JP2004113785A - コンピュータ断層撮影法における画像形成方法およびこの方法を実施するためのct装置 - Google Patents

コンピュータ断層撮影法における画像形成方法およびこの方法を実施するためのct装置 Download PDF

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Abstract

【課題】画質の向上を可能にする画像形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも1つの焦点から出るビーム束と、ビーム束のビームを検出するための多数の分布配置された検出器要素を備えた平面構成の検出器アレイとにより被検体を走査するために、その少なくとも1つの焦点が、被検体に対して相対的に、被検体の周りを回転する少なくとも1つの焦点軌道の上で対向する検出器アレイと共に回転させられ、検出器アレイの検出器要素が被検体透過時のビームの減弱を表す出力データを供給し、出力データがフィルタ処理され、フィルタ処理された出力データは、スライス厚を有する被検体スライスの少なくとも1つの断層画像を発生させるために3次元に逆投影され、断層画像は被検体スライスに属するボクセルのビーム束の放射に対する、出力データから得られた吸収値を表わし、逆投影時に、ビームがビーム束内のビームの位置に関係して重み付けされる。
【選択図】図4

Description

 本発明は、被検体が焦点から出るビーム束および平面構成の検出器アレイにより走査され、被検体スライスの吸収値を表わす少なくとも1つの断層画像を得るために、求められた出力データが適切にフィルタ処理され逆投影されるコンピュータ断層撮影法における画像形成方法に関する。さらに、本発明はこの方法を実施するのに適したCT装置に関する。
 この種の方法は「3Dフィルタ補正逆投影」という概念で知られているが、しかしながらこの方法は、3D方法として、すなわちマトリックス状の検出器アレイと関係して、実際において十分とみなせる画質をもたらしていない。というのは、円錐形状のX線ビーム束(コーンビーム)のために所謂「コーンビームアーチファクト」が発生するからである。
 さらに、この方法には次の欠点がある。すなわち、僅かの寝台送りでスパイラル走査を行なった場合に多数回の照射によって同一のボクセルが生じるというように冗長データが利用されず、このために被検体に与えられた線量は画像形成に不完全にしか利用されない。
 さらに、画像再構成のための2D方法と関連して、暫定的な画像が、「2Dフィルタ補正逆投影」によって、画像再構成には十分でない焦点軌道部分に由来する出力データから数多く計算され、しかも暫定的な画像は第2ステップにおいてやっと最終的な断層画像に再構成されることを考慮しなければならない。この2D方法は、大きな幅を持った、すなわちシステム軸線方向に大きく広がりを持った検出器アレイに対しては殆ど使用できない。なぜならば、極めて多数の暫定画像が処理され、これ自体が使用できる計算パワーの多くを費やすことで問題であるからである。
 上述の方法のいずれの場合にも、被検体の走査の際に発生するデータ冗長性により画像アーチファクトが生じ、画質にマイナスの影響を及ぼす問題がある。
 本発明の課題は、画質の向上を可能にする冒頭に述べた形式の方法およびこの方法を実施するためのCT装置を提供することにある。
 この課題は請求項1および請求項14よって解決される。特別な実施態様は従属請求項から得られる。
 本発明者は、一方では、画像処理の際に、特にフィルタ処理されたデータの逆投影の際に、検査範囲におけるその都度の考察ボクセルに関して発生した冗長性を考慮することが必要であることを認識した。しかしながら、他方では、ビーム束のビームがどのような位置にあるかが考慮されなければならない。つまり、回転軸線方向へのビーム束の広がりに関して中央にあるビームが、画像形成時に、同じ広がりに関してビーム束の縁側にだけ位置するビームよりも強めに考慮されるならば、画質に決定的なプラスの作用が生じる。
 本発明者は、コンピュータ断層撮影法における画像形成方法において、
1.1)少なくとも1つの焦点から出るビーム束と、ビーム束のビームを検出するための複数の分布配置された検出器要素を備えた平面構成の検出器アレイとにより被検体を走査するために、少なくとも1つの焦点が、被検体に対して相対的に、被検体の周りを回転する少なくとも1つの焦点軌道上で対向する検出器アレイと共に回転させられ、検出器アレイの検出器要素が被検体透過時のビームの減弱を表す出力データを供給し、
1.2)出力データがフィルタ処理され、
1.3)フィルタ処理された出力データは、スライス厚を有する被検体スライスの少なくとも1つの断層画像を発生させるために3次元に逆投影され、断層画像は被検体スライスに属するボクセルのビーム束に対する、出力データから得られた吸収値を表わし、
1.4)逆投影時に、ビームがビーム束内のビームの位置に関係して重み付けされ
ことを提案する。
