JP2011007933A - ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル - Google Patents
ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011007933A JP2011007933A JP2009149775A JP2009149775A JP2011007933A JP 2011007933 A JP2011007933 A JP 2011007933A JP 2009149775 A JP2009149775 A JP 2009149775A JP 2009149775 A JP2009149775 A JP 2009149775A JP 2011007933 A JP2011007933 A JP 2011007933A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- pellicle frame
- frame
- mask
- flatness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
- H01L21/0274—Photolithographic processes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
Abstract
【解決手段】ペリクルフレームバーの断面が、上辺及び下辺が平行で面積が20mm2以下の四辺形の少なくとも一つの側辺に少なくとも一つの三角形状の窪みを有した形状であることを特徴とするペリクルフレーム、並びに、前記ペリクルフレームの一端面にペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が張設され、他端面に露光原版接着剤を設けたリソグラフィ用ペリクル。
【選択図】図2
Description
ペリクルは、露光原版の表面に形成されたパターン領域を囲むように設置される。ペリクルは、露光原版上にゴミが付着することを防止するために設けられるものであるから、このパターン領域とペリクル外部とはペリクル外部の塵埃がパターン面に付着しないように隔離されている。
ペリクル貼り付けによるマスク平坦度の変化の要因は、幾つかあるが、一番大きな要因は、ペリクルフレームの平坦度であることが分かってきた。
マスクが変形した場合、マスクの平坦度が悪くなる場合があり、その場合露光装置内でデフォーカスの問題が発生する。一方でマスクが変形して平坦度が良くなる場合もあるが、この場合でもマスク表面に形成されたパターンが歪み、その結果露光したときにウエハに転写されたパターン像が歪んでしまうという問題が発生する。このパターンの歪みはマスクの平坦度が悪くなる場合も発生するので、結局ペリクルを貼り付けることによりマスクが変形する場合は、必ずパターン像が歪んでしまうという問題が発生する。
本発明が解決しようとする課題は、第2に、このようなペリクルフレームを有するリソグラフィ用ペリクルを提供することである。
(1)ペリクルフレームバーの断面が、上辺及び下辺が平行で面積が20mm2以下の四辺形の少なくとも一つの側辺に少なくとも一つの三角形状の窪みを有した形状であることを特徴とするペリクルフレーム、
(2)前記四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一つが前記上辺と平行な辺を有した三角形である、(1)に記載のペリクルフレーム、
(3)前記四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一つが、その頂点を前記長方形の内側に置いた二等辺三角形である、(1)に記載のペリクルフレーム、
(4)両側辺に1つずつ前記窪みを有し、一方の窪みの先端を通過して上辺と直交する直線が他方の窪みを横断する、(1)〜(3)いずれか1つに記載のペリクルフレーム、
(5)前記ペリクルフレームバーの断面積が6mm2以下である、(1)〜(4)いずれか1つに記載のペリクルフレーム、
(6)ヤング率が1〜80GPaである材料で構成された、(1)〜(5)いずれか1つに記載のペリクルフレーム、
(7)アルミニウム合金で構成された、(1)〜(6)いずれか1つに記載のペリクルフレーム、
(8)ペリクルフレームの平坦度が20μm以下である、(1)〜(7)いずれか1つに記載のペリクルフレーム、
(9)(1)〜(8)いずれか1つに記載のペリクルフレームの一端面にペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が張設され、他端面に露光原版接着剤を設けたリソグラフィ用ペリクル。
また、本発明のリソグラフィ用ペリクル(以下、単に「ペリクル」ともいう。)は、前記ペリクルフレームの一端面にペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が張設され、他端面に露光原版接着剤を設けたものである。
図1及び図2を参照しながら、本発明のペリクルフレーム及びペリクルの概要を説明する。
ペリクルフレームには、ジグ穴を設けてもよい。ジグ穴の深さ方向の形状は、特定されず、貫通さえしなければ、円柱の先にテーパーを有する凹みであってもよい。
前記ジグ穴を設ける箇所の近傍の断面形状は、三角形を除去する前の四辺形であることが好ましく、矩形であることが好ましい。
気圧調整用穴を設ける個所は、気圧調整用のフィルタを一般的にはペリクルフレームの外側面に貼り付ける為、外側面に削りが無くフィルタを貼り付ける為の平面が存在すればよく、内側面は削りを設けてもよい。
上述したように、ペリクルをマスクに貼り付けることによるマスクの歪みは、ペリクルのペリクルフレームの歪みに起因することが大きいと考えられる。貼り付け時にペリクルフレームが変形し、それが元に戻ろうとする変形応力がマスクを変形させている。この変形応力は、ペリクルフレームを構成する材料のヤング率及びその変形量に依存する。本発明によれば、ペリクルフレームの断面積を基本四辺形よりも縮小することにより、ペリクルをマスクに貼り付けた時の変形応力が小さいペリクルフレームにすることが可能となった。
