JP2011068042A - バリアフィルム、その製造方法及び有機光電変換素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、パーヒドロポリシラザンとアルコキシシランを含有する層を改質処理したケイ素化合物層を有することを特徴とするバリアフィルム。
【選択図】なし
Description
本発明のバリアフィルムは、プラスチックフィルム支持体、例えばポリエチレンテレフタレートフィルムの少なくとも一方の面に、パーヒドロポリシラザンとアルコキシシランを含有する層を改質処理したケイ素化合物層を有している。
本発明のバリアフィルムは、プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、パーヒドロポリシラザンとアルコキシシランを含有する塗布組成物を塗布乾燥してケイ素化合物層を形成した後、該ケイ素化合物層の表面を改質処理することで得ることができる。
バリア層の弾性率は、従来公知の弾性率測定方法により求めることができ、例えば、オリエンテック社製バイブロンDDV−2を用いて一定の歪みを一定の周波数(Hz)で掛ける条件下で測定する方法、測定装置としてRSA−II(レオメトリックス社製)を用い、透明基材上にバリア層を形成した後、一定周波数で印加歪を変化させたとき得られる測定値により求める方法、あるいは、ナノインデンション法を適用したナノインデンター、例えば、MTSシステム社製のナノインデンター(Nano Indenter TMXP/DCM)により測定することができる。
本発明で用いられるポリシラザンとは、珪素−窒素結合を持つポリマーで、Si−N、Si−H、N−H等からなるSiO2、Si3N4、及び両方の中間固溶体SiOxNy等のセラミック前駆体無機ポリマーである。
本発明は、パーヒドロポリシラザンとアルコキシシランを併用することが特徴である。
式中、R1は水素原子、アルキル基またはアシル基を表し、R2は水素原子、アルキル基または芳香族基を表し、nは1〜4の整数を表す。)
R1で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を挙げることができ、アシル基としてはアセチル基、プロピオニル基等を挙げることができる。メチル基、エチル基、プロピル基が特に好ましく、最も好ましくはエチル基である。nは2〜4が好ましく、3〜4が特に好ましく、4が最も好ましい。従って、テトラアルコキシシランが好ましく、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシランが特に好ましく、テトラエトキシシランが最も好ましい。nが2及び3の場合は、R2で示されるアルキル基としては、炭素数1〜18、好ましくは1〜5のアルキル基等を挙げることができ、芳香族基としてはフェニル基等を挙げることができる。
本発明において、パーヒドロポリシラザンとアルコキシシランを含有する層を含有するケイ素化合物層を改質処理する。改質処理としては、プラズマ処理、紫外線処理、赤外線処理、コロナ放電、フレーム処理等の物理的な処理の他に、水蒸気による熱処理や前記触媒を含有した蒸留水に浸すといった処理も挙げられるが、処理の簡便性や効果の大きさからプラズマ放電処理、紫外線処理が好ましい。
本発明に用いられるプラズマ処理は、公知の方法を用いることができるが、大気圧プラズマ処理が好ましい。大気圧プラズマ処理の場合は、放電ガスとしては窒素ガス及び/または周期表の第18属原子、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等が用いられる。これらの中でも窒素、ヘリウム、アルゴンが好ましく用いられ、特に窒素がコストも安く好ましい。
次に、前記大気圧プラズマについて好ましい形態を説明する。本発明の大気圧プラズマは、具体的には、国際公開第2007−026545号に記載されるように、放電空間に異なる周波数の電界を2つ以上形成したもので、第1の高周波電界と第2の高周波電界とを重畳した電界を形成することが好ましい。
V1≧IV>V2 または V1>IV≧V2
を満たし、前記第2の高周波電界の出力密度が、1W/cm2以上である。
