JP2011033376A

JP2011033376A - 試験装置、試験方法

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Publication number: JP2011033376A
Application number: JP2009177430A
Authority: JP
Inventors: Kazunori Sakurai; 和徳桜井; Kozo Gyoda; 幸三行田
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2009-07-30
Filing date: 2009-07-30
Publication date: 2011-02-17

Abstract

【課題】試験片の屈曲耐性を求めることができる試験装置、試験方法を提供する。
【解決手段】試験片７２を載置する載置面８６ｘと、載置面８６ｘに対して略垂直に配置されると共に、試験片７２を載置面８６ｘの面上で湾曲させた状態で挟持する第１平板７３及び第２平板７４と、第１平板７３と第２平板７４との距離を相対的に移動させる移動機構７５と、第１平板７３と第２平板７４との距離を測定する計測器と、を備える。
【選択図】図５

Description

本発明は、試験片を折り曲げて屈曲耐性試験を行う試験装置、試験方法に関する。

上記試験装置は、例えば、薄く削ったガラス基板や、このガラス基板を有する表示パネルが樹脂フィルムにラミネートされた電気光学装置（例えば、有機ＥＬ装置（エレクトロミネッセンス））等の屈曲耐性を評価する。

試験方法として、例えば、ＪＩＳ規格の試験方法によれば、３点曲げ試験や４点曲げ試験等の方法がある。また、特許文献１に記載の方法では、試験片の端部を回動可能な治具で保持し、試験片の全体を曲げ変形させて試験片を破壊させる方法が開示されている。

また、図１５に示す試験装置１１１のように、一定の半径を有する円筒状のローラー１１２に試験片１１３を巻きつけ、Ｕ字状に曲げたときに湾曲部１１３ａに亀裂（破壊）１１４が生じるか否かを観察する方法がある。図１５（ａ）、（ｂ）は、曲げの試験方法を工程順に示す模式側面図である。まず、図１５（ａ）に示すように、ローラー１１２を軸にして試験片１１３を折り曲げていく。次に、図１５（ｂ）に示すように、引き続き折り曲げ、試験片１１３がＵ字状になるまで折り曲げる。このとき、試験片１１３の湾曲部１１３ａに亀裂１１４が生じたかを確認する。この方法を半径の大きいローラー１１２から半径の小さいローラー１１２へ順に繰り返し、亀裂１１４が生じたときの半径（曲率）を求める。

特開２００４−２７９０８３号公報

しかしながら、ＪＩＳ規格の試験方法では、試験片が柔らかい場合、押した力に伴って曲がってしまい、限界の半径を求めることができない。また、先行文献１に記載の方法では、試験片が大きな湾曲形状になってしまい、限界の半径を求めることができないという課題がある。

また、図１５に示す方法では、限界の曲率を求めるために、いくつも円筒状のローラー１１２を用意しなければならない。また、ローラー１１２の曲率の閾値間にある場合など、厳密な限界の曲率を求めることができない。また、試験片１１３を繰り返し折り曲げると、限界の曲率で亀裂１１４が生じたのか、疲労破壊によって亀裂１１４が生じたのかわからないという課題がある。

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。

［適用例１］本適用例に係る試験装置は、試験片の屈曲耐性を求める試験装置であって、前記試験片が載置される載置面と、前記載置面に対して略垂直に配置されると共に、前記載置面の面上で互いに対向配置される第１平板及び第２平板と、前記第１平板と前記第２平板とのうち少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させる移動機構と、前記第１平板と前記第２平板との間隔を測定する測定部と、を備えることを特徴とする。

この構成によれば、移動機構によって第１平板と第２平板との距離を相対的に移動させるので、第１平板及び第２平板に挟持された試験片を連続的に押し曲げていくことが可能となる。更に、試験片を第１平板及び第２平板の面で押していくことにより、試験片をＵ字状に曲げていくことができる。そして、測定部によって、試験片の湾曲部に亀裂が生じたときの第１平板と第２平板との間隔を求めることにより、Ｕ字状に曲げられた試験片の限界曲率（屈曲耐性）を早く高精度に求めることができる。

［適用例２］上記適用例に係る試験装置において、前記第１平板及び前記第２平板の前記載置面からの高さは、前記試験片の長さの１／２以上であることが好ましい。

この構成によれば、第１平板及び第２平板の高さが試験片の長さの１／２以上であるので、試験片を折り曲げた際、試験片における湾曲部を除いた平な面全体を、第１平板及び第２平板で支持することが可能となる。よって、試験片をＵ字状に折り曲げることができる。

［適用例３］上記適用例に係る試験装置において、前記第１平板は固定されており、前記第１平板に対して前記第２平板を移動させることが好ましい。

この構成によれば、第２平板のみが移動するので、第２平板のみに移動機構を設けることで第１平板と第２平板との間隔を相対的に変えることが可能となる。よって、比較的簡単な構造で試験片を曲げることができる。

［適用例４］上記適用例に係る試験装置において、前記試験片の湾曲部に亀裂が生じたか否かを判定する判定部を有することが好ましい。

この構成によれば、判定部によって試験片の湾曲部に亀裂が生じたか否かを判定するので、例えば、目視では確認しづらい亀裂であっても、亀裂が生じたことを知ることができる。よって、Ｕ字状に曲げられた試験片の限界曲率（屈曲耐性）を早く高精度に求めることができる。

［適用例５］上記適用例に係る試験装置において、前記判定部は、前記湾曲部に亀裂が生じた際に発する音を集音するマイクを備えることが好ましい。

この構成によれば、マイクを備えているので、小さな音で湾曲部に亀裂が生じた場合でも亀裂を確認することができる。また、試験片が樹脂フィルムなどでラミネートされ目視では確認しづらいようなものでも、亀裂が生じた音で判定することができる。

［適用例６］上記適用例に係る試験装置において、前記判定部は、前記試験片に光を照射する照明装置を備えることが好ましい。

この構成によれば、例えば、試験片の一端部から照明装置からの光を入れて、他端部から光を出す構成にすることにより、亀裂が生じた試験片の部分から光を放出させることが可能となる。よって、湾曲部から光が放出される（乱反射する）か否かで亀裂の有無を判断することができる。また、試験片が樹脂フィルム等によってラミネートされ試験片に亀裂が生じたか確認しづらいような場合でも、亀裂（クラック）が入った部分で乱反射するので、亀裂の有無を確認することができる。

