JP2011014823A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009159656A JP5393298B2 (ja) | 2009-07-06 | 2009-07-06 | マスクケース |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009159656A JP5393298B2 (ja) | 2009-07-06 | 2009-07-06 | マスクケース |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011014823A JP2011014823A (ja) | 2011-01-20 |
JP2011014823A5 true JP2011014823A5 (zh) | 2012-06-14 |
JP5393298B2 JP5393298B2 (ja) | 2014-01-22 |
Family
ID=43593409
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009159656A Active JP5393298B2 (ja) | 2009-07-06 | 2009-07-06 | マスクケース |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5393298B2 (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102789132B (zh) * | 2011-01-28 | 2014-07-16 | 家登精密工业股份有限公司 | 具有固定结构的极紫外光光罩储存传送盒 |
JP6107305B2 (ja) * | 2013-03-27 | 2017-04-05 | 大日本印刷株式会社 | ケースの洗浄方法およびケースの洗浄装置 |
US10670976B2 (en) * | 2017-01-25 | 2020-06-02 | Gudeng Precision Industrial Co., Ltd | EUV reticle pod |
CN113451223B (zh) * | 2021-08-31 | 2021-11-19 | 山东普利斯林智能仪表有限公司 | 一种用于半导体基板的封装机构及封装方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH036915Y2 (zh) * | 1986-03-07 | 1991-02-21 | ||
JPH0754136Y2 (ja) * | 1989-04-28 | 1995-12-13 | 旭化成工業株式会社 | 包装体 |
JP2506317Y2 (ja) * | 1989-12-14 | 1996-08-07 | 信越ポリマー株式会社 | マスク収納容器 |
JP3193567B2 (ja) * | 1994-04-27 | 2001-07-30 | キヤノン株式会社 | 基板収容容器 |
JP3893642B2 (ja) * | 1996-07-25 | 2007-03-14 | 凸版印刷株式会社 | マスク用収納容器 |
JP3755580B2 (ja) * | 2000-11-21 | 2006-03-15 | 信越ポリマー株式会社 | 容器の梱包体及び容器の緩衝体 |
JP2004119566A (ja) * | 2002-09-25 | 2004-04-15 | Toppan Printing Co Ltd | マスクケース |
JP2005351935A (ja) * | 2004-06-08 | 2005-12-22 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスクあるいはフォトマスクブランクスを収納する容器 |
JP4581681B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2010-11-17 | 株式会社ニコン | レチクル保護装置および露光装置 |
US7528936B2 (en) * | 2005-02-27 | 2009-05-05 | Entegris, Inc. | Substrate container with pressure equalization |
US7400383B2 (en) * | 2005-04-04 | 2008-07-15 | Entegris, Inc. | Environmental control in a reticle SMIF pod |
JP2006330421A (ja) * | 2005-05-27 | 2006-12-07 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスクケース |
JP2007057624A (ja) * | 2005-08-23 | 2007-03-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レチクル収納ケース |
JP2007141925A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Nikon Corp | マスク収容容器、露光装置 |
JP4519777B2 (ja) * | 2006-01-23 | 2010-08-04 | 信越ポリマー株式会社 | 梱包用緩衝体および包装体 |
JP4773216B2 (ja) * | 2006-01-30 | 2011-09-14 | Hoya株式会社 | 基板の搬送方法 |
TWI384322B (zh) * | 2008-08-07 | 2013-02-01 | Gudeng Prec Industral Co Ltd | 光罩盒之承載盒及其緩衝定位裝置 |
-
2009
- 2009-07-06 JP JP2009159656A patent/JP5393298B2/ja active Active
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