JP2011018676A - 半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】温度検出素子の温度検出素子の静電破壊に対する耐性の向上と、測定精度の向上させることができる半導体装置を提供すること
【解決手段】半導体装置100は、温度検出素子10と、一方の端子が温度検出素子10の電流入力端子に接続される抵抗器11とをそれぞれが備え、互いに並列に接続される複数の温度検出素子列12とを備える。また、複数の温度検出素子列12の抵抗器11の他方の端子が接続される第1の外部端子14を備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体装置に関し、特に半導体基板の温度を検出する温度検出素子を有する半導体装置に関する。
近年、半導体デバイスは様々な場面で使用されている。しかし、一般に半導体デバイスは熱に弱く、半導体基板の温度が半導体デバイスの動作速度に影響することや、半導体基板の温度上昇が半導体デバイスの寿命を短くすることなどが知られている。
そこで、非特許文献1に温度検出素子41と温度計測用IC(Integrated Circuit)40とを用いた温度計測方法が開示されている。この非特許文献1に開示されている温度計測装置のブロック図を図6に示す。図6に示すように、非特許文献1に開示される温度計測方法では、温度検出素子としてバイポーラトランジスタのエミッタ・ベース間に形成されるダイオードを用いる。ダイオードを用いた半導体装置の温度計測では、ダイオードの順方向バイアス電圧Vbeに基づき温度を計測する。この順方向バイアス電圧Vbeは、例えば(1)式で現される。なお、(1)式において、qは静電容量、kはボルツマン定数、Tは絶対温度、Iは順方向バイアス電流、Isは逆方向バイアス電流である。
Figure 2011018676
また、温度検出素子として、バイポーラトランジスタを用いた場合、絶対温度Tは、(2)式により求めることができる。なお、(2)式において、IE1は1回目の測定において任意に流した順方向バイアス電流、VM1は順方向バイアス電流をIE1としたときの順方向バイアス電圧、IE2は2回目の測定において任意に流した順方向バイアス電流、VM2は順方向バイアス電流をIE2としたときの順方向バイアス電圧、IE3は3回目の測定において任意に流した順方向バイアス電流、VM3は順方向バイアス電流をIE3としたときの順方向バイアス電圧である。
Figure 2011018676
この非特許文献1に記載の温度計測方法により、半導体デバイスの半導体基板温度を計測することができるが、図6に示す温度検出素子を半導体デバイス上に形成した場合、温度検出素子の各端子への接続ノードとして外部端子を半導体デバイス上に設ける必要がある。そこで、この外部端子を削減し、かつ、測定精度を向上させる方法が特許文献1に開示されている。
特許文献1に開示される温度検出素子の回路図を図7に示す。図7に示すように、特許文献1では、温度検出素子として2つのダイオードD1、D2を用いる。そして、ダイオードD1、D2は、接地端子30と計測端子31との間に互いに逆向きに接続される。このとき、半導体装置では、接地端子30とダイオードD1、D2との間、及び、計測端子31とダイオードD1、D2との間に配線抵抗32、33が形成される(特許文献1、段落0005)。ダイオードD1、D2のいずれかに順方向バイアス電流を流した場合、この配線抵抗32、33にも電流が流れるため、配線抵抗32、33で生じる電圧降下が測定誤差となる。とくに、接地端子30には大きな電流が流れることがあり、この電流により測定誤差が拡大する問題がある。そこで、特許文献1では、計測端子31から正の方向(ダイオードD1の順方向)の電流と負の方向(ダイオードD2の順方向)の電流とを入力し、ダイオードD1で生じる順方向バイアス電圧VfとダイオードD2の順方向バイアス電圧−Vfとの絶対値の和2Vfを算出する。特許文献1では、ダイオードD1、D2の順方向バイアス電圧の絶対値の和を算出することで配線抵抗32、33による測定誤差を回避しながら、測定端子の数を削減することができる。