本発明に用いられる紫外線照射処理は、酸素の存在下で紫外線を照射する処理のことを意味する。酸素の存在下で紫外線を照射することにより、活性酸素やオゾンが生成することはよく知られるところだが、活性酸素やオゾンは非常に反応性が高く、該ポリシラザン含有塗膜を、シラノールを経由することなく直接酸化することが可能と考えられている。さらに反応性オゾンの不足分を光照射部とは異なる部分で、放電法等の公知の方法により酸素からオゾンを生成し、紫外線照射部に導入してもよい。
本発明においてはパーヒドロポリシラザンとアルコキシシランを含有する塗布組成物を塗布乾燥したケイ素化合物層の上に、少なくとも1層のパーヒドロポリシラザンを含有する層を形成した後、改質処理したケイ素化合物層を設けるとバリア性が向上し好ましい。これは、下層のケイ素化合物層の弾性率は、上層のケイ素化合物層の弾性率より低く、応力緩和層として機能し、収縮応力起因のマイクロクラックや界面剥離でバリア性を抑制するものと推定している。
次に本発明のバリアフィルムで基材として用いられるプラスチックフィルム(樹脂フィルム支持体)について説明する。
本発明において、基材樹脂フィルム上には平滑層が設けられていることが好ましい。
好ましい態様のひとつは、前述の感光性樹脂中に表面に光重合反応性を有する感光性基が導入された反応性シリカ粒子(以下、単に「反応性シリカ粒子」ともいう)を含むものである。ここで光重合性を有する感光性基としては、(メタ)アクリロイルオキシ基に代表される重合性不飽和基等を挙げることができる。また感光性樹脂は、この反応性シリカ粒子の表面に導入された光重合反応性を有する感光性基と光重合反応可能な化合物、例えば、重合性不飽和基を有する不飽和有機化合物を含むものであってもよい。また感光性樹脂としては、このような反応性シリカ粒子や重合性不飽和基を有する不飽和有機化合物に適宜汎用の希釈溶剤を混合することによって固形分を調整したものを用いることができる。
ブリードアウト防止層は、平滑層を有するフィルムを加熱した際に、フィルム支持体中から未反応のオリゴマー等が表面へ移行して、接触する面を汚染してしまう現象を抑制する目的で、平滑層を有する基材の反対面に設けられる。
本発明のバリアフィルムは、例えば有機光電変換素子に用いることができる。有機光電変換素子に用いる際に、本発明のバリアフィルムは透明であるため、このバリアフィルムを支持体として用いてこの側から太陽光の受光を行うように構成できる。即ち、このバリアフィルム上に、例えば、ITO等の透明導電性薄膜を透明電極として設け、有機光電変換素子用樹脂支持体を構成することができる。そして、支持体上に設けられたITO透明導電膜を陽極としてこの上に多孔質半導体層を設け、さらに金属膜からなる陰極を形成して有機光電変換素子を形成し、この上に別の封止材料を(同じでもよいが)重ねて前記バリアフィルム支持体と周囲を接着、素子を封じ込めることで有機光電変換素子を封止することができ、これにより外気の湿気や酸素等のガスによる素子への影響を封じることができる。
本発明では、本発明に係わる前記セラミック層を有する樹脂フィルム(バリアフィルム)上に透明導電膜を形成し、さらに、有機光電変換素子を構成する各層を形成した後、上記封止フィルムを用いて、不活性ガスによりパージされた環境下で、上記封止フィルムで陰極面を覆うようにして、有機光電変換素子を封止することができる。
本発明に係る有機光電変換素子の好ましい態様を説明するが、これに限定されるものではない。有機光電変換素子としては特に制限がなく、陽極と陰極と、両者に挟まれた発電層(p型半導体とn型半導体が混合された層、バルクへテロジャンクション層、i層とも言う)が少なくとも1層以上あり、光を照射すると電流を発生する素子であればよい。
(i)陽極/発電層/陰極
(ii)陽極/正孔輸送層/発電層/陰極
(iii)陽極/正孔輸送層/発電層/電子輸送層/陰極
(iv)陽極/正孔輸送層/p型半導体層/発電層/n型半導体層/電子輸送層/陰極
(v)陽極/正孔輸送層/第1発電層/電子輸送層/中間電極/正孔輸送層/第2発電層/電子輸送層/陰極
ここで、発電層は、正孔を輸送できるp型半導体材料と電子を輸送できるn型半導体材料を含有していることが必要であり、これらは実質2層でヘテロジャンクションを形成していてもよいし、1層の内部で混合された状態となっているバルクへテロジャンクションを形成してもよいが、バルクへテロジャンクション構成の方が、光電変換効率が高いため好ましい。発電層に用いられるp型半導体材料、n型半導体材料については後述する。