 本発明による方法の優れた実施態様では、焦点軌道におけるその都度の焦点位置に属する接線の方向にフィルタ処理が行なわれる。このフィルタ方向により特に高い画質を得ることができることが分かっている。このフィルタ方向の選択は、焦点軌道の接線方向にフィルタ処理されたデータを有する唯一の投影のみを含むように暫定画像の算出基礎となる焦点軌道の部分を非常に狭くするならば、先に述べた高画質を可能にする暫定画像に基づく2D法がいわば3D法に移行され、かかる3D法が2D法と同じ位良好な画質を可能にするという認識に基づいている。
 ビーム束が回転方向への広がりおよび回転軸線方向への広がりを有する場合、ビーム束において回転軸線方向へのビーム束の広がりに対して中央に位置するビームが、ビーム束において回転軸線方向へのビーム束の広がりに対して縁部付近に位置するビームよりも強く重み付けされると好ましい。
 本発明による方法は、フィルタ処理の前に、ファンビームジオメトリにおいてビームP(α,β,q)の形式で得られた出力データを、パラレルビームジオメトリにおいて存在するビームP(θ,β,q)(方位リビニング)の形式もしくはP(θ,p,q)(完全リビニング、すなわち方位および半径方向のリビニング)の形式の平行データに換算する場合に特に簡単に実施することができる。この場合に図3に関連して、
  α         焦点角
  β         ファン角
  q         z座標に対応する検出器システムの行インデックス
  θ=α+β     平行ファン角
  p=RFsin(β) 回転軸線(システム軸線)からの距離に対応する平行座標
  RF 焦点軌道の半径
である。
 平行データの逆投影は、本発明の優れた実施態様によれば、(x,y)を通ってシステム軸線に沿った投影を有するビームP(θ+kπ,β~,q)もしくはP(θ+kπ,p~,q)に関する各θ∈[0,π]についての各ボクセル(x,y,z)のための逆投影中に次の総和
Figure 2004113785
を形成するように行われる。但し、
 x,y,z  その都度のボクセルの座標、
 k      再構成において取り込まれた焦点半回転の回数に対応する整数、
 p~ その都度のボクセル(x,y,z)の座標(x,y)を通るシステム軸線に沿った投影を有するビームの平行座標(なお、p~は数式においてpの上に“〜”を付された符号を表す。以下同じ)、
 β~     その都度のボクセル(x,y,z)の座標(x,y)を通るシステム軸線に沿った投影を有するビームのファン角(なお、β~は数式においてβの上に“〜”を付された符号を表す。以下同じ)、
 h      発生した断層画像において表示された被検体スライスのスライス厚を決定する重み関数、
 d      その都度のビームの対応ボクセル(x,y)からの距離に等しいか、もしくはその都度のビームの対応ボクセル(x,y)からの距離に関係する関数、
 W      大きい平行ファン角θを有するビームを、小さい平行ファン角θを有するビームよりも小さく重み付けする重み関数、
である。
 その場合に、表記
Figure 2004113785
は、方位リビニングによって得られたビームについての総和形成、または完全リビニングによって得られたビームについての総和形成を選択的に行なうことができることを表わす。焦点軌道に対する接線方向のフィルタ処理は、方位リビニングの場合にはβ方向におけるフィルタ処理であり、完全リビニングの場合にはp方向におけるフィルタ処理である。
 kにわたってもqにわたっても合計することによって、同一のボクセルを通過するすべてのビームが考慮され、それにより被検体に照射された線量が完全に利用されることが保証される。
 特別に好ましい実施態様によれば、平行データの逆投影のために、重みhの総和H
Figure 2004113785
で基準化された総和
Figure 2004113785
が形成される。これはまたもや改善された画質を可能にする。なぜならば、その他のボクセルにおけるよりも多いビームが当たるボクセルの強調しすぎが取り除かれ、それにより相応のアーチファクトが避けられるからである。その都度のボクセルのCT値はθにわたる合計によって得られる。
 本発明によれば、重み関数は平行ファン角の関数W(θ+kπ)であり、特に、回転軸線方向またはz方向へのビームファンの広がりに関して中央ビームに対しては値1を有し、縁側ビームに対しては値0に向かう滑らかな関数である。
 検出器アレイが行状に配置された検出器要素を有する場合、重み付けは行番号の関数W(q)によって表わされ、この場合にも1つの中央に置かれた検出器行または複数の中央に置かれた検出器行によるビームに対しては高い値、とりわけ値1を有し、縁側に位置するビームに対しては値0に向かう滑らかな関数が使用され、例えばこれはcos2関数であってよい。
 本発明による方法は、例えば本発明の変形例に従って焦点軌道が円形軌道である場合(トモグラム走査)に適用することができる。しかしながら、本発明の好ましい変形例によれば、焦点軌道は、焦点が円形軌道上にてシステム軸線の周りを移動され同時にシステム軸線方向への焦点と被検体との間の相対運動が行われることによって生じるスパイラル軌道である。このスパイラル走査に基づいて被検体の大きなボリュームも問題なく検査することができる。
