JP2011019802A - X線ct装置 - Google Patents
X線ct装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011019802A JP2011019802A JP2009168737A JP2009168737A JP2011019802A JP 2011019802 A JP2011019802 A JP 2011019802A JP 2009168737 A JP2009168737 A JP 2009168737A JP 2009168737 A JP2009168737 A JP 2009168737A JP 2011019802 A JP2011019802 A JP 2011019802A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- focal point
- target
- projection data
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 28
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 238000013480 data collection Methods 0.000 claims description 17
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 12
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 claims description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract description 6
- 238000002591 computed tomography Methods 0.000 description 25
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 17
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 12
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 7
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
【解決手段】 X線管21のターゲット電極21tを固定型(非回転型)とし、X線を照射する際に、X線管21の電子ビーム70を電界や磁界により偏向してX線焦点fをターゲット電極21t上で移動させ、電子ビーム70が衝突するターゲット電極21t上の面積を実効的に増大させる。電子ビーム70の偏向は、例えば偏向電極に電圧を印加し、電界を形成して行う。そして、ビューごとのX線焦点fの位置を検出または推定により特定し、X線焦点fの移動を考慮した画像再構成を行う。
【選択図】 図5
Description
図1は、第一実施形態に係るX線CT装置の構成を概略的に示す図である。
beam)角の1/2をγmaxとするとき、以下の(数式5)から(数式10)のようになる。
ターゲット電極21tは、図19に示すように、電子ビームが衝突する面と反対側にX線を発生する、いわゆる透過型であってもよい。この場合、陰極フィラメント21kとターゲット電極21tとはyy方向にて相対向するように配置する。
第1〜第4の集束電極21a〜21dおよび第1〜第4の偏向電極21e〜21hのうち少なくも一部を、ハウジング21qの外側に設けてもよい。
X線焦点fの移動は、電子ビーム70を磁界により偏向して行ってもよい。
2 入力装置
3 中央処理装置
5 データ収集バッファ
6 モニタ
7 記憶装置
10 撮影テーブル
12 クレードル
15 回転部
20 走査ガントリ
20a 本体部
21 X線管
21a〜21d 第1〜第4の集束電極
21e〜21h 第1〜第4の偏向電極
21k 陰極フィラメント
21p 管
21q ハウジング
21r 支持部
21s 陰極スリーブ
21t ターゲット電極
22 X線コントローラ
23 コリメータ
23a,23b 遮蔽棒
23c,23d 遮蔽板
24 X線検出器
24a X線検出素子
25 DAS
26 回転部コントローラ
27 インタフェース部
29 制御コントローラ
30 スリップリング
31 冷却器
31a 冷媒
31h ホース
32 X線焦点位置検出部
32c 位置特定部
32d 2次元X線エリア検出部
32p ピンホール部
40 被検体
70 電子ビーム
81 X線ビーム
100 X線CT装置
B 開口部
f X線焦点
IC アイソセンタ
S スリット
σ 電子衝突面
Claims (9)
- 電子発生源とターゲットとを含み、前記電子発生源からの電子ビームが前記ターゲットに衝突して形成されるX線焦点からX線を発生するX線管と、該X線管と被検体を挟んで相対向して配置されるX線検出器と、前記X線管およびX線検出器を被検体の周りに回転させながらX線を前記被検体に照射して複数ビューの投影データを収集するデータ収集手段と、前記収集された投影データに基づいて逆投影処理により画像を再構成する画像再構成手段とを備えたX線CT装置であって、
前記複数ビューの各々におけるX線焦点の位置を特定する焦点位置特定手段をさらに備えており、
前記ターゲットは固定型であり、
前記データ収集手段は、前記電子ビームを偏向して前記X線焦点を前記ターゲット上で所定のパターンに従って移動させながら前記複数ビューの投影データを収集し、
前記画像再構成手段は、前記特定されたX線焦点の位置を用いて前記逆投影処理を行うX線CT装置。 - 前記所定の移動パターンは、前記ターゲット上を2次元的に移動するパターンである請求項1に記載のX線CT装置。
- 前記所定の移動パターン上で最も離れた位置同士の距離は、前記ターゲット上において2ミリメートル(mm)以上である請求項1または請求項2に記載のX線CT装置。
- 前記ターゲットを、冷媒を用いて冷却する冷却手段をさらに備えている請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のX線CT装置。