本発明の発電層(バルクへテロジャンクション層)に用いられるp型半導体材料としては、種々の縮合多環芳香族低分子化合物や共役系ポリマー・オリゴマーが挙げられる。
本発明のバルクへテロジャンクション層に用いられるn型半導体材料としては、特に限定されないが、例えば、フラーレン、オクタアザポルフィリン等、p型半導体の水素原子をフッ素原子に置換したパーフルオロ体(パーフルオロペンタセンやパーフルオロフタロシアニン等)、ナフタレンテトラカルボン酸無水物、ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド、ペリレンテトラカルボン酸無水物、ペリレンテトラカルボン酸ジイミド等の芳香族カルボン酸無水物やそのイミド化物を骨格として含む高分子化合物等を挙げることができる。
本発明の有機光電変換素子10は、バルクへテロジャンクション層と陽極との中間には正孔輸送層17を、バルクへテロジャンクション層で発生した電荷をより効率的に取り出すことが可能となるため、これらの層を有していることが好ましい。
本発明の有機光電変換素子10は、バルクへテロジャンクション層と陰極との中間には電子輸送層18を形成することで、バルクへテロジャンクション層で発生した電荷をより効率的に取り出すことが可能となるため、これらの層を有していることが好ましい。
エネルギー変換効率の向上や、素子寿命の向上を目的に、各種中間層を素子内に有する構成としてもよい。中間層の例としては、正孔ブロック層、電子ブロック層、正孔注入層、電子注入層、励起子ブロック層、UV吸収層、光反射層、波長変換層等を挙げることができる。
透明電極は、陰極、陽極は特に限定せず、素子構成により選択することができるが、好ましくは透明電極を陽極として用いることである。例えば、陽極として用いる場合、好ましくは380〜800nmの光を透過する電極である。材料としては、例えば、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO2、ZnO等の透明導電性金属酸化物、金、銀、白金等の金属薄膜、金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブ用いることができる。
対電極は導電材単独層であってもよいが、導電性を有する材料に加えて、これらを保持する樹脂を併用してもよい。対電極の導電材としては、仕事関数の小さい(4eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子の取り出し性能及び酸化等に対する耐久性の点から、これら金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。対電極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、膜厚は通常10nm〜5μm、好ましくは50〜200nmの範囲で選ばれる。
また、前記(v)(または図3)のようなタンデム構成の場合に必要となる電荷再結合層15を構成する中間電極の材料としては、透明性と導電性を併せ持つ化合物を用いた層であることが好ましく、前記透明電極で用いたような材料(ITO、AZO、FTO、酸化チタン等の透明金属酸化物、Ag、Al、Au等の非常に薄い金属層または金属ナノ粒子・金属ナノワイヤを含有する層、PEDOT:PSS、ポリアニリン等の導電性高分子材料等)を用いることができる。
一般に、金属ナノワイヤとは、金属元素を主要な構成要素とする線状構造体のことをいう。特に、本発明における金属ナノワイヤとはnmサイズの直径を有する線状構造体を意味する。
本発明の有機光電変換素子は、太陽光のより効率的な受光を目的として、各種の光学機能層を有していてよい。光学機能層としては、例えば、反射防止膜、マイクロレンズアレイ等の集光層、陰極で反射した光を散乱させて再度発電層に入射させることができるような光拡散層等を設けてもよい。