特開平5−299487号公報
ANALOG DEVICES社 ADT7462カタログ
しかしながら、半導体基板上に温度検出素子を形成する場合、温度検出素子を静電破壊から保護するために静電破壊保護回路(以降、ESD(Electro-static discharge)保護回路と称す)を端子に設ける必要がある。そこで、温度検出素子が接続される外部端子にこのESD保護回路を設けたブロック図を図8に示す。この図8に示すブロック図は、ESD保護回路に起因する課題を説明するための図である。図8に示す例では、ESD保護回路53、54が設けられる。ESD保護回路53は、温度検出素子(例えば、ダイオード52)のアノード端子と外部端子50とを接続するノードと接地端子GNDとの間に設けられる。ESD保護回路54は、ダイオード52のカソード端子と外部端子51とを接続するノードと接地端子GNDとの間に設けられる。
そして、ダイオード52を用いて温度計測を行う場合、外部端子50から外部端子51に向かってダイオード52の順方向バイアス電流を流す。このとき、ダイオード52のアノード端子には1V程度の電圧が発生する。そのため、ESD保護回路53にはリーク電流55が流れる。そのため、ダイオード52を用いて温度を計測する計測装置は、外部端子51に、本来の順方向バイアス電流に加えてこのリーク電流55を出力する必要がある。つまり、リーク電流55は、測定誤差の原因となる。
非特許文献1及び特許文献1では、このESD保護回路53に流れるリーク電流55による測定誤差を回避する方法については何ら開示されていない。そのため、非特許文献1及び特許文献1では、このリーク電流55による測定誤差を回避することができない問題がある。
本発明にかかる半導体装置の一態様は、温度検出素子と、一方の端子が前記温度検出素子の電流入力端子に接続される抵抗器と、をそれぞれが備え、互いに並列に接続される複数の温度検出素子列と、前記複数の温度検出素子列の前記抵抗器の他方の端子が接続される第1の外部端子と、を有する。
本発明によれば、第1の外部端子に静電気が印加された場合には、温度検出素子と直列に接続された抵抗器が、ESD保護回路として機能することで、温度検出素子を静電破壊から保護する。つまり、本発明にかかる半導体装置は、温度検出素子の電流入力端子に対電源で接続されるESD保護回路を削除することで、ESD保護回路に流れるリーク電流を抑制して測定精度を向上させることができる。
また、温度計測時には、温度検出素子列が互いに並列に接続されているため、温度検出素子と直列に接続された抵抗器は互いに並列接続された状態となり、第1の外部端子から入力される電流に対して1つの抵抗器として機能する。そのため、温度計測時には、半導体装置の複数の抵抗器は、1つの抵抗器よりも低い抵抗値を有する1つの抵抗器として機能する。これにより、本発明にかかる半導体装置は、温度計測時において抵抗器で発生する電圧降下を抑制し、測定精度を向上させることができる。
本発明にかかる半導体装置によれば、温度検出素子の静電破壊に対する耐性の向上と、測定精度の向上とを実現することができる。
実施の形態1にかかる半導体装置1を上面視した場合における平面レイアウトの概略図である。 実施の形態1にかかる図1の半導体装置のII−II断面図である。 実施の形態1にかかる図1の半導体装置のIII−III断面図である。 実施の形態1にかかる半導体装置の等価回路図である。 背景技術にかかる静電破壊保護回路の図である。 背景技術にかかる温度計測用ICを温度測定回路に接続した図である。 背景技術にかかる温度測定回路の図である。 背景技術にかかる静電破壊保護回路を2つ備えた温度測定回路の図である。
実施の形態1.