- 前記X線焦点の最小の幅は、前記ターゲット上において300ミクロン(μm)以下である請求項4に記載のX線CT装置。
- 前記焦点位置特定手段は、前記X線管からのX線の照射領域内に配置された所定のX線被照射体と、該X線被照射体の透過X線を検出してその投影データを得る検出部とを有しており、該投影データに基づいて前記X線焦点の位置を検出する請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のX線CT装置。
- 前記逆投影処理は、3次元逆投影処理である請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のX線CT装置。
- 前記ターゲットは、前記電子ビームが衝突する面と同じ側にX線を発生する請求項1から請求項7のいずれか一項に記載のX線CT装置。
- 前記ターゲットは、前記電子ビームが衝突する面と反対側にX線を発生する請求項1から請求項7のいずれか一項に記載のX線CT装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009168737A JP2011019802A (ja) | 2009-07-17 | 2009-07-17 | X線ct装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009168737A JP2011019802A (ja) | 2009-07-17 | 2009-07-17 | X線ct装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011019802A true JP2011019802A (ja) | 2011-02-03 |
Family
ID=43630394
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009168737A Pending JP2011019802A (ja) | 2009-07-17 | 2009-07-17 | X線ct装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011019802A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020115975A (ja) * | 2019-01-21 | 2020-08-06 | キヤノンメディカルシステムズ株式会社 | X線ct装置及び撮影計画装置 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05269122A (ja) * | 1992-03-26 | 1993-10-19 | Toshiba Corp | X線ct装置 |
JPH06233757A (ja) * | 1993-02-12 | 1994-08-23 | Hitachi Ltd | 3次元撮影装置 |
JPH1043173A (ja) * | 1996-05-09 | 1998-02-17 | Siemens Ag | X線コンピュータ断層撮影装置 |
JPH11504750A (ja) * | 1995-02-10 | 1999-04-27 | カーディアク・マリナーズ・インコーポレイテッド | X線源 |
JP2000048748A (ja) * | 1998-07-22 | 2000-02-18 | Siemens Ag | X線発生装置 |
JP2000060835A (ja) * | 1998-08-25 | 2000-02-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線画像検出装置 |
JP2000287960A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-17 | Analogic Corp | 縦方向フライング・フォーカルスポットを備えたコンピューター断層撮影スキャナー |
JP2002238885A (ja) * | 2001-02-02 | 2002-08-27 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | X線焦点位置制御方法及びそのプログラム並びにx線ct装置及びx線管 |
JP2005007182A (ja) * | 2003-06-19 | 2005-01-13 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | コンピュータ断層撮影システム用の一体形円弧状陽極x線源 |
JP2005296653A (ja) * | 2004-04-08 | 2005-10-27 | Siemens Ag | コンピュータ断層撮影装置によるコンピュータ断層撮影画像形成方法およびコンピュータ断層撮影装置 |
JP2007044391A (ja) * | 2005-08-12 | 2007-02-22 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | X線ct装置 |
WO2007148725A1 (ja) * | 2006-06-22 | 2007-12-27 | Tohoku University | X線ct装置及び同装置の画像再構成方法並びに画像再構成プログラム |
-
2009
- 2009-07-17 JP JP2009168737A patent/JP2011019802A/ja active Pending
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05269122A (ja) * | 1992-03-26 | 1993-10-19 | Toshiba Corp | X線ct装置 |
JPH06233757A (ja) * | 1993-02-12 | 1994-08-23 | Hitachi Ltd | 3次元撮影装置 |
JPH11504750A (ja) * | 1995-02-10 | 1999-04-27 | カーディアク・マリナーズ・インコーポレイテッド | X線源 |