［適用例７］上記適用例に係る試験装置において、前記試験片の曲げ反発力を検出する圧力検出部を有することが好ましい。

この構成によれば、圧力検出部によって曲げ反発力を検出するので、試験片を押し曲げて湾曲部に亀裂が生じたときの（亀裂を生じさせるのに必要な）押圧力を求めることができる。

［適用例８］本適用例に係る試験方法は、試験片の屈曲耐性を求める試験方法であって、略平行に配置された第１平板と第２平板との間に前記試験片を挟持する挟持工程と、前記第１平板と前記第２平板とのうち少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて前記試験片をＵ字状に押し曲げる押し曲げ工程と、前記試験片の湾曲部に亀裂が生じたときの前記第１平板と前記第２平板との間隔を測定する測定工程と、を有することを特徴とする。

この方法によれば、押し曲げ工程によって第１平板と第２平板との距離を相対的に移動させるので、第１平板及び第２平板に挟持された試験片を連続的に押し曲げていくことが可能となる。更に、試験片を第１平板及び第２平板の面で押していくことにより、試験片をＵ字状に曲げていくことができる。そして、測定工程によって試験片の湾曲部に亀裂が生じたときの第１平板と第２平板との距離を測定することにより、Ｕ字状に曲げられた試験片の限界曲率（屈曲耐性）を早く高精度に求めることができる。

［適用例９］上記適用例に係る試験方法において、前記押し曲げ工程は、前記第１平板と前記第２平板とのうち少なくとも一方を他方に対して所定の速度で相対的に移動させることが好ましい。

この方法によれば、所定の速度で移動させるので、繰り返し試験を行った場合でも同じ条件で試験片を曲げていくことができる。

［適用例１０］上記適用例に係る試験方法において、前記押し曲げ工程は、前記湾曲部に生じる亀裂を目視で確認することが好ましい。

この方法によれば、目視によって亀裂を確認するので、例えば、亀裂音などでは判定できないような場合でも亀裂の有無を確認することができる。

［適用例１１］上記適用例に係る試験方法において、前記押し曲げ工程は、前記湾曲部に生じる亀裂を音で確認することが好ましい。

この方法によれば、音によって亀裂を確認するので、試験片が樹脂フィルムなどでラミネートされ目視では確認しづらいようなものでも亀裂の有無を確認することができる。

［適用例１２］上記適用例に係る試験方法において、前記押し曲げ工程は、前記湾曲部に生じる亀裂を光学的に検出することが好ましい。

この方法によれば、光学的に亀裂の有無を確認するので、試験片が樹脂フィルム等によってラミネートされ亀裂が確認しづらいような場合でも、亀裂が生じた部分で乱反射するので確認することができる。

有機ＥＬ装置の構成を示す模式平面図。図１に示す有機ＥＬ装置のＡ−Ａ'線に沿う模式断面図。有機ＥＬ装置の電気的な構成を示す等価回路図。有機ＥＬ装置を構成する表示パネルの構造を示す模式断面図。試験装置の構造を模式的に示す斜視図。図５に示す試験装置を上方から見た模式平面図。図６に示す試験装置をＡ方向から見た模式側面図。試験方法を工程順に示す模式側面図。試験方法を工程順に示す模式側面図。試験方法を工程順に示す模式側面図。試験装置の構造の変形例を示す模式図。試験装置の構造の変形例を示す模式図。試験装置の構造の変形例を示す模式図。試験装置の構造の変形例を示す模式図。従来の試験装置の構造を示す模式側面図。

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。

＜試験片を備える有機ＥＬ装置の構成＞
図１は、試験片を備える有機ＥＬ装置の構成を示す模式平面図である。図２は、図１に示す有機ＥＬ装置のＡ−Ａ'線に沿う模式断面図である。以下、有機ＥＬ装置の構成を、図１及び図２を参照しながら説明する。

図１に示すように、有機ＥＬ装置１１は、外形が四角形の表示パネル１２を内包した表示部１３を備えている。表示パネル１２は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、３色の色表示が可能な複数の画素１４が設けられた表示領域１５を有している。複数の画素１４は、表示領域１５において３色のうち同色の画素１４が短辺に沿った方向に配列した所謂ストライプ状の配列となっている。なお、画素１４の配列はこれに限定されるものではない。

表示パネル１２の長辺に沿って設けられた端子部１６には、表示パネル１２を駆動制御する表示制御部（図示せず）との電気的な接続を図るべく、複数（３つ）の中継基板１７ａ，１７ｂ，１７ｃが実装されている。中継基板１７ａ，１７ｂ，１７ｃは、例えばフレキシブル回路基板（ＦＰＣ）であって、その表面に表示パネル１２を駆動する駆動回路の一部を構成する例えばドライバーＩＣなどの電子部品を実装したものも採用することができる。

図２に示すように、有機ＥＬ装置１１の表示部１３は、中継基板１７ａが実装された表示パネル１２を樹脂フィルム２１と樹脂フィルム２２との間に挟んでラミネートされた構造となっている。

表示パネル１２は、画素１４ごとに対応して設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子２３（以降、「有機ＥＬ素子２３」と称する）を有する素子基板３１を備える。更に、表示パネル１２は、同じく画素１４ごとに対応して設けられた着色層を具備するカラーフィルター２４を有する封止基板３２を備える。表示パネル１２は、素子基板３１と封止基板３２とを可視光透過性を有する封止樹脂２５を介してシール材２６により接合したものである。有機ＥＬ素子２３は白色光を発するものであり、白色光がカラーフィルター２４を透過して封止基板３２側から射出することにより、カラー表示を可能とする所謂トップエミッション構造となっている。

素子基板３１には、画素１４ごとの有機ＥＬ素子２３を駆動するため駆動回路（図示せず）が設けられており、有機ＥＬ素子２３は駆動回路上に形成されている。駆動回路は薄膜トランジスターなどのスイッチング素子やこれに繋がる配線等を含むものであって、公知の構成を採用することができる。

このように有機ＥＬ素子２３を有する自発光型の表示パネル１２において、素子基板３１は透明なガラス基板を用いることができる。一方、有機ＥＬ素子２３からの発光が取り出される側の封止基板３２も透明なガラス基板を用いることができる。