 トモグラム走査の場合、kについて、通常はk=1またはk=2が当てはまる。スパイラル走査の場合、kは、全回転当たりに行われるシステム軸線方向への相対的移動を考慮して、被検体の描画すべき範囲を完全に検出するように選択される。
 本発明の基本思想に従って本発明者は、少なくとも1つの焦点から出るビーム束と、ビーム束のビームを検出するための分布配置された複数の検出器要素を備えた平面構成の検出器アレイとを有し、被検体を走査するためのCT装置において、少なくとも1つの焦点が被検体に対して相対的に被検体の周りを回転する焦点軌道上で対向する検出器アレイとともに移動させられ、少なくとも、上述の方法を実施する検出器データの収集、フィルタ処理および逆投影を行うための手段が設けられることを提案する。
 以下において、添付図面に示された実施例を参照しながら本発明を更に詳細に説明する。図1は多数行の検出器要素を有するCT装置を斜視表示部分とブロック表示部分とを混在させて示し、図2は図1による装置の縦断面を示し、図3はリビニングの具体的な説明図を示し、図4は回転するガントリーにおいて対向する焦点と検出器によりビーム束にて走査する概略図を示し、図5は異なる重み関数の経過図を示し、図6は回転しながらz方向に移動させられるガントリーにおいて対向する焦点と検出器によりビーム束にて走査する概略図示す。
 図1および図2に本発明による方法を実施するのに適した第3世代のCT装置が示されている。測定装置が総括的に1で示され、X線ビーム源が総括的に2で示されている。測定装置1はX線ビーム源2と検出器システム5とを有する。X線ビーム源2は、これの前方に置かれた線源側のビーム絞り3(図2)を備えている。検出器システム5は、多数の行および列をなす検出器要素の平面形アレイとして構成されている。検出器要素のうちの1つが図1に4で示されている。検出器システム5はこれの前方に置かれた検出器側のビーム絞り6(図2)を備えている。図1においては、図の見易さのために8行の検出器要素4だけが示されている。しかしながら、検出器システム5は、図2に点で示されているように、検出器要素4の他の行を有する。
 一方におけるビーム絞り3を備えたX線ビーム源2と、他方におけるビーム絞り6を備えた検出器システム5とが、図2から分かるように、1つの回転フレーム7に互いに、CT装置の作動時にX線ビーム源2から出て可調整ビーム絞り3によって絞られたピラピッド状のX線ビーム束(これの縁部ビームが8で示されている。)が検出器システム5に当たるように取付けられている。その場合に、ビーム絞り6は、ビーム絞り3により調整されるX線ビーム束の横断面に対応して、X線ビーム束が直接当たる検出器システム5の範囲だけが露出されるように調整されている。これは、図1および図2に具体的に示されている作動様式においては、8つの行の検出器要素4であり、これらは以下において活性行と呼ばれる。点で示された他の行はビーム絞り6によって遮られており、従って活性になっていない。
 検出器要素4の各行はK個の検出器要素を有し、k=1〜Kはチャンネルインデックスであり、各検出器要素にはファン角βkが対応している。中央の検出器要素のファン角は0である。両側の最も外側の検出器要素のファン角はβ1=+βmaxおよびβk=−βmaxである。
 検出器要素4の活性行Lqは図2においてL1〜LQにて示され、q=1〜Qは行インデックスであり、図示の実施例の場合には、いわばz軸座標に相当する。
 X線ビーム束は、図1および図2に示されている円錐角φを有する。この円錐角φはシステム軸線Zおよび焦点Fを含んでいる平面におけるX線ビーム束の開き角度である。システム軸線Zに対して直角方向にあって焦点Fを含んでいる平面におけるビーム束の開き角度(ファン開き角)は2βmaxの大きさであり、図1に示されている。
 回転フレーム7は、駆動装置22により、Zを付されたシステム軸線の周りを回転させられる。システム軸線Zは図1に示されている空間直交座標系のz軸に平行に延びている。
 検出器システム5の列は同様にz軸方向に延びているのに対して、z軸方向に測って、例えば1mmの幅bを有する行は、システム軸線Zもしくはz軸に対して横方向に延びている。
 例えば患者である被検体をX線ビーム束のビーム路内に運び込むために、システム軸線Zに対して平行に移動可能な、すなわちz軸方向に移動可能な寝台装置9が設けられおり、回転フレーム7の回転運動と寝台装置9の並進運動との間における同期化は、並進速度と回転速度との比が一定であり、しかもこの比が回転フレームの1回転あたりの寝台装置9の送りvについて所望値を選択されることによって設定可能であるように考慮されている。
 従って、寝台装置9上に存在する被検体のボリュームをボリューム走査中に検査することができる。その場合、測定ユニット1の回転と寝台装置9の並進とを同時に行ないながら、測定ユニットの1回転当たりに多数の異なる投影方向からの投影を測定ユニットにより撮像することによって、ボリューム走査をスパイラル走査の形で行なうことができる。スパイラル走査の場合、X線ビーム源の焦点Fは、寝台装置9に対して相対的に、図1にSで示されているスパイラル軌道上を移動する。スパイラル走査は、検出器要素の1行当たり1つのCT画像の完全な再構成を可能にするためには、α方向に少なくともπ+2βmaxにわたって広がっていなければならないが、CT装置の技術的な限界内において任意にそれよりも長くすることができる。