従来、ペリクルフレームの上辺は、ペリクル膜を張設するため、また下辺は粘着剤を設けてマスクに接着することから、上辺も下辺もある程度の幅が必要である。従って、従来の断面が矩形のペリクルフレームは変形応力が大きいものであった。しかしながら、本発明によれば、上辺部と下辺部とを接続する中間部は上下両辺よりも狭い幅とすることが可能である。このように中間部を上下両辺よりも狭い幅にすることにより、上下辺の幅、およびフレームの高さを確保しつつ、フレームの断面積を小さくすることができる。従って、作業性を損なうことなく、変形応力を小さくすることができる。このようなペリクルフレームは、例えば断面が基本四辺形の形状を有するフレームから、少なくとも片方の側辺から三角形を削り取ることにより製造できる。
なお、ジグ穴を設けるペリクルフレームの箇所は削りをなくして、所定の非貫通のジグ穴を設けることが好ましい。
基本四辺形の面積は20mm2以下である。20mm2を超えるとフレームの高さを大きくするには装置上の限界があるので、フレーム幅が大きくなり過ぎることになり、ペリクルの内寸が小さくなり過ぎパターンエリアが大幅に制限されるという不具合が生じる。
基本四辺形の面積は15mm2以下が好ましく、12mm2以下がより好ましい。上記の数値の範囲内であると、フレーム幅を細く抑制できる為パターンエリアを十分に大きく取れるという利点がある。
ペリクルフレームの高さは、好ましくは約1〜10mmであり、より好ましくは約2〜7mmであり、特に好ましくは約3〜6mmである。上記の数値の範囲内であると、異物のデフォーカス性能が高く、ペリクルフレームの歪みも抑制される。
本発明のペリクルフレームは、上辺部及び下辺部がそれらの全幅にわたり一定の厚さを有することが好ましい。上辺部及び下辺部の厚さは0.1〜3.0mmが好ましく、0.2〜2.0mmがより好ましく、0.3〜1.0mmがさらに好ましい。上記の数値の範囲内であると、露光原版からペリクルを剥離する際にペリクルフレームの破損が生じないため好ましい。
図3の(3−1)は、片方の窪みの先端A(図中A)を通過して上辺と直交する直線が、もう片方の窪みを横断することを示す例であり、本発明の好ましい実施態様である。(3−1)に示す実施態様は、窪みを十分深く形成すると同時に中間部の幅を狭く形成したものであり、結果としてペリクルフレームが縦方向に変形し易くなるため、変形応力が小さいペリクルフレームが得られるため好ましい。
図3の(3−2)及び(3−3)は、いずれも窪みの先端Aを通過する直線がもう片方の窪みを横断していない例を示すものである。(3−1)に示す例と比べて、形成された窪みが浅く、中間部の幅が広いため、ペリクルフレームの縦方向の変形応力がより高く、結果として変形応力が高いペリクルフレームとなる。
本発明においては、両側辺に1つずつ前記窪みを有する場合には、片方の窪みの先端を通過して上辺と直交する直線がもう片方の窪みを横断するものが好ましい。
(b)の形状は、(a)の形状とは、中間部16が上辺部13から下辺部15に向かってテーパー状に広がった形状である点で、異なっている。
(c)の形状は、(a)の形状と比較して、三角形状の窪みが浅く、中間部の幅がより太い形状である点で、異なっている。
(d)の形状は、(a)の形状を左右反転させた形状、すなわち、ペリクルフレームの内側と外側とを逆にした形状である点で異なっている。
(e)の形状は、前記四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一つがその頂点を前記長方形の内側に置いた二等辺三角形である。なお、ここでいう頂点は図に示すように二等辺三角形の頂角となる頂点をいう。
(f)の形状は、基本四辺形の片方の側辺から直角三角形を除去して得た形状である。
中間部は、その幅が一定であることが好ましいが、上辺部及び/又は下辺部寄りに幅広であってもよい。
本発明においては、Z字形状のものが好ましく、中でも中間部の幅が一定であり、窪みの深さが十分に設けられた(a)及び(d)がより好ましい。
アルミニウムとしては、従来使用されているアルミニウム合金材が使用でき、好ましくは、JIS A7075、JIS A6061、JIS A5052材等が用いられるが、上述した断面形状を有し、ペリクルフレームとしての強度が確保される限り特に制限はない。
ペリクルフレームの断面形状をZ字形状にし、その断面積を3〜6mm2にした場合、低いヤング率の材料を使用する程、相乗効果によりマスクの変形も小さくすることができる。
なお、上記のペリクルフレームの「平坦度」とは、ペリクルフレームの各コーナー4点と4辺の中央4点の計8点において高さを測定し、仮想平面を算出して、その仮想平面からの各点の距離のうち最高点から最低点を引いた差で算出した値である。ペリクルフレームの平坦度は、「XY軸プログラムステージを有するレーザー変位計」により測定することができ、本発明においては、自製の変位計を使用した。
ペリクルフレーム表面の黒色アルマイト被膜の形成方法としては、一般的にNaOHなどのアルカリ処理浴で数十秒処理した後、希硫酸水溶液中で陽極酸化を行い、次いで黒色染色、封孔処理することで、表面に黒色の酸化被膜を設けることができる。
電着塗装については、熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂のいずれも使用できる。また、それぞれに対してアニオン電着塗装、カチオン電着塗装のいずれをも使用することができる。本発明では耐紫外線性能も求められるため、熱硬化型樹脂のアニオン電着塗装が、コーティングの安定性、外観、強度の点から好ましい。
本発明のリソグラフィ用ペリクルは、上記のペリクルフレームのいずれかに、上辺である一端面にペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が張設され、下辺である他端面に露光原版接着剤を設けることにより製造することができる。
また、マスクへのペリクル貼り付けによるマスクの最大変形レンジを、マスクの変形/歪みの指標として使用した。マスクの平坦度及び最大変形レンジの定義と測定方法は実施例に記載した。
サイトップCTX−S(旭硝子(株)製商品名)をパーフルオロトリブチルアミンに溶解させた5%溶液をシリコンウエハ上に滴下し、スピンコート法により830rpmでウエハを回転させ、ウエハ上に広げた。その後、室温で30分間乾燥後、さらに180℃で乾燥し、均一な膜とした。これに接着剤を塗布したアルミニウム枠を貼り付け、膜だけを剥離しペリクル膜とした。上記のサイトップCTX−S膜を必要枚数作製して、実施例1〜8及び比較例で使用した。