電子受容体と電子供与体とが混合されたバルクヘテロジャンクション層、及び輸送層・電極の形成方法としては、蒸着法、塗布法(キャスト法、スピンコート法を含む)等を例示することができる。このうち、バルクへテロジャンクション層の形成方法としては、蒸着法、塗布法(キャスト法、スピンコート法を含む)等を例示することができる。このうち、前述の正孔と電子が電荷分離する界面の面積を増大させ、高い光電変換効率を有する素子を作製するためには、塗布法が好ましい。また塗布法は、製造速度にも優れている。
本発明に係る電極、発電層、正孔輸送層、電子輸送層等をパターニングする方法やプロセスには特に制限はなく、公知の手法を適宜適用することができる。
《バリアフィルムの作製》
(支持体)
プラスチックフィルム支持体として、両面に易接着加工された125μm厚みのポリエステルフィルム(帝人デュポンフィルム株式会社製、極低熱収PET Q83)を基板として用いた。
上記支持体の片面に、JSR株式会社製 UV硬化型有機/無機ハイブリッドハードコート材 OPSTAR Z7535を塗布、乾燥後の膜厚が4μmになるようにワイヤーバーで塗布した後、80℃、3分で乾燥後、空気雰囲気下、高圧水銀ランプを使用して500mJ/cm2で硬化し、ブリードアウト防止層を形成した。
続けて上記支持体の反対面に、JSR株式会社製 UV硬化型有機/無機ハイブリッドハードコート材 OPSTAR Z7501を塗布、乾燥後の膜厚が4μmになるようにワイヤーバーで塗布した後、80℃、3分で乾燥後、空気雰囲気下、高圧水銀ランプを使用して500mJ/cm2で硬化し、平滑層を形成した。
〈ケイ素化合物層の形成〉
次に、上記平滑層及びブリードアウト防止層を設けたフィルムの平滑層の上に、下記ケイ素化合物がそれぞれ不揮発成分比率で80質量%、20質量%、0質量%になるように混合して、下記ケイ素化合物層塗布液を調製し、次いで、ワイヤレスバーの番手と脱水ジブチルエーテルによる希釈で、乾燥後の膜厚が0.25μmになるように調整し、23℃50%RH環境下で塗布した後、80℃、1分乾燥した。
アクアミカ NAX120−20(パーヒドロポリシラザン、AZエレクトロニックマテリアルズ(株)製、20質量%ジブチルエーテル溶液)
テトラエトキシシラン(アルコキシシラン、信越化学工業(株)製、KBE−04、20質量%ジブチルエーテル溶液)
アクアミカ MHPS−20DB(オルガノポリシラザン、AZエレクトロニックマテリアルズ(株)製、20質量%ジブチルエーテル溶液)
〈改質処理〉
作製した塗布試料を下記の条件で改質処理を行い、バリアフィルム1を作製した。即ち、ロール電極型放電処理装置を用いて大気圧プラズマ処理を実施した。ロール電極に対向する棒状電極を複数個フィルムの搬送方向に対し平行に設置し、各電極部にガス及び電力を投入し、以下のように塗工面が30秒間プラズマ照射されるように適宜処理を行った。なお、投入するガスの全流量は60slmで固定した。
放電ガス:N2ガス
反応ガス:O2ガスを全ガスに対し8%
低周波側電源電力:100kHzを12W/cm2
高周波側電源電力:13.56MHzを10W/cm2
〔バリアフィルム2〜13の作製〕
バリアフィルム1の作製において、ケイ素化合物層塗布液の組成を表1のように変更した以外は同様にして、バリアフィルム2〜13を得た。
バリアフィルム4の作製において、ケイ素化合物層を形成した後、さらに2層目として、下記2層目ケイ素化合物塗布液を、ワイヤレスバーの番手と脱水ジブチルエーテルによる希釈で、乾燥後の膜厚が0.05μmになるように調整し、23℃50%RH環境下で塗布後に80℃、1分乾燥した。さらにバリアフィルム4と同様にして大気圧プラズマ処理を行い、バリアフィルム14を作製した。
アクアミカ NN120−20(パーヒドロポリシラザン(PHPS)、AZエレクトロニックマテリアルズ(株)製、20質量%ジブチルエーテル溶液)
〔バリアフィルム15、16の作製〕
バリアフィルム14の作製において、1層目のケイ素化合物層塗布液の組成を表1のように変更した以外は同様にしてバリアフィルム15、16を得た。
バリアフィルム1の作製において、ケイ素化合物層塗布液に用いたアクアミカ NAX120−20(パーヒドロポリシラザン)及びテトラエトキシシラン(アルコキシシラン)を、特開平5−238827の実施例4に従って得たテトラエトキシシラン付加ポリシラザンに代えて、脱水ジブチルエーテルに溶解して用いた以外は同様にしてバリアフィルム17を得た。