 しかしながら、被検体のボリュームは、多数行の検出器要素4が存在するという事情により、測定ユニット1と寝台装置9との間におけるz軸方向の相対移動が行なわれない(v=0)所謂トモグラム走査中に検査することができる。従って、トモグラム走査の場合、検査すべきボリュームの大きさは検出器要素4の活性行の個数によって決定される。トモグラム走査中、焦点Fは、以下において中央平面と呼ぶ平面内にある円形焦点軌道上を移動する。
 トモグラム走査は部分回転の形か全回転の形で行なわれ、全回転が2πを含むのに対して、部分回転はCT画像の完全な再構成を可能にする少なくともπ+2βmax(半回転+ファン開き角)の部分回転インターバルを含む。
 スパイラル走査またはトモグラム走査中に検出器システム5の各活性行の検出器要素から並列に読み取られるファンビームジオメトリにおける個々の投影P(α,β,q)に相応する測定データは、ディジタル−アナログ変換のデータ処理ユニット10において処理され、シリアル変換されて画像コンピュータ11に伝送される。
 画像コンピュータ11の前処理ユニット12における測定データの前処理の後に、その結果として生じるデータストリームが断層画像再構成ユニット13に達する。断層画像再構成ユニット13は、測定データから、「フィルタ補正逆投影」を基本にした更に詳細に説明する本発明による方法に基づいて、被検体の所望スライスの断層画像を再構成する。
 CT画像は、マトリックス状に構成されているピクセル(Pixel=picture element)からなる。ピクセルはそれぞれの画像平面に割り付けられ、各ピクセルにはハウンズフィールド値(HU)でCT値が割り付けられ、個々のピクセルは、CT値/グレー値スケールに応じて、その都度のCT値に対応したグレー値にて表示される。その場合、各ピクセルは、CT画像において具体的に示されている被検体スライスのボクセル(Voxel=volume element)を具体的に示す。検出器システム5の多行構成および場合によってはスパイラル走査によって、被検体の多数のスライスに関する測定データが得られることから、本発明の枠内において3D逆投影を引き受ける3Dデータが使用できる。最終結果として、例えば軸x,y,zを持った3次元マトリクスの形の3Dデータが使用でき、マトリックスの各エレメントは、ボクセル(x,y,z)に相当し、付属のCT値に応じたグレー値を有する。3次元マトリックスのエレメントのうち同じx値、y値またはz値を有するエレメントは、それぞれ標準的なx値、y値またはz値に対応する被検体スライスの平面断層画像である。
 断層画像再構成ユニット13によって再構成された画像は、画像コンピュータ11に接続されている表示ユニット16、例えばモニタに表示される。
 X線ビーム源2、例えばX線管は、発電機ユニット17から必要な電圧および電流、例えば管電圧Uを供給される。管電圧Uをその都度必要な値に調整できるようにするために、発電機ユニット17にはキーボード19を備えた制御ユニット18が付設されており、この制御ユニットが必要な調整を行なう。
 CT装置のその他の操作および制御は制御ユニット18およびキーボード19により行なわれ、このことは制御ユニット18が画像コンピュータ11と接続されていることによって具体的に示されている。
 とりわけ、検出器要素4の活性行の個数Qおよびそれにともなうビーム絞り3,6の位置は調整可能であり、このために制御ユニット18はビーム絞り3,6に付設された操作ユニット20,21と接続されている。さらに、回転フレーム7が完全な回転のために必要とする回転時間τが設定可能であり、このことは、回転フレーム7に付設された駆動ユニット22が制御ユニット18と接続されていることによって具体的に示されている。
 本発明による方法はファンビームジオメトリにおいても実現することが基本的には可能であるにもかかわらず、上述のCT装置は、本発明による方法がパラレルビームジオメトリにおいて実現されているモードで作動される。
 それゆえに、その都度の検査にとって重要な患者身体範囲を走査する際に、ファンビームジオメトリにおけるスパイラル走査またはトモグラム走査によって得られるデータは、まず、公知のように、一般に「リビニング(rebinning;組み替え)」と呼ばれている方法によってパラレルビームジオメトリにおけるデータに変換される。この変換は、ファンビームジオメトリで撮影された種々異なる投影からビームを取り出してパラレルビームジオメトリにおける投影に組み立てるというファンビームジオメトリにおいて得られたデータの再分類に基づいている。パラレルビームジオメトリにおいては、完全な画像を再構成することができるために長さπの間隔からのデータで十分である。それにもかかわらず、これらのデータを得ることができるためには、ファンビームジオメトリにおいては長さπ+2βmaxの間隔からのデータが使用できなければならない。