本実施形態では、素子基板３１と封止基板３２とを接合した後に、その表面を機械的または化学的な研磨を施すことにより、それぞれの基板の厚みを薄くする加工が施されている。例えば、それぞれの基板の元の厚みは、およそ０．５ｍｍである。そして、加工後の総厚が、強度と柔軟性とのバランスを考慮して、およそ５０μｍ〜１２０μｍの範囲内となるように研磨されている。したがって、表示パネル１２自体がある程度の可撓性を有する構成となっている。

よって、表示パネル１２自体では、外部からの衝撃に対して弱い、また衝撃で破損したときの飛散を防ぐ必要がある。また、有機ＥＬ素子２３を用いた密封構造とし、外部からの水分等の浸入を防ぎより長い発光寿命を確保したいなどの理由から、同じく可撓性を有する樹脂フィルム２１，２２でラミネートしている。

ラミネートに用いられる樹脂フィルム２１は、ガス透過性が低い透明な基材フィルム２１ａの一方の表面に接着剤を均一に塗布して形成された接着層２１ｂを有する。同様に樹脂フィルム２２は、ガス透過性が低い透明な基材フィルム２２ａの一方の表面に透明な接着剤を均一に塗布して形成された接着層２２ｂを有する。なお、接着層２１ｂ，２２ｂを設けない構造にしてもよい。

基材フィルム２１ａ，２２ａとしては、例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムやポリカーボネートフィルムなどが挙げられる。接着層２１ｂ，２２ｂは、例えば熱硬化型のエポキシ樹脂を用いることができる。また、粘着性を有する粘着剤としてもよい。粘着剤を用いればリペア性を実現できる。

接着層２１ｂ，２２ｂが相対するように表示パネル１２を挟んで２つの樹脂フィルム２１，２２によりラミネートする。また、有機ＥＬ素子２３の防湿性、言い換えれば封止性を確保するために、ラミネート時に表示パネル１２の周辺に発生するおそれがある空間２７，２８を封止樹脂により埋めた構造となっている。すなわち、封止樹脂と一緒に表示パネル１２を挟んでラミネートしており、はみ出した封止樹脂の一部２９が樹脂フィルム２１，２２の端面に盛り上がった状態となっている。

素子基板３１の端子部３１ａには、異方性導電膜（ＡＣＦ）３３を用いて中継基板１７ａが実装されている。中継基板１７ａの接続部を除く表面は絶縁性を有する例えばポリイミドやソルダーレジストなどの保護膜で覆われており、樹脂フィルム２１，２２の接着層２１ｂ，２２ｂと上記保護膜との接着性を確保するために、双方の界面に接着性を示す中間接着層３４，３５が設けられている。

このような構成の表示部１３は所謂シート状（板状）であって、外部応力にある程度追随して表示面を湾曲させることができる。

なお、表示パネル１２がトップエミッション構造の有機ＥＬ素子２３を有しているため、素子基板３１側から光を取り出す必要がない。したがって、素子基板３１側を覆う樹脂フィルム２２は透明性を有する必要はなく、ラミネートが可能な金属薄膜などの熱伝導体を備えた不透明な樹脂フィルムでもよい。熱伝導体により有機ＥＬ素子２３の発光に伴う発熱を放熱することが可能となる。なお、トップエミッション構造に限定されず、例えば、ボトムエミッション構造に変えた有機ＥＬ装置を用いるようにしてもよい。

図３は、有機ＥＬ装置の電気的な構成を示す等価回路図である。以下、有機ＥＬ装置の電気的な構成を、図３を参照しながら説明する。

図３に示すように、有機ＥＬ装置１１は、複数の走査線４１と、走査線４１に対して交差する方向に延びる複数の信号線４２と、信号線４２に並行に延びる複数の電源線４３とが、それぞれ格子状に配線されている。そして、走査線４１と信号線４２とにより区画された領域が画素領域として構成されている。信号線４２は、信号線駆動回路４４に接続されている。また、走査線４１は、走査線駆動回路４５に接続されている。

各画素領域には、走査線４１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ（Thin Film Transistor）４６と、このスイッチング用ＴＦＴ４６を介して信号線４２から供給される画素信号を保持する保持容量４７と、保持容量４７によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ４８（以下、「ＴＦＴ素子４８」と称する。）とが設けられている。更に、各画素領域には、ＴＦＴ素子４８を介して電源線４３に電気的に接続したときに、電源線４３から駆動電流が流れ込む陽極５１と、陰極５２と、この陽極５１と陰極５２との間に挟持された機能層５３とが設けられている。

有機ＥＬ装置１１は、陽極５１と陰極５２と機能層５３とにより構成される有機ＥＬ素子２３を複数備えている。また、有機ＥＬ装置１１は、複数の有機ＥＬ素子２３で構成される表示領域を備えている。

この構成によれば、走査線４１が駆動されてスイッチング用ＴＦＴ４６がオン状態になると、そのときの信号線４２の電位が保持容量４７に保持され、保持容量４７の状態に応じて、ＴＦＴ素子４８のオン・オフ状態が決まる。そして、ＴＦＴ素子４８のチャネルを介して、電源線４３から陽極５１に電流が流れ、更に、機能層５３を介して陰極５２に電流が流れる。機能層５３は、ここを流れる電流量に応じた輝度で発光する。

図４は、有機ＥＬ装置を構成する表示パネルの構造を示す模式断面図である。以下、表示パネルの構造を、図４を参照しながら説明する。なお、構成をわかりやすく示すため、各構成要素の層厚や寸法の比率、角度等は適宜異ならせてある。

図４に示すように、本実施形態における表示パネル１２は、機能層５３で発する光を陰極５２側から射出させる、いわゆるトップエミッション構造である。この表示パネル１２は、素子基板３１と、素子基板３１に対向配置された封止基板３２とを有する。

素子基板３１としては、ガラス基板等が挙げられる。本実施形態では、素子基板３１の材料として無アルカリガラスを用いている。素子基板３１の厚さは、例えば、１０μｍ〜１００μｍ程度である。また、強度と柔軟性とのバランスを考慮すると、２０μｍ〜８０μｍの範囲内とすることがより好ましい。本実施形態では、素子基板３１は、材料として厚さが、例えば、０．３ｍｍ〜０．７ｍｍ程度のガラス基板を用い、封止基板３２と接着された後にエッチングにより上述の厚さに加工される。