バリアフィルム7の作製において、ケイ素化合物層を形成し改質処理した後、さらにその上に同じ組成のケイ素化合物層を形成し、改質処理してバリアフィルム18を作製した。バリアフィルム18は、バリアフィルム7のケイ素化合物層の形成操作を2回繰り返した、いわゆる2スタックの試料である。
バリアフィルム6の作製において、ケイ素化合物層を形成した後、その上に、バリアフィルム14の2層目ケイ素化合物層塗布液を塗布し改質処理した。さらに、この2層のケイ素化合物層の形成操作及び改質処理を繰り返し、バリアフィルム19を作製した。
バリアフィルム1の作製において、改質処理を表1のように変更した以外は同様にして、バリアフィルム20〜22を得た。
特開2007−237588号公報、実施例1に記載の真空酸素プラズマ処理条件で改質処理した。処理時間は15分に設定した。
基板温度を150℃に保ちながら、放電式オゾンジェネレーターに純酸素を0.5L/minで導入しながら、生成したオゾンを導入した雰囲気下で、低圧水銀ランプにより紫外線を15分照射した。
基板温度を25℃に保ちながら、乾燥窒素と酸素の混合雰囲気中(酸素濃度1%)で、50mW/cm2の照度、基板とランプ間距離1mmでエキシマ光(Xe)を5秒照射した。
(装置)Hysitron社製Triboscope及びSII製SPI3800N
(圧子)Cube corner Tip
(最大荷重)20μN
〔バリアフィルム23の作製〕
バリアフィルム8の作製において、改質処理を行わないこと以外は同様にして、バリアフィルム23を得た。
〈水蒸気透過率(WVTR)の評価〉
以下の方法により評価した。
蒸着装置:日本電子(株)製真空蒸着装置JEE−400
恒温恒湿度オーブン:Yamato Humidic ChamberIG47M
(原材料)
水分と反応して腐食する金属:カルシウム(粒状)
水蒸気不透過性の金属:アルミニウム(φ3〜5mm、粒状)
(水蒸気バリア性評価用セルの作製)
予め、半径10mmの曲率になるように、180度の角度で100回屈曲を繰り返したバリアフィルムのセラミック層面に、真空蒸着装置(日本電子製真空蒸着装置 JEE−400)を用い、透明導電膜を付ける前のバリアフィルム試料の蒸着させたい部分(12mm×12mmを9箇所)以外をマスクし、金属カルシウムを蒸着させた。その後、真空状態のままマスクを取り去り、シート片側全面にアルミニウムをもう一つの金属蒸着源から蒸着させた。アルミニウム封止後、真空状態を解除し、速やかに乾燥窒素ガス雰囲気下で、厚さ0.2mmの石英ガラスに封止用紫外線硬化樹脂(ナガセケムテックス製、)を介してアルミニウム封止側と対面させ、紫外線を照射することで、評価用セルを作製した。また、屈曲前後のバリア性の変化を確認するために、上記屈曲の処理を行わなかったバリアフィルムについても同様に、水蒸気バリア性評価用セルを作製した。
4:1×10−4g/(m2・24h)以上、1×10−3g/(m2・24h)未満
3:1×10−3g/(m2・24h)以上、1×10−2g/(m2・24h)未満
2:1×10−2g/(m2・24h)以上、1×10−1g/(m2・24h)未満
1:1×10−1g/(m2・24h)以上。
屈曲処理を行わなかったバリアフィルムについて、JIS K5400に準拠した碁盤目試験を行った。形成された薄膜の表面に片刃のカミソリ刃を面に対して90°の角度で切り込みを1mm間隔で縦横11本入れ、1mm角の碁盤目を100個作製した。この上に市販のセロハンテープを貼り付け、その一端を手で持って垂直に力強く引張って剥がし、切り込み線からの貼られたテープ面積に対する薄膜が剥がされた面積の割合を算出し、下記基準で評価した。
B:剥離された面積割合が10%未満
C:剥離された面積割合が10%以上
評価の結果を表1に示す。
《有機光電変換素子の作製》
予め、半径10mmの曲率になるように、180度の角度で100回屈曲を繰り返した、実施例1で作製し屈曲を行ったバリアフィルムに、インジウム・スズ酸化物(ITO)透明導電膜を150nm堆積したもの(シート抵抗10Ω/□)を、通常のフォトリソグラフィ技術と湿式エッチングとを用いて2mm幅にパターニングし第1の電極を形成した。パターン形成した第1の電極を、界面活性剤と超純水による超音波洗浄、超純水による超音波洗浄の順で洗浄後、窒素ブローで乾燥させ、最後に紫外線オゾン洗浄を行った。