 パラレルビームジオメトリにおける投影が図3に具体的に示されている。投影の全部でn個のパラレルビームRP1〜RPnは、図3に示され図1による座標系と一致する座標系のx軸に対して平行ファン角θを取る。
 次に、図3に太い実線で示されたパラレルビームRP1に基づいて、ファンビームジオメトリからパラレルビームジオメトリへの移行について説明する。
 パラレルビームRP1は、ファンビームジオメトリにおける焦点軌道S上にある焦点位置F1について得られる投影に由来する。図3には、ファンビームジオメトリにおいてこの投影に属し回転軸線14およびそれにともない座標系のz軸を通って延びる中央ビームRFZ1が同様に記入されている。焦点位置F1は焦点角α1に対応する。これは、x軸と中央ビームRFZ1とがなす角度である。中央ビームRFZ1に対して、パラレルビームRP1はファン角βを有する。従って、平行ファン角θにはθ=α+βが当てはまる。
 回転軸線14つまりz軸からそれぞれのパラレルビームに対して直角方向に測定されたビーム距離pは、p=RFsin(β)によって与えられる。
 図3に太い破線で示され回転軸線14つまりz軸を通って延びる中央ビームRPZにより明らかのように、このビームは、焦点FZのファンジオメトリにおいて、焦点角αZのもとで撮像されたファンビームジオメトリにおける投影の中央ビームである。ファンビームジオメトリにおいて撮像された投影の中央ビームについてβ=0が当てはまることから、中央ビームの場合について次が当てはまることが明らかである。
 方位リビニングまたは完全リビニングのいずれが実施されるかに応じて、平行投影が
   P(α,β,q)
の形式または
   P(θ,p,q)
の形式で存在する。但し、
  α         焦点角
  β         ファン角
  q         z座標に対応する検出器システムの行インデックス
  θ=α+β     平行ファン角
  p=RFsin(β) 回転軸線(システム軸線)からの距離に対応する平行座標
  RF 焦点軌道の半径
である。
 本発明による方法の第1の実施形態に相当するキーボード19により選択可能な第1の作動様式において、上述のCT装置は、方位リビニングによって得られる投影に基づいて動作する。これらの投影に対応するデータは、方位リビニングの場合には、β方向に、すなわちその都度における平行投影の中央ビームの焦点位置に属する接線T(図3参照)の方向にフィルタ処理される。そのフィルタ処理には、コンピュータ断層撮影法においては通例のフィルタ核、例えばシェフ・ローガン(Shepp−Logan)核またはRam−Lak(Ramachandran−Lakshminarayanan)核が用いられる。
 このようにフィルタ処理された平行データは、(x,y)を通りシステム軸線に沿った投影を有するビームP(θ+kπ,β~,q)に関する各θ∈[0,π]についての各ボクセル(x,y,z)のための逆投影中に次の総和Pxyz(θ)が形成されるように逆投影される。
Figure 2004113785
但し、
 x,y,z その都度のボクセルの座標、
 k     再構成において取り込まれた焦点半回転の回数に対応する整数、
 β~    その都度のボクセル(x,y,z)の座標(x,y)を通りシステム軸線に沿った投影を有するビームのファン角、
 h     発生した断層画像に示された被検体スライスのスライス厚を決定する重み関数、
 d     その都度のビームの対応ボクセル(x,y,z)からの距離に等しいか、もしくはその都度のビームの対応ボクセル(x,y,z)からの距離に関係する関数、
 W(q)  ビーム束において回転軸線方向への広がりに関して周辺または少なくとも中心から離れているビームを、中心配置されているビームよりも小さくおよび重み付けする重み関数、である。
 選択されたフィルタ方向によって、そしてkにわたってもqにもわっても合計することによって、一方ではコーンビームアーチファクトが避けられ、高い線量利用率の関心において1つのボクセル(x,y,z)を通過するすべてのビームが考慮されが、しかしながら付加的にビーム束内のビームの位置も相応の重み付けによって考慮される。
 1つのボクセルx,y,zに割り付けられた吸収値μx,y,zは、少なくとも1つの半回転にわたってのθにわたる合計によって
Figure 2004113785
の形成によって得られる。その都度の吸収値に相当するCT値は従来のように吸収値から求められる。
 その場合にキーボード19により種々の重み関数hおよび種々の関数dを設定することができる。
 重み関数hとしては、例えば三角関数または台形関数が適している。
 重み関数Wは投影角θの関数である。
 関数dとして、ボクセルV(x,y,z)からのその都度のパラレルビームの距離か、またはそのかわりにこの距離の例えばz成分(軸方向成分)を設定することができる。
 上述の第1の作動様式の変形例においては、平行データの逆投影のために、重みhの総和H
Figure 2004113785