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1に実施の形態1にかかる半導体装置100を上面視した場合における平面レイアウトの概略図を示す。当該半導体装置100を構成する各要素については、後に詳細に説明する。
図1に示すように、半導体装置100は、複数の温度検出素子列12と、入力ノード13と、第1の外部端子14と、出力ノード15と、第2の外部端子16と、ESD(Electro-static discharge)保護回路17と、を有する。また、温度検出素子列12は、それぞれ、温度検出素子10と、抵抗器11とを有する。なお、図1において各構成要素を接続する配線は、半導体基板上に形成される配線である。
温度検出素子列12は、温度検出素子10と、抵抗器11と、を有する。図1に示す例では、半導体装置100は、温度検出素子10を20個備える。そして、温度検出素子10は、4行×5列で配置される。一つの温度検出素子列12は、列方向に配置された4つの温度検出素子10を有する。また、一つの温度検出素子列12に含まれる複数の温度検出素子10は、互いに並列に接続される。抵抗器11は、予め設定された所定の抵抗値を有する。抵抗器11は、一方の端子が温度検出素子10の電流入力端子に接続される。また、抵抗器11の他方の端子は、入力ノード13において一つの配線に接続され、当該配線を介して第1の外部端子14に接続される。そして、複数の温度検出素子列12は、互いに並列接続されている。なお、温度検出素子は、一列に少なくとも一つ含まれていればよい。また、抵抗器11の他方の端子は、入力ノード13を介すことなく第1の外部端子14にそれぞれが接続されていても良い。
温度検出素子10は、温度特性を有する半導体素子であって、本実施の形態では、PNP型のバイポーラトランジスタを用いる。そして、本実施の形態では、PNP型トランジスタのエミッタ・ベース間に形成されるダイオード構造を温度検出素子10として用いる。そこで、以下の説明では、温度検出素子10のエミッタ端子を電流入力端子と称し、ベース端子を電流出力端子と称す。また、PNP型バイポーラトランジスタのエミッタ端子は、ダイオードのアノード端子に相当するものであり、ベース端子はダイオードのカソード端子に相当する。
また、温度検出素子10の電流出力端子は、出力ノード15において一つの配線と接続され、当該配線を介して第2の外部端子16と接続される。
第1の外部端子14、第2の外部端子16は、外部に設けられる他の回路と半導体装置100とを接続する端子である。第1の外部端子14は、他の回路が出力する電流が流れ込む端子である。また、第2の外部端子16は、他の回路に対して温度検出素子列12を流れる電流を出力する端子である。
ESD保護回路17は、回路の一端が、出力ノード15と第2の外部端子16とを電気的に接続する配線から分岐されるように接続される。また、ESD保護回路17の他端は接地端子GNDに接続される。
続いて、図1に示す概略図のII−IIで示す線に沿った半導体装置100の断面図を図2に示す。また、図1に示す概略図のIII−IIIで示す線に沿った半導体装置100の断面図を図3に示す。図2及び図3に示す断面図は、温度検出素子列12の断面構造を説明するためのものである。本実施の形態では、図2、図3に示すように、1つの温度検出素子の断面構造は、図2及び図3で実質的に同じである。そこで、以下の説明は、一つの温度検出素子の構造に着目して説明を行う。なお、図2、図3では、半導体基板上に形成され、各構成要素間を接続する配線については省略した。
温度検出素子10としてPNP型のバイポーラトランジスタを使用する場合、P型の半導体基板P−subの上層にP型の半導体で形成されるPウェル領域22を形成する。Pウェル領域22は、半導体基板P−subよりも不純物濃度が高く設定される。そして、Pウェル領域22の上層にN型の半導体で形成されるNウェル領域21が形成される。またNウェル領域21の上層にはP型半導体で形成されるP型拡散領域20が形成される。ここで、Pウェル領域22は、PNP型バイポーラトランジスタのコレクタとして機能する領域であり、Nウェル領域21は、PNP型バイポーラトランジスタのベースとして機能する領域であり、P型拡散領域20は、PNP型バイポーラトランジスタのエミッタとして機能する領域である。