なお、表示パネル１２がトップエミッション型であることから、素子基板３１の材料として、光透過性を有する材料および光透過性を有していない材料のいずれを用いてもよい。

素子基板３１上には、回路素子層６１が設けられている。回路素子層６１は、下地保護膜（図示せず）やＴＦＴ素子４８、配線等を含んでいる。ＴＦＴ素子４８は、画素１４に対応して設けられている。

回路素子層６１上には、平坦化層６２が設けられている。平坦化層６２は、ＴＦＴ素子４８や配線等による表面の凹凸を緩和している。平坦化層６２には、陽極５１に平面的に重なるように、反射層６３が内装されている。反射層６３は、光反射性を有する金属材料等からなり、例えばアルミニウム合金等からなる。

平坦化層６２上には、陽極５１が設けられている。陽極５１は、例えば、ＩＴＯ（Indium Thin Oxide：インジウム錫酸化物）等の光透過性を有する金属酸化物導電膜からなる。陽極５１の材料は、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）（登録商標）であってもよい。陽極５１は、画素１４毎に回路素子層６１のＴＦＴ素子４８のドレイン端子と電気的に接続されている。

なお、表示パネル１２がトップエミッション型であることから、陽極５１の材料は必ずしも光透過性を有していなくてもよい。例えば、アルミニウム等からなる金属電極を用いるようにしてもよい。また、陽極５１の材料として光透過性を有していない材料を用いる場合は、反射層６３は設けなくてよい。

また、平坦化層６２上には、隔壁６４が設けられている。隔壁６４は、例えば、アクリル樹脂等からなり、画素１４の領域を区画している。

陽極５１及び隔壁６４上には、機能層５３が設けられている。本実施形態の機能層５３は、正孔注入層と、正孔輸送層と、発光層と、電子輸送層とが順に積層されて構成されている（図４では、１層で図示）。正孔注入層は、例えば、トリアリールアミン（ＡＴＰ）多量体で形成されている。正孔輸送層は、例えば、トリフェニルアミン誘導体（ＴＰＤ）で形成されている。

発光層の発光色は白色である。白色発光材料としては、スチリルアミン系発光材料、アントラセン系ドーパミント（青色）、あるいはスチリルアミン系発光材料、ルブレン系ドーパミント（黄色）等が用いられる。電子輸送層は、例えばアルミニウムキノリノール錯体（Ａｌｑ３）で形成されている。機能層５３の各層は、例えば、真空蒸着法を用いて順次形成される。

機能層５３上には、陰極５２が設けられている。陰極５２は、本実施形態のようにトップエミッション構造である場合、光透過性を有する材料である、例えば、ＩＴＯ等の透明導電材料が用いられる。また、陰極５２は、マグネシウムと銀との合金（Ｍｇ−Ａｇ合金）で構成するようにしてもよい。なお、陰極５２の下層に、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等からなる電子注入バッファー層が設けられていてもよい。

陰極５２及び隔壁６４上には、電極保護層６５が設けられている。電極保護層６５は、光透過性、密着性、耐水性、ガスバリアー性等を考慮して、例えば、珪素酸化物や珪素酸窒化物等の珪素化合物で構成される。また、電極保護層６５の厚さは１００ｎｍ以上が好ましく、隔壁６４を被覆することで発生する応力によるクラック発生を防ぐため、厚さの上限は２００ｎｍ以下とすることが好ましい。電極保護層６５は、ＰＶＤ（物理気相成長法）、ＣＶＤ（化学気相成長法）、またはイオンプレーティング法等を用いて形成される。

電極保護層６５上には、有機緩衝層６６が形成されている。この有機緩衝層６６は、隔壁６４の形状の影響により凹凸状に形成された電極保護層６５の凹凸部分を埋めるように設けられ、その上面は略平坦に形成される。

有機緩衝層６６としては、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂等からなる。有機緩衝層６６は、素子基板３１及び回路素子層６１等の反りや堆積膨張により発生する応力を緩和し、不安定な形状の隔壁６４から電極保護層６５が剥離することを防止する機能を有する。

また、有機緩衝層６６の上面が略平坦化されるので、有機緩衝層６６上に形成される硬い被膜からなる後述するガスバリアー層６７も平坦化される。したがって、応力が集中する部位がなくなり、これにより、ガスバリアー層６７でのクラックの発生を防止する。

有機緩衝層６６の厚さは、３μｍ〜５μｍ程度が好ましい。有機緩衝層６６は、例えば、真空スクリーン印刷法、スリットコート法、インクジェット法等を用いて形成される。

有機緩衝層６６上には、有機緩衝層６６を被覆し、かつ電極保護層６５の終端部まで覆うような広い範囲で、ガスバリアー層６７が形成されている。ガスバリアー層６７は、酸素や水分が浸入するのを防止するためのもので、これにより酸素や水分による有機ＥＬ素子２３の劣化等を抑えることができる。ガスバリアー層６７は、透明性、ガスバリアー性、耐水性を考慮して、好ましくは窒素を含む珪素化合物、すなわち珪素窒化物や珪素酸窒化物などによって形成される。

素子基板３１の有機ＥＬ素子２３が形成された面側、すなわちガスバリアー層６７が形成された面側には、封止基板３２が対向して配置されている。封止基板３２は、シール材２６および封止樹脂２５を介して、素子基板３１上のガスバリアー層６７と接着されている。封止基板３２は、例えば、光透過性を有する無機ガラスからなる。本実施形態では、封止基板３２の材料として無アルカリガラスを用いている。

封止基板３２の厚さは、例えば、１０μｍ〜１００μｍ程度である。また、強度と柔軟性とのバランスを考慮すると、２０μｍ〜８０μｍの範囲内とすることがより好ましい。表示パネル１２では、素子基板３１および封止基板３２に、プラスチック基板に比べてガスバリアー性の高いガラス基板を用い、これらのガラス基板の厚さを薄くすることにより可撓性が付与されている。