で基準化された総和
Figure 2004113785
が形成される。これはまたもや改善された画質を可能にする。なぜならば、多数の半回転において「照射され」、すなわちビームが当たるボクセルの強調しすぎが取り除かれ、それにより相応のアーチファクトが避けられるからである。この冗長性は、スパイラル走査では、測定装置の全回転毎に行われる相対的送りが何回もボクセルが照射されるほど僅かである場合(ピッチが小さいとき)に生じる。
 本発明による方法の他の実施形態に相当する、キーボード19により選択可能な第2の作動様式は、第1の作動様式とは、既述のCT装置が方位リビニングではなく完全リビニングによって得られる投影に基づいて動作する点で異なっている。これらの投影に対応するデータは完全リビニングの場合にはp方向にフィルタ処理され、つまり、それぞれ同様にその都度の平行投影の中央ビームの焦点位置に属する接線Tの方向にフィルタ処理される(図3参照)。
 それゆえに、このようにフィルタ処理された平行データについては逆投中に合計
Figure 2004113785
が形成される。但し、p~は、その都度のボクセル(x,y,z)の座標(x,y)を通りシステム軸線に沿った投影を有するビームの投影座標である。
 第2の作動様式の場合にも、平行データの逆投影のための変形例において、重みhの総和H
Figure 2004113785
で基準化された総和
Figure 2004113785
が形成される。
 上述の第1および第2の作動様式の場合、1つのボクセル(x,y,z)に関係して、x,yを通り回転軸線14つまりz軸に沿っている投影を有するすべてのビームが考慮される本発明による動作態様が用いられる。これらのビームが考慮されるかどうか、そしてこれらのビームがどの程度考慮されるかは重み関数Wおよびhおよび関数dによって決められる。
 しかしながら、CT装置はキーボード19により選択可能な別の作動様式を持つことができ、この別の作動様式は次の違いを除いて既に述べた作動様式に対応する。すなわち、与えられた焦点位置についてその都度のボクセル(x,y,z)を通る理論上のビームが求められ、それから重み関数hおよび関数dの考慮のもとで、逆投影中における総和形成に、実際に総和に寄与するビームのみが取り入れられる。
 上記の実施例の場合には測定ユニット1と寝台装置9との間の相対移動がその都度寝台装置9の移動によって行なわれる。しかしながら、本発明の枠内において、寝台装置9を場所固定し、そのかわりに測定ユニット1を移動することも可能である。さらに、本発明の枠内において、必要な相対移動を測定ユニット1と寝台装置9との両方の移動によって行なうこともできる。
 図4には、2D表示におけるビームの重み付けの問題が簡単化されて概略的に示されている。この例では焦点および検出器を備えたCTガントリーが0°位置では実線で示され、z軸の周りに180°だけ回転させられた180°位置では点線で示されている。検出器は12個の検出器行L1〜L12を有する。これらの検出器行にはビーム束のビームS1〜S12が当たる。検出器の広がりに関する図示の空間的寸法関係は、本発明を分かり易く説明するために、誇張して表わしていることを指摘しておく。図示のガントリーは、ここでは円形軌道上にてz軸もしくはシステム軸線の周りを移動する。z軸方向の移動は行なわれない。
 ビーム束の中心にあるボクセルV2を考察するに、このボクセルはガントリーの両方の位置で中央にあるビームS4によって透過される。本発明によれば、これらのビームの測定は高く重み付けされる。同時に、0°位置では、ほぼ周辺にあるボクセルV1は0°位置において外側にあるビームS1によって透過され、そして、それより内側にあるビームS4によって透過される。本発明による重み付けに従って、ビームS1にはビームS4よりも弱い重み付けがなされる。同様に周辺に位置しているボクセルV3を考察するに、これについては重み付けが逆にされている。なぜならば、検出器は行および列にてマトリックス状に分布させられている検出器要素で構成されているために、ビームの重み付けは直接的に行番号qにつながっている。
 図5は重み付けWqの本発明による経過の3つの例を示す。すべてに共通なことは外側ビームに比べて中央ビームの方が強く重み付けされることである。関数はもちろん異なる。点線は中心から両側に直線状に降下する経過であり、破線は中央の大きな範囲にわたって同じ重み付けをもたらし周辺部では急降下する経過であり、実線は0と1の間の柔らかい移行を可能にする釣鐘形の経過を示す。
 図6はスパイラルCTのガントリーのビーム束をそれぞれ0°位置および隣接の180°位置にて示す。スパイラルCTの特質に従って、これらの位置は互いに回転に加えてz軸方向に移動される。この表示において、ボクセルV1は0°位置においても180°位置においてもビームS1によって透過される。この中央から離れたビームS1の位置もしくは検出器における外側の検出器行L1に従って、これらの両測定は低く評価される。これに対して、ボクセルV2は0°位置では中央から離れているビームS12によって透過され、このビームS12はこの0°位置ではボクセルV2に対して低く重み付けされるが、しかしながら180°位置では中央ビームS6によって透過され、このビームS6はこのボクセルV2に対して高く重み付けされる。0°位置および180°位置におけるビームS1の状態に従って、このビームS1はボクセルV1に関して両方とも低く評価される。全体としてここに示した付加的な重み付けWによって画質の著しい改善が生じる。