アルミニウム合金製で、外寸が149mm×122mm×3.5mm、上辺及び下辺の幅が2mm(断面形状は図4(a)に示し、断面積3.25mm2)のペリクルフレームを製作した。なお、断面形状は、高さ3.5mm、幅2.0mmの矩形の両側面から、高さ2.5mm、上辺(下辺)1.5mmの直角三角形を互い違いに中央部の両側で取り除いた形状を有するZ字状とした。上辺部及び下辺部の厚さは、0.5mmであり、中間部の幅も水平方向で0.5mmであった。なお、ペリクルフレームの4つの角にC面取りを施した。
このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、20μmであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム枠の膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断し、ペリクルを完成させた。
また、「平坦度」とは、ペリクルフレーム又はマスクの仮想平面からの凹凸の最大値と最小値の差より定義される。
マグネシウム合金製で、外寸が149mm×122mm×3.5mm、上辺及び下辺の幅が2mm(断面形状は図4(a)に示し、断面積3.25mm2)の断面形状が実施例1と同じペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、20μmであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をマグネシウム合金製枠の膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、142mm角で平坦度が0.25μmであるマスクに荷重20kgで貼り付けた。その後、再度ペリクル付きマスクの平坦度を測定したところ、0.25μmであり、平坦度は変化しなかった。また最大変形レンジは25nm変化したものの、比較例に比べ非常に低い値に抑えることができた。なお、平坦度の測定結果を表1にまとめた。
ポリカーボネート樹脂製で、外寸が149mm×122mm×3.5mm、上辺及び下辺の幅が2mm(断面形状は図4(a)に示し、断面積3.25mm2)の断面形状が実施例1と同じペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、20μmであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をポリカーボネート樹脂製枠の膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、142mm角で平坦度が0.25μmであるマスクに荷重20kgで貼り付けた。その後、再度ペリクル付きマスクの平坦度を測定したところ、0.25μmと変化しなかった。また最大変形レンジは20nm変化したものの、比較例に比べ非常に低い値に抑えることができた。なお、平坦度の測定結果を表1にまとめた。
アルミニウム合金製で、外寸が149mm×115mm×4.5mm、上辺及び下辺の幅が2mm(断面形状は図4(b)に示し、断面積4.625mm2)のペリクルフレームを製作した。このフレームでは断面がZ形状を有し、上辺部及び下辺部の厚さは、0.5mmであった。その中間部の水平方向の幅は、上辺接続部で0.5mm、下辺接続部で1.0mmであった。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、20μmであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製枠の膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、142mm角で平坦度が0.25μmであるマスクに荷重20kgで貼り付けた。その後、再度ペリクル付きマスクの平坦度を測定したところ、0.27μmとなった。また最大変形レンジは55nm変化したものの、比較例に比べ低い値に抑えることができた。なお、平坦度の測定結果を表1にまとめた。
アルミニウム合金製で、外寸が149mm×122mm×3.5mm、上辺及び下辺の幅が2mm(断面形状は図4(c)に示し、断面積5mm2)のペリクルフレームを製作した。なお、断面形状は、高さ3.5mm、幅2.0mmの矩形の両側面から、高さ2.5mm、上辺(下辺)0.8mmの直角三角形を互い違いに中央部の両側で取り除いた形状を有するZ字状とした。上辺部及び下辺部の厚さは、0.5mmであり、中間部の幅は水平方向で1.2mmであった。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、20μmであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム枠の膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、142mm角で平坦度が0.25μmであるマスクに荷重20kgで貼り付けた。その後、再度ペリクル付きマスクの平坦度を測定したところ、0.27μmとなった。また最大変形レンジは58nm変化したものの、比較例に比べ低い値に抑えることができた。なお、平坦度の測定結果を表1にまとめた。
アルミニウム合金製で、外寸が149mm×115mm×3mm、上辺及び下辺の幅が2mm(断面形状は図4(d)に示し、断面積3mm2)のペリクルフレームを製作した。なお、断面形状は、(a)の形状を左右反転させた逆Z形状である。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、10μmであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製枠の膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、142mm角で平坦度が0.25μmであるマスクに荷重20kgで貼り付けた。その後、再度ペリクル付きマスクの平坦度を測定したところ、0.25μmと変化しなかった。また最大変形レンジは25nm変化したものの、比較例に比べ非常に低い値に抑えることができた。なお、平坦度の測定結果を表1にまとめた。