JPH1043173A (ja) * | 1996-05-09 | 1998-02-17 | Siemens Ag | X線コンピュータ断層撮影装置 |
JP2000048748A (ja) * | 1998-07-22 | 2000-02-18 | Siemens Ag | X線発生装置 |
JP2000060835A (ja) * | 1998-08-25 | 2000-02-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線画像検出装置 |
JP2000287960A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-17 | Analogic Corp | 縦方向フライング・フォーカルスポットを備えたコンピューター断層撮影スキャナー |
JP2002238885A (ja) * | 2001-02-02 | 2002-08-27 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | X線焦点位置制御方法及びそのプログラム並びにx線ct装置及びx線管 |
JP2005007182A (ja) * | 2003-06-19 | 2005-01-13 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | コンピュータ断層撮影システム用の一体形円弧状陽極x線源 |
JP2005296653A (ja) * | 2004-04-08 | 2005-10-27 | Siemens Ag | コンピュータ断層撮影装置によるコンピュータ断層撮影画像形成方法およびコンピュータ断層撮影装置 |
JP2007044391A (ja) * | 2005-08-12 | 2007-02-22 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | X線ct装置 |
WO2007148725A1 (ja) * | 2006-06-22 | 2007-12-27 | Tohoku University | X線ct装置及び同装置の画像再構成方法並びに画像再構成プログラム |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020115975A (ja) * | 2019-01-21 | 2020-08-06 | キヤノンメディカルシステムズ株式会社 | X線ct装置及び撮影計画装置 |
JP7250532B2 (ja) | 2019-01-21 | 2023-04-03 | キヤノンメディカルシステムズ株式会社 | X線ct装置及び撮影計画装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4639143B2 (ja) | X線ct装置およびその制御方法 | |
EP2465131B1 (en) | X-ray tube with independent x- and z- dynamic focal spot deflection | |
JP4975347B2 (ja) | X線ct装置 | |
JP2007181623A (ja) | X線ct装置 | |
CN106510747B (zh) | 一种双源双探测器锥形束ct系统 | |
JP7114525B2 (ja) | 異なるエネルギーレベルおよび焦点スポット位置で撮像するように構成されたコンピュータ断層撮影システムおよび方法 | |
WO2013081062A1 (ja) | X線コンピュータ断層撮影装置 | |
JP2011005018A (ja) | X線ct装置 | |
JP2008012206A (ja) | X線断層撮影装置 | |
JP2004113785A (ja) | コンピュータ断層撮影法における画像形成方法およびこの方法を実施するためのct装置 | |
JP2009089810A (ja) | X線ct装置 | |
JP2010533356A (ja) | 放射線を測定するためのx線源 | |
JP5475830B2 (ja) | X線ct装置 | |
WO2014077287A1 (ja) | X線ct装置 | |
JP7224829B2 (ja) | 医用画像処理装置および方法 | |
JP2007175154A (ja) | X線ct装置 | |
JP5537520B2 (ja) | X線ct装置 | |
JP2011019802A (ja) | X線ct装置 | |
JP2007282740A (ja) | X線ct装置 | |
JP2012170736A (ja) | X線コンピュータ断層撮影装置 | |
JP5268406B2 (ja) | X線ctスキャナ及びx線管装置 | |
JP2008142389A (ja) | X線ct装置 | |
JP2011229605A (ja) | X線ct装置およびx線検出器 | |
JP5036915B2 (ja) | X線ct装置 | |
JP6750742B2 (ja) | 医用x線画像処理装置およびx線画像撮影装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A625 | Written request for application examination (by other person) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A625 Effective date: 20120523 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130516 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130520 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130816 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140407 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20141020 |