JP2011074465A - 導電性組成物を用いた構造体の作製方法および構造体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ゲル化剤と、電気化学反応を行うための導電性イオンと、溶媒と、を有し、ゾル状態で基板20の上に吐出されゲル状態の所定のパターン形状となっためっき用組成物2Aを用いてゲル化剤と、電気めっき反応を行うための金属イオンと、溶媒としての水と、を有するめっき組成物2をゾル状態とするゾル化工程と、ゾル状態のめっき組成物2を基板20上で所定のパターン形状とするパターン形成工程と、所定のパターン形状のめっき組成物2Aをゲル状態とするゲル化工程と、ゲル状態のめっき組成物2Aを用いて電気めっき反応を行う電気めっき工程と、を具備する。
【選択図】図7
Description
前記所定のパターン形状の前記導電性組成物をゲル状態とするゲル化工程と、ゲル状態の前記導電性組成物を用いて電気化学反応を行う電気化学反応工程と、を具備することを特徴とする。
前記所定のパターン形状の前記導電性組成物をゲル状態とするゲル化工程と、ゲル状態の前記導電性組成物を用いて電気化学反応を行う電気化学反応工程と、を具備する作製方法により作成されることを特徴とする。
本発明の第1の実施の形態の構造体の作製方法に用いる導電性組成物は、電気化学反応を行うための導電性イオンとして、電気めっき析出可能な金属イオンを含有しているゲル状態のめっき用組成物2Aである。めっき用組成物2Aはゲル化剤と金属イオンと溶媒とを有しており、ゲル状態とゾル状態を可逆的に変化する。ここで、ゲル状態とは流動性を有しない状態を、ゾル状態は流動性を有する状態を意味する。言い換えればゲル状態とは、分散質のネットワークにより高い粘性を持ち流動性を失い、系全体としては固体状態になったものである。そしてめっき用組成物は室温においてゲル状態であり加温によりゾル状態になる。なお、室温においてゾル状態であり冷却によりゲル状態になるめっき用組成物等であってもよい。すなわちめっき用組成物は、ゾル状態とゲル状態とを可逆的に変化し、少なくとも電気化学反応を行うときにはゲル状態となる。
以下、本発明の第1の実施の形態の変形例について説明する。本変形例は第1の実施の形態と類似しているため同じ説明は省略する。
次に第2の実施の形態の構造体の作製方法に用いる導電性組成物であるエッチング用組成物7Aについて説明する。本実施の形態の構造体の作製方法等は第1の実施の形態の構造体の作製方法等と類似しているので同じ構成要素には同じ符号を付し説明は省略する。
なお、上記で説明した各種の電気化学反応では副反応として水素発生を伴う場合もある。導電性組成物2A等は水素発生によりゲルが劣化するため、水素発生の少ない電気化学反応が適している。例えば、電気めっきでは高濃度硫酸銅めっき、無電解めっきでは金めっき、置換めっきでは銅めっきが、導電性組成物2A等による反応に特に適している。
Claims (22)
- ゲル化剤と、電気化学反応を行うための導電性イオンと、溶媒と、を有する導電性組成物をゾル状態とするゾル化工程と、
ゾル状態の前記導電性組成物を基板上で所定のパターン形状とするパターン形成工程と、
前記所定のパターン形状の前記導電性組成物をゲル状態とするゲル化工程と、
ゲル状態の前記導電性組成物を用いて電気化学反応を行う電気化学反応工程と、を具備することを特徴とする構造体の作製方法。 - 前記ゾル化工程において前記導電性組成物を加温し、前記ゲル化工程において前記導電性組成物を冷却することを特徴とする請求項1に記載の構造体の作製方法。
- 前記ゾル化工程において、前記導電性組成物に圧力を印加することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の構造体の作製方法。
- 前記ゾル化工程において、前記導電性組成物に剪断応力を印加することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の構造体の作製方法。
- 前記パターン形成工程において、前記ゾル状態の前記導電性組成物を開口から吐出することにより前記所定のパターン形状とすることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の構造体の作製方法
- 前記開口がキャピラリの開口であることを特徴とする請求項5に記載の構造体の作製方法。
- 前記開口がスクリーン印刷のスクリーンの開口、またはメタルマスク印刷のメタルマスクの開口であることを特徴とする請求項5に記載の構造体の作製方法。
- 前記パターン形成工程において、基板に形成したフォトレジストパターンを用いることにより前記所定のパターン形状とすることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の構造体の作製方法。
- 前記溶媒は水であることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の構造体の作製方法。
- 前記ゲル化工程においてゲル状態とする前記導電性組成物を表面に有する前記基板と、第2の基板とを前記導電性組成物を介して接合し、前記電気化学反応工程を前記第2の基板上で行うことを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の構造体の作製方法。
- 前記ゲル化工程においてゲル状態とする前記導電性組成物を前記基板上から剥離し、第3の基板上に再配置する再配置工程をさらに有し、
前記電気化学反応工程を前記第3の基板上で行うことを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の構造体の作製方法。 - 前記ゲル化工程においてゲル状態とした前記導電性組成物を、前記基板上から移動制御可能な棒状体の一端部に、配設する配設工程と、
前記棒状体を移動制御し、前記導電性組成物を第3の基板上に再配置する再配置工程と、をさらに有し、
前記電気化学反応工程を前記第3の基板上で行うことを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の構造体の作製方法。 - 前記棒状体が、プローバーの探針であることを特徴とする請求項12に記載の構造体の作製方法。
- 前記導電性イオンが金属イオンを有し、
前記電気化学反応が前記金属イオンの析出反応であることを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の構造体の作製方法。 - 前記金属イオンが、金属の溶解反応により供給されることを特徴とする請求項14に記載の構造体の作製方法。