アルミニウム合金製で、外寸が149mm×122mm×3.5mm、上辺及び下辺の幅が2mm(断面形状は図4(e)に示し、断面積5.125mm2)のペリクルフレームを製作した。なお、断面形状は、高さ3.5mm、幅2.0mmの矩形の両側面から、底辺2.5mm、底辺から頂角を形成する頂点までの高さ0.75mmの二等辺三角形を中央部の両側で取り除いた形状とした。中間部最狭部の幅は0.5mmであった。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、20μmであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム枠の膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、142mm角で平坦度が0.25μmであるマスクに荷重20kgで貼り付けた。その後、再度ペリクル付きマスクの平坦度を測定したところ、0.23μmとなった。また最大変形レンジは60nm変化したものの、比較例に比べ低い値に抑えることができた。なお、平坦度の測定結果を表1にまとめた。
アルミニウム合金製で、外寸が149mm×122mm×3.5mm、上辺及び下辺の幅が2mm(断面形状は図4(f)に示し、断面積5.125mm2)のペリクルフレームを製作した。なお、断面形状は、高さ3.5mm、幅2.0mmの矩形の片側面から、高さ2.5mm、幅1.5mmの直角三角形を取り除いた形状とした。上辺部の厚さは、0.5mmであった。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、20μmであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製枠の膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、142mm角で平坦度が0.25μmであるマスクに荷重20kgで貼り付けた。その後、再度ペリクル付きマスクの平坦度を測定したところ、0.27μmとなった。また最大変形レンジは65nm変化したものの、比較例に比べ非常に低い値に抑えることができた。なお、平坦度の測定結果を表1にまとめた。
アルミニウム合金製で、外寸が149mm×122mm×3.5mm、幅が2mm(断面形状は長方形であり、断面積7mm2)のペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、20μmであった。
実施例1と同様にしてペリクル膜を貼り付けてペリクルを完成させた。完成したペリクルを、実施例1と同様にしてマスクに貼り付け、再度ペリクル付きマスクの平坦度を測定した。測定結果を表1にまとめた。
以上の結果をまとめると、以下の表1に示すようになった。
2:接着層
3:ペリクルフレーム
4:接着用粘着層
5:露光原版
10:ペリクル
12:上辺
13:上辺部
14:下辺
15:下辺部
16:中間部
17:側辺
18:三角形
19:側辺
A,B:窪みの先端
Claims (9)
- ペリクルフレームバーの断面が、上辺及び下辺が平行で面積が20mm2以下の四辺形の少なくとも一つの側辺に少なくとも一つの三角形状の窪みを有した形状であることを特徴とするペリクルフレーム。
- 前記四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一つが前記上辺と平行な辺を有した三角形である、請求項1に記載のペリクルフレーム。
- 前記四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一つが、その頂点を前記長方形の内側に置いた二等辺三角形である、請求項1に記載のペリクルフレーム。
- 両側辺に1つずつ前記窪みを有し、一方の窪みの先端を通過して上辺と直交する直線が他方の窪みを横断する、請求項1〜3いずれか1つに記載のペリクルフレーム。
- 前記ペリクルフレームバーの断面積が6mm2以下である、請求項1〜4いずれか1つに記載のペリクルフレーム。
- ヤング率が1〜80GPaである材料で構成された、請求項1〜5いずれか1つに記載のペリクルフレーム。
- アルミニウム合金で構成された、請求項1〜6いずれか1つに記載のペリクルフレーム。
- ペリクルフレームの平坦度が20μm以下である、請求項1〜7いずれか1つに記載のペリクルフレーム。
- 請求項1〜8いずれか1つに記載のペリクルフレームの一端面にペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が張設され、他端面に露光原版接着剤を設けたリソグラフィ用ペリクル。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009149775A JP5411595B2 (ja) | 2009-06-24 | 2009-06-24 | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
US12/819,486 US8467035B2 (en) | 2009-06-24 | 2010-06-21 | Pellicle frame and lithographic pellicle |
KR1020100059527A KR101780062B1 (ko) | 2009-06-24 | 2010-06-23 | 펠리클 프레임 및 리소그래피용 펠리클 |
TW099120414A TWI476511B (zh) | 2009-06-24 | 2010-06-23 | 防護膠膜框架及微影用防護膠膜 |
EP10167075.0A EP2267528B1 (en) | 2009-06-24 | 2010-06-23 | Pellicle frame and lithographic pellicle |
CN2010102140291A CN101930166B (zh) | 2009-06-24 | 2010-06-24 | 防护膜框架及光刻用防护膜 |
HK11102985.0A HK1148826A1 (en) | 2009-06-24 | 2011-03-24 | Pellicle frame and lithographic pellicle |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009149775A JP5411595B2 (ja) | 2009-06-24 | 2009-06-24 | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011007933A true JP2011007933A (ja) | 2011-01-13 |
