JP2006515932A - 多孔質枠体を組み込んだフォトマスクアッセンブリ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
この実施例は、本発明の方法の好ましい観点を説明するものであり、部分緻密化及び機械加工を組み込んでいる。Ganguliらの公告された米国特許出願2002/0157419A1に開示された方法を用いてゾルを作製した。このゾルは、約26.7cm×約26.7cmの内寸をもつ四角形の型に約18mmの高さまで注入された。ゲル化後、Kirkbirらの米国特許第5,473,826号に開示された技術に従って、このゲルをサブクリテイカルに乾燥した。乾燥ゲルに、亀裂が存在しなかった。
ゲルを、約1,180℃に代わり、約1,220℃に保持することにより部分緻密化したことを除いて、実施例1と同様な方式で多孔質枠体を作製し、分析した。分析結果の一部を図2、3及び5に示す。得られた多孔質ガラスは、測定値が約18.4m2/gの表面積を有し、測定値が約0.08μmの平均孔径を有していた。その破断係数は、約137.5±38.6MPaであると測定された。窒素に対するその通気率は、約0.3ml.mm/cm2.min.MPaと測定され、酸素に対するその通気率は、約0.4ml.mm/cm2.min.MPaであると測定された。この多孔質ガラスのCTEは、約0.58ppm/℃であると測定され、その捕捉能力は、約250分間の脱着後に、約0.12重量%であると測定された。
ゲルを、約1,180℃に代わり、約1,260℃に保持することにより部分緻密化したことを除いて、実施例1と同様な方式で多孔質枠体を作製し、分析した。分析結果の一部を図2、3及び5に示す。得られた多孔質ガラスは、測定値が約0.3m2/gの表面積を有し、測定値が約0.03μmの平均孔径を有していた。その破断係数は、約121.7±20.0MPaであると測定された。窒素に対するその通気率は、約0.1ml.mm/cm2.min.MPaと測定され、酸素に対するその通気率は、約0.5ml.mm/cm2.min.MPaであると測定された。この多孔質ガラスのCTEは、約0.6ppm/℃であると測定され、その捕捉能力は、約250分間の脱着後に、無視できると測定された。
14 枠体
16 反射防止膜
18 液体塗膜
20 フォトマスク基板
22 組み付け接着剤
24 被覆接着剤
26 グルー
28 剥離ライナー
30 パターン化表面
32 ペリクル空間
Claims (55)
- フォトマスク基板、多孔質枠体及びペリクルを含むフォトマスクアッセンブリであって、多孔質枠体が、酸素又は窒素に対して約10ml.mm/cm2.min.MPaより大きい通気率、0.001μm〜10μmの平均孔径、及び0.01ppm/℃〜10ppm/℃の熱膨張係数を有するフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、酸素又は窒素に対して約40ml.mm/cm2.min.MPaより大きい通気率を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、酸素又は窒素に対して約70ml.mm/cm2.min.MPaより大きい通気率を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、0.01μm〜1μmの平均孔径を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、0.08μm〜1μmの平均孔径を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、0.1ppm/℃〜1ppm/℃の熱膨張係数を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、0.3ppm/℃〜0.7ppm/℃の熱膨張係数を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、フォトマスク基板及び/又はハードペリクルに固着され、かつ多孔質枠体の熱膨張係数が、±20%内で、フォトマスク基板及び/又はハードペリクルの熱膨張係数と一致する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、約20μmより小さい表面平面度を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、約5μmより小さい表面平面度を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、約1μmより小さい表面平面度を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、10m2/gより大きい気孔表面積を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、25m2/gより大きい気孔表面積を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、70m2/gより大きい気孔表面積を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、1GPaより大きい弾性率を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、5GPaより大きい弾性率を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、10GPaより大きい弾性率を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、1MPaより大きい破断係数を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、5MPaより大きい破断係数を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、10MPaより大きい破断係数を有する請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、多孔質枠体材料の0.01重量%より多い量で、ある種の化学物質を捕捉するように構成されている請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、多孔質枠体材料の0.05重量%より多い量で、ある種の化学物質を捕捉するように構成されている請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、シリカ、フッ化シリカ、ZrO2、Al2O3、SiO2‐Al2O3、SiO2‐B2O3、及びそれらの混合物からなる群から選ばれた材料で形成される請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- 多孔質枠体が、約96重量%より高いシリカ純度を有する、シリカ及びフッ化シリカからなる群から選ばれた材料で形成される請求項1に記載のフォトマスクアッセンブリ。