- 前記基板が基板上に金属を有し、
前記電気化学反応が前記基板上の前記金属の溶解反応であることを特徴とする請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の構造体の作製方法。 - 前記ゲル化工程においてゲル状態とする前記所定のパターン形状の前記導電性組成物の上に、導電性イオンを有するゲル状態の第2の導電性組成物を配置し、前記導電性組成物と前記第2の導電性組成物とを電気的に接触状態とする第2の導電性組成物配置工程をさらに有し、
前記電気化学反応工程において、前記第2の導電性組成物を介して前記導電性組成物に電流を印加することを特徴とする請求項1から請求項16のいずれか1項に記載の構造体の作製方法。 - 前記第2の導電性組成物が、複数の前記所定のパターン形状の前記導電性組成物の上に配置されることを特徴とする請求項17に記載の構造体の作製方法。
- 前記導電性組成物または前記第2の導電性組成物の少なくともいずれかの前記導電性イオンが金属イオンを有し、
前記電気化学反応が前記金属イオンの析出反応であることを特徴とする請求項17または請求項18に記載の構造体の作製方法。 - 前記金属イオンが、金属の溶解反応により供給されることを特徴とする請求項19に記載の構造体の作製方法。
- 前記基板が基板上に金属を有し、
前記電気化学反応が前記基板上の前記金属の溶解反応であることを特徴とする請求項17または請求項18に記載の構造体の作製方法。 - 請求項1から請求項21のいずれか1項に記載の前記構造体の作製方法により作成されることを特徴とする構造体。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104195605A (zh) * | 2014-08-04 | 2014-12-10 | 同济大学 | 凝胶介质局部微细电镀修复模具表面缺陷的方法 |
JP2015113494A (ja) * | 2013-12-11 | 2015-06-22 | 新光電気工業株式会社 | めっき組成物を有する構造体、その構造体の製造方法及び無電解めっき方法 |
JP2015175018A (ja) * | 2014-03-14 | 2015-10-05 | 古河電気工業株式会社 | ゲル状アモルファス化合物のパターン又は薄膜の形成方法、マイクロキャピラリー電解パターニング装置、並びに金属導体及び金属酸化物パターン又は薄膜の形成方法 |
JP2018145502A (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-20 | 吉野電化工業株式会社 | ゲルめっき方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6063400A (ja) * | 1983-09-16 | 1985-04-11 | Hitachi Ltd | 金属表面除染法 |
JPH01263293A (ja) * | 1988-04-14 | 1989-10-19 | Kawasaki Steel Corp | パターンメッキ方法 |
JPH02133580A (ja) * | 1988-09-27 | 1990-05-22 | Courtaulds Coatings Ltd | 液体用タンク内面のコーティング方法 |
JPH04272182A (ja) * | 1990-11-05 | 1992-09-28 | Abb Patent Gmbh | 部分金属層製造方法および装置 |
JP2005248319A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-09-15 | Tokyo Univ Of Science | 有機溶媒のゲル電解質を用いた金属の電気めっき方法 |
JP2008266740A (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Yoshino Denka Kogyo Inc | ゲル状メッキ組成物 |
-
2009
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6063400A (ja) * | 1983-09-16 | 1985-04-11 | Hitachi Ltd | 金属表面除染法 |
JPH01263293A (ja) * | 1988-04-14 | 1989-10-19 | Kawasaki Steel Corp | パターンメッキ方法 |
JPH02133580A (ja) * | 1988-09-27 | 1990-05-22 | Courtaulds Coatings Ltd | 液体用タンク内面のコーティング方法 |
JPH04272182A (ja) * | 1990-11-05 | 1992-09-28 | Abb Patent Gmbh | 部分金属層製造方法および装置 |
JP2005248319A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-09-15 | Tokyo Univ Of Science | 有機溶媒のゲル電解質を用いた金属の電気めっき方法 |
JP2008266740A (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Yoshino Denka Kogyo Inc | ゲル状メッキ組成物 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015113494A (ja) * | 2013-12-11 | 2015-06-22 | 新光電気工業株式会社 | めっき組成物を有する構造体、その構造体の製造方法及び無電解めっき方法 |
JP2015175018A (ja) * | 2014-03-14 | 2015-10-05 | 古河電気工業株式会社 | ゲル状アモルファス化合物のパターン又は薄膜の形成方法、マイクロキャピラリー電解パターニング装置、並びに金属導体及び金属酸化物パターン又は薄膜の形成方法 |
CN104195605A (zh) * | 2014-08-04 | 2014-12-10 | 同济大学 | 凝胶介质局部微细电镀修复模具表面缺陷的方法 |
JP2018145502A (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-20 | 吉野電化工業株式会社 | ゲルめっき方法 |
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