続いて、図1に示した半導体装置100の等価回路図を図4に示す。図4に示すように、半導体装置100は、1つの温度検出素子列12において複数の温度検出素子10が並列接続している構成となっている。なお、図4では、PNP型バイポーラトランジスタを温度検出素子10とし、1つの温度検出素子列12が4つの温度検出素子10を含む。また、半導体装置100は、5つの温度検出素子列12を並列接続して用いる。なお、温度検出素子10を並列接続としているのは、静電気が印加された場合に、温度検出素子10にかかる電流成分を分散させて、温度検出素子10を静電破壊から保護するためである。
また、図4に示すように、各々のPNP型のバイポーラトランジスタは、エミッタ・ベース間に形成されているダイオード構造を、温度検出素子10として利用する。この場合、電流入力端子はエミッタであり、電流出力端子はベース端子であり、コレクタは接地端子と接続される。
なお、PNP型のバイポーラトランジスタに代わり、NPN型のバイポーラトランジスタを用いても良い。この場合、電流入力端子はベースであり、電流出力端子はエミッタ端子であり、コレクタは電源端子と接続される。また、PNP型のバイポーラトランジスタに代わり、ダイオードを温度検出素子10として使用することができる。この場合、電流入力端子はダイオードのアノード端子であり、電流出力端子はダイオードのカソード端子である。
また、図4に示すように、抵抗器11は、各温度検出素子列12においては温度検出素子10と直列に接続される。また、各温度検出素子列12に含まれる抵抗器11は、複数の温度検出素子列間で互いに並列に接続される形態となる。
図4に示す例では、PNP型バイポーラトランジスタのベースが出力ノード15において一つに接続される。そして、出力ノード15は配線を介して第2の外部端子16に接続される。出力ノード15と第2の外部端子16とを接続する配線と接地端子GNDとの間にはESD保護回路17が設けられる。
次に、ESD保護回路17の詳細について説明する。ESD保護回路17の回路図を図5に示す。図5に示すように、ESD保護回路17は、端子60と、ダイオード61と、PNP型バイポーラトランジスタ62を有している。端子60は、出力ノード15と第2の外部端子16とを接続する配線と接続される端子である。ダイオード61は、アノードが接地端子GNDに接続され、カソードが端子60に接続される。PNP型バイポーラトランジスタ62は、図5に示す回路では3つ用いられる。このPNP型バイポーラトランジスタは、エミッタ・ベース間に形成されるダイオードがESD保護素子として用いられる。そのため、PNP型バイポーラトランジスタ62のコレクタは接地端子GNDに接続される。3つのPNP型バイポーラトランジスタ62は、エミッタとベースとが直列に接続される。つまり、ESD保護回路17は、端子60から接地端子GNDに向かって逆方向に接続されるダイオード61と、端子60から接地端子GNDに向かって順方向に接続される3つのダイオードと、により構成される。この構成によりESD保護回路17は、第2の外部端子16側から入力される静電気から温度検出素子10を保護する。
続いて、温度検出素子列12を利用した実施の形態1にかかる半導体装置100の動作について説明する。
まず、第1の外部端子14に静電気が印加された場合の動作について説明する。この場合、温度検出素子10と直列に接続された抵抗器11が、ESD保護回路として機能する。静電気は、非常に短いパルス状(例えば、μsecオーダーのパルス状波形)の電圧又は電流である。そのため、各抵抗器11は、対応する温度検出素子10に直列に接続された抵抗としてそれぞれ機能する。そして、本実施の形態では、抵抗器11の抵抗値を高く(例えば、数kΩ)設定する。これにより、各温度検出素子10に流れる静電気に起因する電流を小さくし、温度検出素子10を静電破壊から保護する。また、本実施の形態では、温度検出素子10が互いに並列接続されるため、抵抗器11を介して温度検出素子10に印加された電流が温度検出素子間で分散され、さらに静電破壊に対する耐性を向上させる。
次いで、第2の外部端子16に静電気が印加された場合の動作について説明する。この場合、第2の外部端子16側に設けられたESD保護回路17が静電気に起因する電流を接地端子GNDに迂回させ、かつ、温度検出素子10に印加される電圧を低減する。
次いで、温度検出素子列12を用いて温度計測を行う場合の動作について説明する。この場合、抵抗器11は、互いに並列に接続された抵抗として機能する。そのため、外部に接続された他の回路(例えば、温度計測用IC)に対して複数の抵抗器11の合成抵抗は、1つの抵抗器により実現される抵抗値よりも低い値となる。従って、温度計測用ICは、温度計測に当たり、複数の温度検出素子列12に測定用電流を流すが、この測定用電流により複数の抵抗器11が発生させる電圧が測定に与える影響が小さくなる。例えば、抵抗器11の個々の抵抗値を1kΩとした場合、図1又は図4に示す例では、複数の抵抗器11の合成抵抗は200Ωとなる。これにより、本発明にかかる半導体装置100は、温度計測時において抵抗器11で発生する電圧降下を抑制し、測定精度が向上する。