JP5411595B2 JP5411595B2 (ja) | 2014-02-12 |
Family
ID=42667060
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009149775A Active JP5411595B2 (ja) | 2009-06-24 | 2009-06-24 | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8467035B2 (ja) |
EP (1) | EP2267528B1 (ja) |
JP (1) | JP5411595B2 (ja) |
KR (1) | KR101780062B1 (ja) |
CN (1) | CN101930166B (ja) |
HK (1) | HK1148826A1 (ja) |
TW (1) | TWI476511B (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011007934A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
WO2015059783A1 (ja) * | 2013-10-23 | 2015-04-30 | 日本軽金属株式会社 | ペリクル枠及びその製造方法 |
EP2998792A2 (en) | 2014-09-22 | 2016-03-23 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | A pellicle frame and a pellicle |
EP3029522A1 (en) | 2014-12-01 | 2016-06-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | A pellicle frame and a pellicle |
EP3037877A2 (en) | 2014-12-25 | 2016-06-29 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | A pellicle |
KR20190125192A (ko) | 2018-04-27 | 2019-11-06 | 니뽄 도쿠슈 도교 가부시키가이샤 | 펠리클 프레임 및 그 제조 방법 |
JP2021012336A (ja) * | 2019-07-09 | 2021-02-04 | 旭化成株式会社 | ペリクル枠体及びペリクル |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3196699A4 (en) * | 2014-09-19 | 2018-05-16 | Mitsui Chemicals, Inc. | Pellicle, production method thereof, exposure method |
JP6899759B2 (ja) * | 2017-12-12 | 2021-07-07 | 日本軽金属株式会社 | Fpd(フラットパネルディスプレイ)用ペリクル枠体及びその製造方法 |
EP3764161A4 (en) * | 2018-03-05 | 2021-12-01 | Mitsui Chemicals, Inc. | PELLICLE, EXPOSURE MASTER, EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR COMPONENT |
JP2022523345A (ja) * | 2019-02-28 | 2022-04-22 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | レチクルアセンブリのアセンブリのための装置 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01292343A (ja) * | 1988-05-19 | 1989-11-24 | Fujitsu Ltd | ペリクル |
JPH03235321A (ja) * | 1990-02-13 | 1991-10-21 | Toshiba Corp | X線露光用マスク |
JPH0968793A (ja) * | 1995-08-30 | 1997-03-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
JP2006515932A (ja) * | 2002-10-02 | 2006-06-08 | 矢崎総業株式会社 | 多孔質枠体を組み込んだフォトマスクアッセンブリ及びその製造方法 |
WO2008105531A1 (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-04 | Nikon Corporation | ペリクルフレーム装置、マスク、露光方法及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
JP2009025562A (ja) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム |
JP2009025559A (ja) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム |
JP2009288265A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | リソグラフィ用ペリクル |
JP2011002831A (ja) * | 2009-06-18 | 2011-01-06 | Nikon Corp | 保護装置、マスク、マスクの製造方法及び搬送装置、並びに露光装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5422704A (en) * | 1992-07-13 | 1995-06-06 | Intel Corporation | Pellicle frame |