シール材２６は、素子基板３１と封止基板３２との間の非表示領域に配置され、封止基板３２の外周に沿って枠状に設けられている。シール材２６は、水分透過率が低い材料からなる。シール材２６の材料としては、例えば、エポキシ系樹脂に硬化剤として酸無水物を添加し、促進剤としてシランカップリング剤を添加した高接着性の接着剤を用いることができる。

封止樹脂２５は、素子基板３１と封止基板３２とシール材２６とで囲まれた領域に隙間なく充填されるように設けられている。封止樹脂２５は、例えば、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系等の光透光性の高い樹脂からなる。耐熱性や耐水性を考慮すると、封止樹脂２５の材料として、エポキシ系樹脂を用いることが好ましい。

カラーフィルター２４は、封止基板３２の有機ＥＬ素子２３側に設けられている。カラーフィルター２４は、赤色（Ｒ）光に対応するカラーフィルター２４Ｒと、緑色（Ｇ）光に対応するカラーフィルター２４Ｇと、青色（Ｂ）光に対応するカラーフィルター２４Ｂとを有している（対応する色を区別しない場合には単にカラーフィルター２４とも呼ぶ）。カラーフィルター２４は、平面視で有機ＥＬ素子２３に重なるように設けられている。

カラーフィルター２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂを区画するように、遮光層６８が設けられている。遮光層６８は、隔壁６４に対応するように配置されている。遮光層６８は、遮光性を有する材料からなり、例えばＣｒ（クロム）等からなる。なお、カラーフィルター２４と遮光層６８とを覆うように、オーバーコート層が設けられていてもよい。

表示パネル１２は、赤色光を射出する画素１４Ｒと、緑色光を射出する画素１４Ｇと、青色光を射出する画素１４Ｂとを有している（対応する色を区別しない場合には単に画素１４とも呼ぶ）。カラーフィルター２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂは、画素１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂに対応して配置されている。

有機ＥＬ素子２３により発せられる白色光がカラーフィルター２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂを透過することで、画素１４Ｒ，１４Ｇ，１４ＢにおいてＲ、Ｇ、Ｂの３つの異なる色の光が射出される。画素１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂから一つの画素群が構成され、それぞれの画素群において画素１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂのそれぞれの輝度を適宜変えることで、種々の色の表示を行うことができる。したがって、フルカラー表示またはフルカラー発光が可能な表示パネルを提供できる。

表示パネル１２では、機能層５３から陰極５２側に発せられた光は、観察側に射出される。また、機能層５３から陽極５１側に発せられた光は、反射層６３により反射されて、観察側に射出される。以下、ガラス（無アルカリガラス）で構成される素子基板３１や封止基板３２の限界の曲率を求めるための試験装置について説明する。

図５は、試験装置の構造を模式的に示す斜視図である。図６は、カバーを外した状態の試験装置を上方から見た模式平面図である。図７は、図６に示す試験装置をＡ方向から見た模式側面図である。以下、試験装置の構造を、図５〜図７を参照しながら説明する。

本実施形態の試験装置７１は、試験片７２をＵ字状に折り曲げていき、湾曲部７２ａに亀裂（クラック）が生じたとき（又は破壊したとき）の湾曲部７２ａの曲率を測定する装置である。

図５〜図７に示すように、試験装置７１は、第１平板７３と第２平板７４との間に試験片７２を挟み、第２平板７４を第１平板７３の方向に移動させて試験片７２を押し曲げ、試験片７２の湾曲部７２ａに亀裂が生じたときの湾曲部７２ａの曲率を求める装置である。このような試験装置７１は、第１平板７３と、第２平板７４と、移動機構７５と、筐体７６と、カバー７７とを有する。

第１平板７３は、試験片７２を押し曲げるために用いられ、動かないように筐体７６に固定されている。第２平板７４は、第１平板７３と平行となるように配置されている。また、第２平板７４は、第１平板７３と平行状態を維持したまま、第１平板７３に近づく方向、又は第１平板７３から離れる方向にスライド可能に設けられている。また、第１平板７３及び第２平板７４の幅Ｗ１は、試験片７２の幅Ｗ２より広くなっている。

また、第１平板７３及び第２平板７４の高さＨ１，Ｈ２は、試験片７２の長さの１／２以上になるようにする。これにより、試験片７２を押し曲げた際、試験片７２をＵ字状に曲げていくことが可能となる。言い換えれば、第１平板７３及び第２平板７４から試験片７２をはみ出さず、例えば、風船形状のように広がらずに曲げることができる。本実施形態では、Ｕ字状に曲げた試験片７２の湾曲部７２ａの曲率を求めるため、上記した構造とする。

移動機構７５は、第２平板７４を移動させるために用いられる。移動機構７５は、第２平板７４と回転可能に接続される丸棒状の支柱８１と、支柱８１を回転させるハンドル８２と、支柱８１を回転可能にガイドするガイド板８３とを有する。

具体的には、第２平板７４と支柱８１とは、ボールベアリング８４を介して回転可能に接続されている。ガイド板８３は、筐体７６に固定されている。また、支柱８１とガイド板８３とは、互いに形成されたネジ溝が組み合わさった、例えば、ボールネジ８５を利用して組み合わされている。

筐体７６は、試験装置７１の土台となる底板８６と、底板８６の載置面８６ｘと略垂直になるように底板８６の一辺に設けられた背面板８７とを有する。底板８６は、第１平板７３、ガイド板８３などが動かず確実に支持できる程度の厚みと重量を有する。

背面板８７には、第２平板７４を第１平板７３やガイド板８３の方向に移動させるためのガイドレール８８が設けられている。第２平板７４は、ガイドレール８８に沿って移動するスライド板８９ａ，８９ｂを介して、ガイドレール８８にスライド可能に支持されている。また、一方のスライド板８９ａには、スライド板８９ａが移動した距離、つまり、第２平板７４が移動した距離を測定する測定部を構成する計測器（図示せず）と、測定した値を表示するデジタルカウンター９１とが設けられている。また、試験装置７１における試験片７２の状態が確認できる部分には、目視にて確認してもよいが、試験片７２に亀裂が生じたことを確認するための判定部としての顕微鏡９２が備えられていてもよい（図７参照）。

また、底板８６には、破壊した場合の試験片７２を収容可能な収容皿９３が設けられている。これにより、試験装置７１の中に飛散した試験片７２の破片をすぐに片付けることができる。