 円錐形X線ビーム束が既述の実施例の場合には矩形断面を有するが、しかしながら本発明の枠内におい幾何学的に他の形状の横断面も可能であることを指摘しておく。
 既述の実施例に関連して、第3世代のCT装置が使用され、すなわちX線ビーム源および検出器システムが画像発生中、共通にシステム軸線の周りを移動させられる。しかしながら、X線ビーム源のみがシステム軸線の周りを移動し固定の検出器リングと協働する第4世代のCT装置との関連においても、検出器システムが検出器要素の多数行アレイである限り、本発明を適用することができる。
 第5世代のCT装置、すなわちシステム軸線の周りを移動する1つまたは多数のX線ビーム源の1つのみの焦点のみならず多数の焦点からビームがでるCT装置の場合にも、検出器システムが検出器要素の多数行アレイである限り、本発明による方法を適用することができる。
 既述の実施例との関連で使用されるCT装置は、直交マトリックスに配置された検出器要素の形式による検出器システムを有する。しかしながら、本発明は、平面形に配置された検出器要素アレイを有する検出器システムを持つCT装置に関連しても適用可能である。
 以上に説明した実施例は本発明による方法の医療用途に関係する。しかしながら、本発明は医療以外にも、例えば手荷物検査または材料検査にも適用することができる。
多数行の検出器要素を有するCT装置の概略構成図 図1による装置の縦断面 リビニングの具体的な説明図 回転するガントリーにおいて対向する焦点と検出器によりビーム束にて走査する概略図 異なる重み関数の経過図 回転しながらz方向に移動させられるガントリーにおいて対向する焦点と検出器によりビーム束にて走査する概略図
符号の説明
 1        測定装置/測定ユニット
 2        X線ビーム源
 3        線源側ビーム絞り
 4        検出器要素
 5        検出器システム
 6        検出器側ビーム絞り
 7        回転フレーム
 8        縁部のビーム
 9        寝台装置
10        データ処理ユニット
11        画像コンピュータ
12        前処理ユニット
13        断層画像再構成ユニット
14        回転軸線
16        表示ユニット
17        発電機ユニット、
18        制御ユニット
19        制御ユニットのキーボード
20        操作ユニット
21        操作ユニット
22        駆動ユニット
Sx        ビーム
Lx        検出器行
Vx        ボクセル
F         焦点
Fx        焦点位置
S         スパイラル軌道
Z         システム軸線
U         管電圧
α         焦点角
β         ファン角
q         z座標の行インデックス
θ=α+β     平行ファン角
p=RFsin(β)回転軸線のビーム距離の平行座標
F        焦点軌道の半径
x,y,z ボクセル
k         再構成に取り込まれた焦点半回転の個数に応じた整数
p~        その都度のボクセルV(x,y,z)の座標(x,y)を通るシステム軸線に沿った投影を有するビームの平行座標
β~        その都度のボクセルV(x,y,z)の座標(x,y)を通るシステム軸線に沿った投影を有するビームのファン角
h         スライス厚を決定する重み関数
d         ボクセルのその都度のビームの距離の関数
W         X線ビームのビームの位置のための重み関数

Claims (15)

  1. 1.1)少なくとも1つの焦点から出るビーム束と、ビーム束のビームを検出するための複数の分布配置された検出器要素を備えた平面構成の検出器アレイとにより被検体を走査するために、少なくとも1つの焦点が、被検体に対して相対的に、被検体の周りを回転する少なくとも1つの焦点軌道上で対向する検出器アレイと共に回転させられ、検出器アレイの検出器要素が被検体透過時のビームの減弱を表す出力データを供給し、
    1.2)出力データがフィルタ処理され、
    1.3)フィルタ処理された出力データは、スライス厚を有する被検体スライスの少なくとも1つの断層画像を発生させるために3次元に逆投影され、断層画像は被検体スライスに属するボクセルのビーム束の放射に対する、出力データから得られた吸収値を表わし、
    1.4)逆投影時に、ビームがビーム束内のビームの位置に関係して重み付けされる
    ことを特徴とするコンピュータ断層撮影法における画像形成方法。
