incorporated | Methods and apparatus for measuring analytes |
US8673627B2 (en) * | 2009-05-29 | 2014-03-18 | Life Technologies Corporation | Apparatus and methods for performing electrochemical reactions |
DE102009045475B4 (de) * | 2009-10-08 | 2023-06-29 | Robert Bosch Gmbh | Gassensitive Halbleitervorrichtung sowie deren Verwendung |
DE102010001998A1 (de) * | 2010-02-16 | 2011-08-18 | Robert Bosch GmbH, 70469 | Gassensitiver Feldeffekttransistor und Verfahren zur Herstellung eines gassensitiven Feldeffekttransistors |
EP2606343A4 (en) * | 2010-08-18 | 2017-08-16 | Life Technologies Corporation | Chemical coating of microwell for electrochemical detection device |
-
2009
- 2009-10-08 DE DE102009045475.6A patent/DE102009045475B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2010
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5226292A (en) * | 1975-08-23 | 1977-02-26 | Res Dev Corp Of Japan | Ion sensor |
JPS5481897A (en) * | 1977-12-12 | 1979-06-29 | Kuraray Co | Fet comparison electrode |
JPS5672339A (en) * | 1979-11-16 | 1981-06-16 | Kuraray Co Ltd | Fet multisensor |
JPS58129239A (ja) * | 1982-01-12 | 1983-08-02 | ユニヴア−シテイ・オヴ・ユ−タ | 流体内成分の濃度測定装置及び濃度測定方法 |
US4411741A (en) * | 1982-01-12 | 1983-10-25 | University Of Utah | Apparatus and method for measuring the concentration of components in fluids |
JPS6018750A (ja) * | 1983-07-12 | 1985-01-30 | Nec Corp | 半導体マルチイオンセンサの製造方法 |
JPS62225938A (ja) * | 1986-03-12 | 1987-10-03 | ソ−ン イ−エムアイ ピ−エルシ− | ガス感知装置 |
JPH10267895A (ja) * | 1997-03-26 | 1998-10-09 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 排気ガスセンサ及びそれを用いた排気ガスセンサシステム |
US6955749B2 (en) * | 2001-04-12 | 2005-10-18 | Micronas Gmbh | Sensor for measuring an ion concentration or gas concentration |
WO2003052097A1 (en) * | 2001-12-19 | 2003-06-26 | Hitachi High-Technologies Corporation | Potentiometric dna microarray, process for producing the same and method of analyzing nucleic acid |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103529108A (zh) * | 2012-07-03 | 2014-01-22 | 罗伯特·博世有限公司 | 气体传感器和用于制造这种气体传感器的方法 |
JP2014013239A (ja) * | 2012-07-03 | 2014-01-23 | Robert Bosch Gmbh | ガスセンサー及び該ガスセンサーの製造方法 |
CN103529108B (zh) * | 2012-07-03 | 2018-04-24 | 罗伯特·博世有限公司 | 气体传感器和用于制造这种气体传感器的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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