図５に示すように、カバー７７は、筐体７６において開放されている部分を覆うように設けられている。具体的には、カバー７７は、底板８６に対して対向する位置に配置される上板７７ａと、上板７７ａと略直角になるように上板７７ａの一辺に設けられた（背面板８７に対して対向する位置に配置される）正面板７７ｂとを有する。なお、カバー７７は、直接目視あるいは顕微鏡９２を用いて試験片７２の状態を確認することができるように、上板７７ａの一部分７７ｃが透明な部材で構成されている。また、正面板７７ｂの一部分７７ｄも、透明な部材で構成されている。

以上のような構成によれば、筐体７６とカバー７７とが組み合わさることによって、試験片７２が露出しないようになっている。つまり、試験片７２を押し曲げて破壊した際に、試験片７２の破片が外部に飛び散らないような安全な構造となっている。

試験装置７１の動作としては、ハンドル８２を回すと、ガイド板８３に形成されたメネジに沿ってオネジが形成された支柱８１が回転し、支柱８１が第１平板７３の方向に接近する、又は離れる方向に移動する。そして、支柱８１の動作に追従して、支柱８１と接続された第２平板７４がスライド移動する。このような動作によって、試験片７２をＵ字状に押し曲げていくことができる。

なお、本実施形態の試験装置７１を用いて求める曲率とは、折り曲げられた試験片７２の湾曲部７２ａの半径値である。更に具体的には、試験片７２の厚みの半分の位置の半径値である。つまり、試験片７２に亀裂が生じたときの第１平板７３と第２平板７４との距離（間隔）から試験片７２の厚みを引いた値が、湾曲部７２ａの曲率となる。以下、上記した試験装置７１を用いて試験片７２の湾曲部７２ａの曲率を求める試験方法について説明する。

＜試験方法＞
図８〜図１０は、試験片の湾曲部の曲率を求める試験方法を工程順に示す模式側面図である。なお、図８〜図１０に示す試験装置７１は、カバー７７、ガイドレール８８、ボールネジ８５、収容皿９３等の図示は省略する。以下、試験方法を、図８〜図１０を参照しながら説明する。また、試験片７２の湾曲部７２ａの曲率を求める試験環境としては、常温（例えば、２０℃程度）、常湿（例えば、５０％程度）である。ただし、本実施形態のように、試験片７２がガラス基板の場合、試験環境によって影響を受ける可能性は少ないと考えられる。

まず、図８に示すように、試験片７２を試験装置７１にセットする（挟持工程）。最初に、試験装置７１の原点合わせを行う。まず、ハンドル８２を回して、第２平板７４を第１平板７３と密着させる。その後、スライド板８９ａに設けられたデジタルカウンター９１の表示をリセットして０にする。

次に、ハンドル８２を回して第２平板７４を第１平板７３から離す。そして、試験片７２を軽く押し曲げながら（湾曲させながら）第１平板７３と第２平板７４との距離（間隔）を調整し、試験片７２を第１平板７３と第２平板７４との間にセット（挟持）する。このとき、試験片７２がよじれないように、第１平板７３側に配置される試験片７２の一辺全体が底板８６（載置面８６ｘ）に接触するようにする。同じように、第２平板７４側に配置される試験片７２の一辺全体が底板８６（載置面８６ｘ）に接触するようにする。

次に、図９に示すように、第２平板７４を移動させて試験片７２を押し曲げていく（押し曲げ工程）。具体的には、少しずつハンドル８２を回して、第２平板７４を第１平板７３の方向にゆっくり所定の速度で近づける。これにより、折り曲げられた試験片７２の湾曲部７２ａの曲率が少しずつ小さくなっていく。また、顕微鏡９２（図７参照）で湾曲部７２ａの部分を見ながらハンドル８２を回し、試験片７２に亀裂９４（図１０参照）が生じたか否かを確認する。なお、顕微鏡９２を用いることなく、目視にて確認するようにしてもよい。また、第１平板７３及び第２平板７４の高さＨ１，Ｈ２が、試験片７２の長さの１／２以上に設定されているので、試験片７２をＵ字状に曲げていくことができる。

次に、図１０に示すように、試験片７２の湾曲部７２ａに亀裂９４が生じるまで第２平板７４を移動させる（押し曲げ工程、測定工程）。まず、上記と同様の手順で、直接目視あるいは顕微鏡９２を用いて試験片７２の湾曲部７２ａを確認しながら、第２平板７４を第１平板７３の方向にゆっくり近づける。そして、試験片７２の湾曲部７２ａの部分に亀裂９４が生じたとき（又は破壊したとき）、ハンドル８２の回転動作を停止する。次に、デジタルカウンター９１に表示された数値を読み取る。

曲率の求め方としては、まず、デジタルカウンター９１で表示された数値を１／２にする。更に、試験片７２の厚みの半分の部分の曲率を求めるので、板厚の半分の数値を差し引く。この数値が、試験片７２に亀裂９４が生じるときの湾曲部７２ａの曲率となる。以上により、試験片７２の限界の曲率（屈曲耐性）を求める試験方法が終了する。また、上記した試験方法を行うことにより、ＪＩＳ規格における３点曲げ試験や４点曲げ試験に相当する結果を得ることができる。

上記した方法では、素子基板３１及び封止基板３２に相当する試験片７２のみを押し曲げて試験しているが、これに限定されず、素子基板３１及び封止基板３２を含む表示パネル１２が樹脂フィルム２１，２２でラミネートされた有機ＥＬ装置１１を、上記した試験に適用するようにしてもよい。なお、有機ＥＬ装置１１に限定されず、例えば、液晶装置やプラズマディスプレイ等でもよい。また、有機ＥＬ装置１１等の表示装置に限定されず、太陽電池や二次電池等でもよい。

以上詳述したように、本実施形態によれば、以下に示す効果が得られる。

（１）本実施形態によれば、ハンドル８２を回して第２平板７４を第１平板７３の方向に少しずつ移動させていくことにより、第１平板７３と第２平板７４とに挟持された試験片７２を少しずつ連続的に押し曲げていくことができる。更に、第１平板７３及び第２平板７４の平面で押していくことにより、試験片７２をＵ字状に曲げることができる。そして、湾曲部７２ａに亀裂９４が生じたときの第１平板７３と第２平板７４との距離（間隔）を基に、試験片７２の限界の曲率を求めることができる。これにより、従来のように試験片７２を折り曲げるローラーを何種類も用意することなく、また、曲げ動作を繰り返し行わないので、早く高精度に限界の曲率を求めることができる。