KR20030041811A (ko) * | 2001-11-21 | 2003-05-27 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 페리클의 포토마스크에 대한 장착구조 |
JP2006039257A (ja) * | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 大型ペリクル |
JP4388467B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2009-12-24 | 信越化学工業株式会社 | フォトリソグラフィ用ペリクル及びペリクルフレーム |
JP2008256925A (ja) | 2007-04-04 | 2008-10-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
CN101689018B (zh) * | 2007-07-06 | 2013-03-20 | 旭化成电子材料株式会社 | 大型表膜构件的框体及该框体的把持方法 |
US7829248B2 (en) * | 2007-07-24 | 2010-11-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Pellicle stress relief |
JP5134418B2 (ja) * | 2008-04-01 | 2013-01-30 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィ用ペリクル |
JP5411596B2 (ja) * | 2009-06-24 | 2014-02-12 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
-
2009
- 2009-06-24 JP JP2009149775A patent/JP5411595B2/ja active Active
-
2010
- 2010-06-21 US US12/819,486 patent/US8467035B2/en active Active
- 2010-06-23 EP EP10167075.0A patent/EP2267528B1/en active Active
- 2010-06-23 KR KR1020100059527A patent/KR101780062B1/ko active IP Right Grant
- 2010-06-23 TW TW099120414A patent/TWI476511B/zh active
- 2010-06-24 CN CN2010102140291A patent/CN101930166B/zh active Active
-
2011
- 2011-03-24 HK HK11102985.0A patent/HK1148826A1/xx not_active IP Right Cessation
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01292343A (ja) * | 1988-05-19 | 1989-11-24 | Fujitsu Ltd | ペリクル |
JPH03235321A (ja) * | 1990-02-13 | 1991-10-21 | Toshiba Corp | X線露光用マスク |
JPH0968793A (ja) * | 1995-08-30 | 1997-03-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
JP2006515932A (ja) * | 2002-10-02 | 2006-06-08 | 矢崎総業株式会社 | 多孔質枠体を組み込んだフォトマスクアッセンブリ及びその製造方法 |
WO2008105531A1 (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-04 | Nikon Corporation | ペリクルフレーム装置、マスク、露光方法及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
JP2009025562A (ja) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム |
JP2009025559A (ja) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム |
JP2009288265A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | リソグラフィ用ペリクル |
JP2011002831A (ja) * | 2009-06-18 | 2011-01-06 | Nikon Corp | 保護装置、マスク、マスクの製造方法及び搬送装置、並びに露光装置 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011007934A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
JP5962866B2 (ja) * | 2013-10-23 | 2016-08-03 | 日本軽金属株式会社 | ペリクル枠及びその製造方法 |
WO2015059783A1 (ja) * | 2013-10-23 | 2015-04-30 | 日本軽金属株式会社 | ペリクル枠及びその製造方法 |
JPWO2015059783A1 (ja) * | 2013-10-23 | 2017-03-09 | 日本軽金属株式会社 | ペリクル枠及びその製造方法 |
US9581897B2 (en) | 2013-10-23 | 2017-02-28 | Nippon Light Metal Company, Ltd. | Pellicle frame and process for producing same |
EP2998792A2 (en) | 2014-09-22 | 2016-03-23 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | A pellicle frame and a pellicle |