- フォトマスクアッセンブリの製造方法であって、
フォトマスク基板、多孔質枠体及びペリクルを提供すること、その際多孔質枠体が、酸素又は窒素に対して約10ml.mm/cm2.min.MPaより大きい通気率、0.001μm〜10μmの平均孔径及び0.01ppm/℃〜10ppm/℃の熱膨張係数を有するものであり、
フォトマスク基板、多孔質枠体及びペリクルを一体に固着させてフォトマスクアッセンブリを形成させることを含む方法。 - 多孔質枠体を提供することが、(a)ゾル‐ゲル法によりゲルを作製すること、(b)ゲルを乾燥すること、及び(c)乾燥ゲルを部分緻密化することを含む請求項25に記載の方法。
- 緻密化された乾燥ゲルを加工して多孔質枠体を形成することを更に含む請求項26に記載の方法。
- 緻密化された乾燥ゲルを加工して角棒を形成し、棒を接合して多孔質枠体を形成することを更に含む請求項26に記載の方法。
- ダイヤモンドツール加工、超音波ミリング、レーザー加工及びウオータージェット加工からなる群から選ばれた方法を用いて、緻密化された乾燥ゲルを加工することを更に含む請求項26に記載の方法。
- ダイヤモンドツール加工及び超音波ミリングからなる群から選ばれた方法を用いて、緻密化された乾燥ゲルを加工することを更に含む請求項26に記載の方法。
- ゲルを作製することが、その後にゲルが乾燥され、部分緻密化される時に、加工を必要とせず、枠体が所望の寸法になるように構成される寸法をもつ型内で、ゲルを形作ることを含む請求項26に記載の方法。
- 緻密化された乾燥ゲルを20μmより小さい表面平面度に加工することを更に含む請求項26に記載の方法。
- 乾燥ゲルがシリカを含む請求項26に記載の方法。
- ゲルがシリコンアルコキシド及びヒュームドシリカを含む請求項26に記載の方法。
- 部分緻密化することが、ヘリウム、窒素、酸素又はそれらの混合物を含む雰囲気中で、規定の部分緻密化温度で乾燥ゲルを部分緻密化することを含む請求項26に記載の方法。
- 部分緻密化することが、650℃〜1260℃の範囲内の部分緻密化温度で起きる請求項35に記載の方法。
- 部分緻密化することが、1100℃〜1200℃の範囲内の部分緻密化温度で起きる請求項35に記載の方法。
- 部分緻密化することが、約1180℃の範囲内の部分緻密化温度で起きる請求項35に記載の方法。
- 部分緻密化することが、乾燥ゲルを1℃/時間〜200℃/時間の速度で規定の部分緻密化温度に加熱することを含む請求項35に記載の方法。
- 部分緻密化することが、乾燥ゲルを10℃/時間〜100℃/時間の速度で規定の部分緻密化温度に加熱することを含む請求項35に記載の方法。
- 部分緻密化することが、乾燥ゲルを約15℃/時間の速度で規定の部分緻密化温度に加熱することを含む請求項35に記載の方法。
- 部分緻密化することが、乾燥ゲルを規定の部分緻密化温度で1時間〜100時間の範囲の時間維持することを含む請求項35に記載の方法。
- 部分緻密化することが、乾燥ゲルを規定の部分緻密化温度で1時間〜30時間の範囲の時間維持することを含む請求項35に記載の方法。
- 部分緻密化することが、乾燥ゲルを規定の部分緻密化温度で約4時間維持することを含む請求項35に記載の方法。
- 雰囲気が酸素及び窒素又はヘリウムの混合物から本質的に成り、この混合物が3%〜20%の酸素濃度を有する請求項35に記載の方法。
- 雰囲気が酸素及び窒素又はヘリウムの混合物から本質的に成り、この混合物が約7%の酸素濃度を有する請求項35に記載の方法。
- 乾燥ゲルを150℃〜300℃の温度で加熱することにより、乾燥ゲルから炭化水素を除去することを更に含む請求項26に記載の方法。
- 炭化水素除去ステップ後に、650℃〜1,200℃の温度で、ハロゲン化剤を用いて乾燥ゲルをハロゲン化することを更に含む請求項47に記載の方法。
- (a)ハロゲン化ステップ後に乾燥ゲルを酸化すること、及び(b)酸化ステップ後に乾燥ゲルを再ハロゲン化することを更に含む請求項48に記載の方法。
- 乾燥ゲルを部分緻密化するステップが、
規定された初期の部分緻密化温度で乾燥ゲルを部分緻密化すること、
部分緻密化された乾燥ゲルを所望の多孔質枠体形状に加工すること、及び
規定された最終の部分緻密化温度で多孔質枠体を部分緻密化し、この際に最終の部分緻密化温度が、初期の部分緻密化温度より約50℃〜約300℃高いことを更に含む請求項26に記載の方法。 - 規定された最終の部分緻密化温度が650℃〜1,260℃の範囲である請求項50に記載の方法。
- 規定された最終の部分緻密化温度が1,100℃〜1,200℃の範囲である請求項50に記載の方法。
- 規定された最終の部分緻密化温度が約1,180℃である請求項50に記載の方法。
- 乾燥ゲルを部分緻密化することが、
規定された初期の部分緻密化温度で、乾燥ゲルを部分緻密化すること、
乾燥ゲルを部分緻密化するステップの後に、部分緻密化された乾燥ゲルを加工して所望の多孔質枠体形状を作製すること、
初期の部分緻密化温度とこれより約300℃低い温度の間にあるアニール温度で、加工された乾燥ゲルをアニールすること、及び
規定された最終の部分緻密化温度で、アニールされた乾燥ゲルを部分緻密化すること、その際に最終の部分緻密化温度が、初期の部分緻密化温度より約50℃〜約300℃高いことを含む請求項50に記載の方法。 - フォトマスクアッセンブリ用に適した多孔質シリカ枠体の製造方法であって、
ゾル‐ゲル法を用いて99.9%より多いシリカを含む乾燥ゲルを作製すること、
約33%の塩素及び約67%のヘリウム雰囲気中で、約25℃/時間の加熱速度で、乾燥ゲルを約650℃〜約1,050℃に加熱することにより乾燥ゲルをハロゲン化し、かつこの乾燥ゲルを、この雰囲気中で約1時間、約1,050℃で維持すること、
約7%の酸素及び約93%のヘリウム雰囲気中で、約25℃/時間の加熱速度で、ハロゲン化された乾燥ゲルを約1,050℃〜約1,180℃に加熱することによりハロゲン化乾燥ゲルを部分緻密化し、かつこのハロゲン化された乾燥ゲルを約1,180℃で約4時間維持すること、及び
部分緻密化された乾燥ゲルを1μmより小さい平面度を有する所望の枠体形状に加工することを含む方法。
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