（２）本実施形態によれば、第１平板７３及び第２平板７４の高さＨ１，Ｈ２が試験片７２の長さの１／２以上に設定されているので、試験片７２を押し曲げる際、試験片７２の湾曲部７２ａを除いた平な面全体を、第１平板７３及び第２平板７４で押圧することが可能となる。よって、試験片７２をＵ字状に折り曲げることができる。

なお、実施形態は上記に限定されず、以下のような形態で実施することもできる。

（変形例１）
上記したように、試験片７２の湾曲部７２ａに亀裂９４が生じたか否かを直接目視あるいは顕微鏡９２を用いて確認することに限定されず、例えば、図１１に示すように、照明装置９５を用いて確認するようにしてもよい。図１１は、試験装置の構造を示す模式側面図である。具体的には、試験装置７１にセットした試験片７２の一端７２ｂに、照明装置９５からの光９５ａを照射する。試験片７２の湾曲部７２ａに亀裂９４が生じていない場合、試験片７２の他端７２ｃから光９５ａが出力される。つまり、試験片７２の湾曲部７２ａから光９５ａが漏れない。

しかしながら、試験片７２の湾曲部７２ａに亀裂９４が生じている場合、亀裂９４が生じた部分から光９５ａが漏れ乱反射する。これにより、亀裂９４が生じているか否かを判定することが可能となる。以上のように、光９５ａを用いて判定するので、例えば、樹脂フィルム２１，２２でラミネートされた有機ＥＬ装置１１を曲げた場合のように、亀裂９４が生じたか否かを判断しづらい場合でも亀裂９４の有無を確認することができる。

（変形例２）
上記したように、試験片７２の湾曲部７２ａに亀裂９４が生じたか否かを直接目視あるいは顕微鏡９２を用いて確認することに限定されず、例えば、図１２に示すように、撮像装置を構成するモニター９６を用いて確認するようにしてもよい。図１２は、試験装置の構造を示す模式側面図である。具体的には、例えば、湾曲部７２ａの画像を撮影する撮像装置を構成するＣＣＤ（Charge Coupled Device）カメラ９７を備え、ＣＣＤカメラ９７で撮影された画像をモニター９６で表示する。これによれば、湾曲部７２ａの状態をモニター９６によって拡大して表示させることが可能となり、亀裂９４が生じたか否かを判断することができる。更に、モニター９６に表示させるので、複数の人によって亀裂９４の有無を確認することもできる。

（変形例３）
上記したように、湾曲部７２ａの曲率を求めることだけに限定されず、例えば、図１３に示すように、曲げ圧力も検出できるようにしてもよい。図１３は、試験装置の構造を示す模式側面図である。具体的には、第１平板７３又は第２平板７４のどちらかに圧力検出手段９８（圧力検出部）が設けられている。ここでは、第２平板７４に圧力検出手段９８が設けられているものとする。圧力検出手段９８としては、例えば、ひずみゲージ式のロードセルが挙げられる。これによれば、圧力検出手段９８を用いているので、亀裂９４が生じるときの曲率が求められることに加えて、亀裂９４が生じる際に必要な圧力（曲げ反発力）も参考に求めることができる。

（変形例４）
上記したように、試験片７２の端部（７２ｂ，７２ｃ：図１１参照）近傍を第２平板７４と底板８６との両方に接触させながら試験片７２を押し曲げることに代えて、図１４に示すように、第１平板７３ａ及び第２平板７４ａのみに接触させて押し曲げるようにしてもよい。図１４は、試験装置の構造を示す模式側面図である。具体的には、第２平板７４ａは、第１平板７３ａと平行に配置される部分と、底板８６ａと接触すると共に平行に配置される部分とを有する。そして、第２平板７４ａには、コーナーＰが形成されている。コーナーＰの角度は９０°である。また、第１平板７３ａ及び第２平板７４ａには、試験片７２の端部と接触する載置面８６ｙを有する。これによれば、試験片７２の端部が底板８６（８６ａ）を擦りながら曲げるのではなく、コーナーＰによって試験片７２の端部を支持し底板８６ａを擦らずに曲げるので、試験片に曲げ以外の力が加わることを防ぐことができる。よって、より正確な限界の曲率を求めることができる。

（変形例５）
上記したように、第１平板７３と第２平板７４との距離を確認するのに、スライド板８９ａに設けられたデジタルカウンター９１を用いることに限定されず、例えば、背面板８７にメジャーを配置して、移動した第２平板７４の位置を読み取るようにしてもよい。つまり、第２平板７４が目盛りを指示する役割を果たす。

（変形例６）
上記したように、試験片７２の湾曲部７２ａに亀裂９４が生じたか否かを直接目視あるいは顕微鏡９２を用いて確認することに限定されず、例えば、湾曲部７２ａに亀裂９４が生じたときに発する音で確認するようにしてもよい。具体的には、試験片７２の湾曲部７２ａの近傍にマイクが配置されており、このマイクを用いて亀裂９４が生じた音を確認する。これによれば、亀裂９４が生じた音を利用するので、目視や顕微鏡９２では確認しづらいような亀裂９４や、ラミネートされて確認しづらいような亀裂９４であっても判定することができる。また、音でなく、振動を検出して判定するようにしてもよい。

（変形例７）
上記したように、第１平板７３を固定し、第２平板７４を第１平板７３の方向に移動させることに限定されず、例えば、第２平板７４を固定し、第１平板７３を第２平板７４の方向に移動させるようにしてもよい。また、第１平板７３及び第２平板７４の両方を互いの方向に移動させるようにしてもよい。