KR20160034800A (ko) | 2014-09-22 | 2016-03-30 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 프레임 및 펠리클 |
US9612529B2 (en) | 2014-09-22 | 2017-04-04 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle frame and a pellicle |
EP3029522A1 (en) | 2014-12-01 | 2016-06-08 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | A pellicle frame and a pellicle |
KR20160065741A (ko) | 2014-12-01 | 2016-06-09 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 프레임 및 이것을 사용한 펠리클 |
US9766538B2 (en) | 2014-12-01 | 2017-09-19 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle frame and a pellicle |
KR20160078871A (ko) | 2014-12-25 | 2016-07-05 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 |
EP3037877A2 (en) | 2014-12-25 | 2016-06-29 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | A pellicle |
US9740093B2 (en) | 2014-12-25 | 2017-08-22 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle |
KR20190125192A (ko) | 2018-04-27 | 2019-11-06 | 니뽄 도쿠슈 도교 가부시키가이샤 | 펠리클 프레임 및 그 제조 방법 |
JP2021012336A (ja) * | 2019-07-09 | 2021-02-04 | 旭化成株式会社 | ペリクル枠体及びペリクル |
JP7347789B2 (ja) | 2019-07-09 | 2023-09-20 | 三井化学株式会社 | ペリクル枠体及びペリクル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20100138820A (ko) | 2010-12-31 |
US8467035B2 (en) | 2013-06-18 |
US20100328641A1 (en) | 2010-12-30 |
CN101930166B (zh) | 2013-05-08 |
EP2267528A2 (en) | 2010-12-29 |
CN101930166A (zh) | 2010-12-29 |
EP2267528A3 (en) | 2013-04-03 |
JP5411595B2 (ja) | 2014-02-12 |
TW201109838A (en) | 2011-03-16 |
TWI476511B (zh) | 2015-03-11 |
KR101780062B1 (ko) | 2017-09-19 |
HK1148826A1 (en) | 2011-09-16 |
EP2267528B1 (en) | 2020-07-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5481106B2 (ja) | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル | |
JP5411595B2 (ja) | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル | |
JP5411596B2 (ja) | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル | |
JP4889778B2 (ja) | ペリクルの製造方法及びリソグラフィ用ペリクル | |
JP5411200B2 (ja) | リソグラフィ用ペリクル | |
TWI409581B (zh) | 防塵薄膜組件之製造方法、微影用防塵薄膜組件框架及微影用防塵薄膜組件 | |
TWI411874B (zh) | 防塵薄膜組件 | |
KR101551309B1 (ko) | 리소그래피용 펠리클 | |
JP2008256925A (ja) | ペリクル | |
JP4974389B2 (ja) | リソグラフィ用ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル | |
JP2006056544A (ja) | ペリクルフレーム、および該フレームを用いたフォトリソグラフィー用ペリクル | |
JP5999843B2 (ja) | リソグラフィ用ペリクルとその製造方法及び管理方法 | |
JP2005352096A (ja) | ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120502 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130520 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130702 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130729 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131001 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131108 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5411595 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |