JP2011047570A - 被乾燥物の乾燥方法及びその装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】沸点が水より高い高沸点溶剤2を導入した溶剤導入槽1内で、被乾燥物25を、水の沸点以上に加熱した高沸点溶剤2に接触させて被乾燥物25に付着した水分を沸騰蒸発させる。その後、真空乾燥槽10まで被乾燥物25を密閉空間内で移送し、溶剤導入槽1と真空乾燥槽10との連通を遮断した状態で、真空乾燥槽10内を減圧するとともに高沸点溶剤2の沸点以上に加熱し、被乾燥物25の表面に付着した高沸点溶剤2を蒸発させて被乾燥物25を乾燥する。
【選択図】図1
Description
なお、上述の水の沸点以上への高沸点溶剤の加熱は、高沸点溶剤の沸点未満まで加熱するものであっても良いし、高沸点溶剤の沸点以上まで加熱するものであっても良い。また、請求項及び本明細書中に於いて、「水分の付着した被乾燥物」には、「水分のみが付着した被乾燥物」と、「水分と、加工油、界面活性剤等の液体との混合液が付着した被乾燥物」の両方を含むものである。
の接触部分の気密性を第3シール部材(21)で保持しているため、支持体(18)の上下動に伴って気密性が損なわれるおそれがなく、上記「第1の移送」を、溶剤導入槽(1)と真空乾燥槽(10)により構成する密閉空間内で行うことができる。そのため、溶剤導入槽(1)及び真空乾燥槽(10)の減圧状態が維持されるものとなる。
2 高沸点溶剤
3、4 加熱機構
10 真空乾燥槽
25 被乾燥物
27 上下動機構
30 減圧機構
34 水分冷却器
35 溶剤冷却器
56 蒸気発生槽
Claims (8)
- 沸点が水より高い高沸点溶剤を導入した溶剤導入槽内において、水分の付着した被乾燥物を、水の沸点以上に加熱した前記高沸点溶剤に接触させて被乾燥物に付着した水分を沸騰蒸発させた後、上記溶剤導入槽との連通を遮断可能な真空乾燥槽まで被乾燥物を密閉空間内で移送し、溶剤導入槽と真空乾燥槽との連通を遮断した状態で、真空乾燥槽内を減圧するとともに高沸点溶剤の沸点以上に加熱し、被乾燥物の表面に付着した高沸点溶剤を蒸発させて被乾燥物を乾燥することを特徴とする被乾燥物の乾燥方法。
- 水分の付着した被乾燥物を、水の沸点以上に加熱した沸点が水より高い高沸点溶剤に接触させて被乾燥物に付着した水分を沸騰蒸発させる溶剤導入槽と、上記水分の沸騰蒸発後の被乾燥物を導入し、槽内を減圧機構により減圧するとともに加熱機構により高沸点溶剤の沸点以上に加熱して、被乾燥物の表面に付着した高沸点溶剤を蒸発させて被乾燥物を乾燥可能とする、上記溶剤導入槽との連通を遮断可能な真空乾燥槽と、上記溶剤導入槽から真空乾燥槽へと被乾燥物を密閉空間内で移送する上下動機構と、を備えたことを特徴とする被乾燥物の乾燥装置。
- 溶剤導入槽は、槽内を減圧可能としたことを特徴とする請求項1に記載の被乾燥物の乾燥方法。
- 溶剤導入槽は、槽内を減圧可能としたことを特徴とする請求項2に記載の被乾燥物の乾燥装置。
- 真空乾燥槽は、蒸気発生槽と接続し、被乾燥物の蒸気洗浄を可能としたことを特徴とする請求項1に記載の被乾燥物の乾燥方法。
- 真空乾燥槽は、蒸気発生槽と接続し、被乾燥物の蒸気洗浄を可能としたことを特徴とする請求項2に記載の被乾燥物の乾燥装置。
- 密閉空間は、溶剤導入槽と真空乾燥槽とで形成したことを特徴とする請求項1に記載の被乾燥物の乾燥方法。
- 密閉空間は、溶剤導入槽と真空乾燥槽とで形成したことを特徴とする請求項2に記載の被乾燥物の乾燥装置。
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