窒素ガス(不活性ガス)によりパージされた環境下で、基板に用いたものと同じ2枚のバリアフィルムのバリア層を設けた面を内側にして、シール材としてエポキシ系光硬化型接着剤をバリア層に塗布し、上記有機光電変換素子をバリアフィルム間に挟み込んで密着させた後、片側の基板側からUV光を照射して硬化させた。こうして、バリアフィルム1〜23から、それぞれ両面封止済みの有機光電変換素子1〜23を作製した。
〈耐久性の評価〉
作製した有機光電変換素子について、ソーラーシミュレーター(AM1.5Gフィルタ)の100mW/cm2の強度の光を照射し、有効面積を4.0mm2にしたマスクを受光部に重ね、I−V特性を評価することで、短絡電流密度Jsc(mA/cm2)、開放電圧Voc(V)及びフィルファクターFF(%)を、同素子上に形成した4箇所の受光部をそれぞれ測定し、下記式に従って求めたエネルギー変換効率PCE(%)の4点平均値を見積もった。
初期電池特性としての変換効率を測定し、性能の経時的低下の度合いを60℃、90%RH環境で1000時間保存した加速試験後の変換効率残存率(加速試験後の変換効率/初期変換効率)により、下記基準で評価した。
4:変換効率残存率が70%以上、90%未満
3:変換効率残存率が40%以上、70%未満
2:変換効率残存率が20%以上、40%未満
1:変換効率残存率が20%未満
評価の結果を表2に示す。
11 基板
12 陽極
13 陰極
14 発電層(バルクヘテロジャンクション層)
14p p型半導体層
14i バルクヘテロジャンクション層
14n n型半導体層
14′ 第1の発電層
15 電荷再結合層
16 第2の発電層
17 正孔輸送層
18 電子輸送層
Claims (11)
- プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、パーヒドロポリシラザンとアルコキシシランを含有する層を改質処理したケイ素化合物層を有することを特徴とするバリアフィルム。
- 前記パーヒドロポリシラザンとアルコキシシランを含有する層が、該アルコキシシランを5〜40質量%含有することを特徴とする請求項1記載のバリアフィルム。
- 前記パーヒドロポリシラザンとアルコキシシランを含有する層が、オルガノポリシラザンを含有することを特徴とする請求項1または2記載のバリアフィルム。
- プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、パーヒドロポリシラザンとアルコキシシランを含有する層を有し、さらにその上に少なくとも1層のパーヒドロポリシラザンを含有する層を形成した後、改質処理したケイ素化合物層を有することを特徴とするバリアフィルム。
- 前記改質処理が、プラズマ処理または紫外線照射処理であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載のバリアフィルム。
- 請求項1〜5のいずれか1項記載のバリアフィルムを用いることを特徴とする有機光電変換素子。
- プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、パーヒドロポリシラザンとアルコキシシランを含有する塗布組成物を塗布乾燥してケイ素化合物層を形成した後、該ケイ素化合物層の表面を改質処理することを特徴とするバリアフィルムの製造方法。
- 前記塗布組成物の不揮発固形分に対して、アルコキシシランを5〜40質量%含有することを特徴とする請求項7記載のバリアフィルムの製造方法。
- 前記塗布組成物が、オルガノポリシラザンを含有することを特徴とする請求項7または8記載のバリアフィルムの製造方法。
- プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、パーヒドロポリシラザンとアルコキシシランを含有する層を形成し、さらにその上に少なくとも1層の、パーヒドロポリシラザンを含有する塗布組成物を塗布乾燥してケイ素化合物層を形成した後、改質処理することを特徴とするバリアフィルムの製造方法。
- 前記改質処理が、プラズマ処理または紫外線照射処理であることを特徴とする請求項7〜10のいずれか1項記載のバリアフィルムの製造方法。
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