  2.  焦点軌道におけるその都度の焦点位置に属する接線の方向にフィルタ処理が行なわれることを特徴とする請求項1記載の方法。
  3.  ビーム束が回転方向への広がりおよび回転軸線方向への広がりを有し、ビーム束において回転軸線方向へのビーム束の広がりに対して中央に位置するビームが、ビーム束において回転軸線方向へのビーム束の広がりに対して縁部付近に位置するビームよりも強く重み付けされることを特徴とする請求項1又は2記載の方法。
  4.  フィルタ処理の前に、ファンビームジオメトリにおいてビームP(α,β,q)の形式で得られた出力データが、パラレルビームジオメトリにおいて存在するビームP(θ,β,q)もしくはP(θ,p,q)の形式の平行データへ換算される(但し、
      α         焦点角
      β         ファン角
      q         z座標に対応する検出器システムの行インデックス
      θ=α+β     平行ファン角
      p=RFsin(β) 回転軸線(システム軸線)からのビーム距離に対応する平行座標
      RF 焦点軌道の半径
    である)を特徴とする請求項1乃至3の1つに記載の方法。
  5.  平行データの逆投影は、(x,y)を通りシステム軸線に沿った投影を有するビームP(θ+kπ,β~,q)もしくはP(θ+kπ,p~,q)に関する各θ∈[0,π]についての各ボクセル(x,y,z)のための逆投影中に次の総和
    Figure 2004113785
    を形成するように行なわれる(但し、
     x,y,z  その都度のボクセルの座標、
     k      再構成において取り込まれた焦点半回転の回数に対応する整数、
     p~ その都度のボクセル(x,y,z)の座標(x,y)を通るシステム軸線に沿った投影を有するビームの平行座標(なお、p~は数式においてpの上に“〜”を付された符号を表す。以下同じ)、
     β~     その都度のボクセル(x,y,z)の座標(x,y)を通るシステム軸線に沿った投影を有するビームのファン角(なお、β~は数式においてβの上に“〜”を付された符号を表す。以下同じ)、
     h      発生した断層画像に示された被検体スライスのスライス厚を決定する重み関数、
     d      その都度のビームの対応ボクセル(x,y,z)からの距離に等しいか、もしくはその都度のビームの対応ボクセル(x,y,z)からの距離に関係する関数、
     W      大きい平行ファン角θを有するビームを、小さい平行ファン角θを有するビームよりも小さく重み付けする重み関数、
    である)ことを特徴とする請求項4記載の方法。
  6. 平行データの逆投影において、重みhの総和H
    Figure 2004113785
    で基準化された総和
    Figure 2004113785
    が形成されることを特徴とする請求項5記載の方法。
  7.  重み関数はW(θ+kπ)による平行ファン角の関数であること特徴とする請求項5又は6記載の方法。
  8.  重み関数W(θ+kπ)は、平行ファン角に関してビーム束内の中央に位置するビームについては1を有し、縁部に位置するビームについては0に向かう滑らかな関数であることを特徴とする請求項7記載の方法。
  9.  検出器アレイは行をなして配置された検出器要素を有し、重み関数は行番号の関数W(q)であることを特徴とする請求項4又は5記載の方法。
  10.  重み関数W(q)は中央にある少なくとも1つの検出器行へのビームについては値1を有し、縁部の検出器行へのビームについては0に向かう滑らかな関数であることを特徴とする請求項8記載の方法。
  11.  焦点軌道は円形軌道であることを特徴とする請求項1乃至9の1つに記載の方法。
  12.  焦点軌道は、焦点が円形軌道上でシステム軸線の周りを移動させられ同時にシステム軸線方向への焦点と被検体との間の相対移動が行なわれることによって生じるスパイラル軌道であることを特徴とする請求項1乃至9の1つに記載の方法。
  13.  検出器アレイにおける検出器要素は行および列に分布配置されて、特にマトリックス状に配置されていることを特徴とする請求項1乃至12の1つに記載の方法。
  14.  少なくとも1つの焦点から出るビーム束と、ビーム束のビームを検出するための分布配置された複数の検出器要素を備えた平面構成の検出器アレイとを有し、被検体を走査するためのCT装置において、少なくとも1つの焦点が被検体に対して相対的に被検体の周りを回転する少なくとも1つの焦点軌道上で対向する検出器アレイとともに移動させられ、少なくとも、請求項1乃至13の1つによる検出器データの収集、フィルタ処理および逆投影を行うための手段が設けられていることを特徴とするCT装置。
  15.  前記機能手段は少なくとも部分的にプログラムもしくはプログラムモジュールによって実現されていることを特徴とする請求項14記載のCT装置。
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