なお、半導体装置100を用いた温度測定は、温度検出素子10に印加した電圧があるしきい電圧以上になると、流れる電流が急に増加する特性と、温度の変化によって、しきい電圧が変化する特性を利用することで行う。典型的には、温度検出素子10に一定の順方向バイアス電流を流して温度検出素子10の両端の順方向バイアス電圧を測定し、(1)式を利用して温度を算出する。または、順方向バイアス電流を変えながら、順方向バイアス電圧の測定を3回行い、(2)式を利用して温度を算出する。
以上で説明した実施の形態1にかかる半導体装置100によれば、図8に示すESD保護回路17に変えて抵抗器11により温度検出素子10を静電破壊から保護する。これにより、温度計測時に所定の電圧が発生する温度計測素子のアノード側に測定誤差の原因となるリーク電流の経路が削除され、当該リーク電流による測定誤差をなくすことができる。第2の外部端子16に設けられるESD保護回路17については、測定時に接地電圧等の低い電圧が与えられるため、リーク電流は発生しない。したがって、第2の外部端子16側では、リーク電流による誤差は発生しない。さらに、温度検出素子列12を並列接続することにより、温度測定を行う際の半導体装置100の測定電流が流れる経路の合成抵抗値を低減し、温度計測用ICの測定精度を確保することができる。
なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。
10 温度検出素子
11 抵抗器
12 温度検出素子列
13 入力ノード
14 第1の外部端子
15 出力ノード
16 第2の外部端子
17 ESD保護回路
20 P型拡散領域
21 Nウェル領域
22 Pウェル領域
30 接地端子
31 計測端子
32、33 配線抵抗
35 温度測定回路
36 半導体集積回路
40 温度計測用IC
41 温度検出素子
50、51 外部端子
52 ダイオード
53、54 ESD保護回路
55 リーク電流
60 端子
61 ダイオード
62 PNP型バイポーラトランジスタ
100 半導体装置
D1、D2 ダイオード

Claims (6)

  1. 温度検出素子と、一方の端子が前記温度検出素子の電流入力端子に接続される抵抗器と、をそれぞれが備え、互いに並列に接続される複数の温度検出素子列と、
    前記複数の温度検出素子列の前記抵抗器の他方の端子が接続される第1の外部端子と、
    を有する半導体装置。
  2. 前記温度検出素子は、並列に接続される複数の温度検出素子により構成される請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記複数の温度検出素子列の前記温度検出素子の電流出力端子が互いに接続される出力ノードと、前記出力ノードに接続される第2の外部端子と、前記出力ノードと電源端子との間に接続される静電破壊保護回路と、
    を有する請求項1又は2に記載の半導体装置。
  4. 前記温度検出素子はダイオードであり、前記電流入力端子は前記ダイオードのアノード端子であり、前記電流出力端子は前記ダイオードのカソード端子である請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置。
  5. 前記温度検出素子はPNP型バイポーラトランジスタであり、前記電流入力端子は前記バイポーラトランジスタのエミッタであり、前記電流出力端子は前記バイポーラトランジスタのベース端子であり、前記バイポーラトランジスタのコレクタは接地端子と接続される請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置。
  6. 前記温度検出素子はNPN型バイポーラトランジスタであり、前記電流入力端子は前記バイポーラトランジスタのベースであり、前記電流出力端子は前記バイポーラトランジスタのエミッタ端子であり、前記バイポーラトランジスタのコレクタは電源端子と接続される請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置。
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