（変形例８）
上記したように、ハンドル８２を回して手動で第１平板７３と第２平板７４とを近づけているが、この方法に限定されず、例えば、電動で第１平板７３や第２平板７４を移動させるようにしてもよい。また、音を検出するマイク（音検出部）と連動して、第２平板７４の移動をブレーキのような機構でロックするようにしてもよい。これによれば、音を検出した瞬間に第２平板７４がロックされるので、第２平板７４がずれる量を少なくすることができる。よって、曲率を求める精度を向上させることができる。なお、手動で第２平板７４を移動させる場合にも、上記したように、音検出部を備え第２平板７４をロックさせるようにしてもよい。

（変形例９）
上記したように、試験片７２の湾曲部７２ａに亀裂９４（又は破壊）が生じたか否かを判定して破壊限界を求めていたが、これに限定されず、例えば、上記した試験装置７１を用いて特性が変化する曲率を求めるようにしてもよい。特性の変化（特性変化）とは、例えば、折り曲げた試験片７２が元の状態に戻らない状態、言い換えれば、弾性変形から塑性変形に変わることである。

（変形例１０）
上記したように、試験片７２の湾曲部７２ａに亀裂９４が生じるような破壊限界を求めていたが、これに加えて故障限界を求めるようにしてもよい。故障限界とは、例えば、トランジスターの配線が切れてしまうことである。これによれば、試験片７２に相当する素子基板３１や封止基板３２が割れていなくても表示しないという不具合が発生する。そこで、破壊限界と故障限界の両方を求めることにより、限界の曲率を求めることができる。また、これに限定されず、消費電流を測定したり、太陽電池や二次電池のようなものであれば起電力を測定したりして、変動した点を故障と判定するようにしてもよい。

（変形例１１）
上記したように、試験片７２として素子基板３１や封止基板３２等のガラス基板を挙げているが、これに限定されず、プラスチック、積層材、金属板、厚紙、光ファイバー、ケーブルなどでもよい。棒状の試験片は、Ｖ溝などの保持機構を試験装置７１に設けることが望ましい。

１１…有機ＥＬ装置、１２…表示パネル、１３…表示部、１４，１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂ…画素、１５…表示領域、１６…端子部、１７ａ，１７ｂ，１７ｃ…中継基板、２１，２２…樹脂フィルム、２１ａ，２２ａ…基材フィルム、２１ｂ，２２ｂ…接着層、２３…有機ＥＬ素子、２４，２４Ｒ，２４Ｇ，２４Ｂ…カラーフィルター、２５…封止樹脂、２６…シール材、２７，２８…空間、２９…封止樹脂の一部、３１…素子基板、３１ａ…端子部、３２…封止基板、３３…異方性導電膜、３４，３５…中間接着層、４１…走査線、４２…信号線、４３…電源線、４４…信号線駆動回路、４５…走査線駆動回路、４６…スイッチング用ＴＦＴ、４７…保持容量、４８…ＴＦＴ素子、５１…陽極、５２…陰極、５３…機能層、６１…回路素子層、６２…平坦化層、６３…反射層、６４…隔壁、６５…電極保護層、６６…有機緩衝層、６７…ガスバリアー層、６８…遮光層、７１…試験装置、７２…試験片、７２ａ…湾曲部、７２ｂ…一端、７２ｃ…他端、７３，７３ａ…第１平板、７４，７４ａ…第２平板、７５…移動機構、７６…筐体、７７…カバー、７７ａ…上板、７７ｂ…正面板、７７ｃ，７７ｄ…一部分、８１…支柱、８２…ハンドル、８３…ガイド板、８４…ボールベアリング、８５…ボールネジ、８６，８６ａ…底板、８６ｘ，８６ｙ…載置面、８７…背面板、８８…ガイドレール、８９ａ，８９ｂ…スライド板、９１…測定部を構成するデジタルカウンター、９２…判定部としての顕微鏡、９３…収容皿、９４…亀裂、９５…照明装置、９５ａ…光、９６…撮像装置を構成するモニター、９７…撮像装置を構成するＣＣＤカメラ、９８…圧力検出手段（圧力検出部）。

Claims

試験片の屈曲耐性を求める試験装置であって、
前記試験片が載置される載置面と、
前記載置面に対して略垂直に配置されると共に、前記載置面の面上で互いに対向配置される第１平板及び第２平板と、
前記第１平板と前記第２平板とのうち少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させる移動機構と、
前記第１平板と前記第２平板との間隔を測定する測定部と、
を備えることを特徴とする試験装置。
請求項１に記載の試験装置であって、
前記第１平板及び前記第２平板の前記載置面からの高さは、前記試験片の長さの１／２以上であることを特徴とする試験装置。
請求項１又は請求項２に記載の試験装置であって、
前記第１平板は固定されており、
前記第１平板に対して前記第２平板を移動させることを特徴とする試験装置。
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の試験装置であって、
前記試験片の湾曲部に亀裂が生じたか否かを判定する判定部を有することを特徴とする試験装置。
請求項４に記載の試験装置であって、
前記判定部は、前記湾曲部に亀裂が生じた際に発する音を集音するマイクを備えることを特徴とする試験装置。
請求項４に記載の試験装置であって、
前記判定部は、前記試験片に光を照射する照明装置を備えることを特徴とする試験装置。
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の試験装置であって、
前記試験片の曲げ反発力を検出する圧力検出部を有することを特徴とする試験装置。
試験片の屈曲耐性を求める試験方法であって、
略平行に配置された第１平板と第２平板との間に前記試験片を挟持する挟持工程と、
前記第１平板と前記第２平板とのうち少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて前記試験片をＵ字状に押し曲げる押し曲げ工程と、
前記試験片の湾曲部に亀裂が生じたときの前記第１平板と前記第２平板との間隔を測定する測定工程と、
を有することを特徴とする試験方法。
請求項８に記載の試験方法であって、
前記押し曲げ工程は、前記第１平板と前記第２平板とのうち少なくとも一方を他方に対して所定の速度で相対的に移動させることを特徴とする試験方法。
請求項８又は請求項９に記載の試験方法であって、
前記押し曲げ工程は、前記湾曲部に生じる亀裂を目視で確認することを特徴とする試験方法。
請求項８又は請求項９に記載の試験方法であって、
前記押し曲げ工程は、前記湾曲部に生じる亀裂を音で確認することを特徴とする試験方法。
請求項８又は請求項９に記載の試験方法であって、
前記押し曲げ工程は、前記湾曲部に生じる亀裂を光学的に検出することを特徴とする試験方法。