KR101551309B1

KR101551309B1 - 리소그래피용 펠리클

Info

Publication number: KR101551309B1
Application number: KR1020090031789A
Authority: KR
Inventors: 유이찌 하마다
Original assignee: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
Priority date: 2008-05-27
Filing date: 2009-04-13
Publication date: 2015-09-08
Also published as: TW200952043A; TWI415168B; KR20090123773A; JP2009288265A; JP5134436B2

Abstract

(과제) 변형이나 왜곡을 저감한 리소그래피용 펠리클을 제공하는 것.

(해결수단) 직사각형의 펠리클 프레임의 두 장변의 양단 근방에 형성되어 있는 적어도 2개의 지그 구멍이 모두 각 장변 중 어느 하나의 단부로부터 10㎜ 이내에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클. 펠리클 프레임의 장변의 길이는 140㎜ 이상 300㎜ 이하인 것이 바람직하고, 140㎜ 이상 230㎜ 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 상기 펠리클 프레임의 두 장변의 양단 근방에 형성되어 있는 복수개의 지그 구멍의 마주 대하는 1쌍의 지그 구멍이 프레임 장변 방향으로 긴 구멍으로 되어 있는 것이 바람직하다.

리소그래피용 펠리클

Description

리소그래피용 펠리클{PELLICLE FOR LITHOGRAPHY}

본 발명은 LSI, 초LSI 등의 반도체 장치 또는 액정 표시판을 제조할 때의 리소그래피용 마스크의 먼지막이로서 사용되는 리소그래피용 펠리클에 관한 것이다.

LSI, 초LSI 등의 반도체 제조 또는 액정 표시판 등의 제조에 있어서는 반도체 웨이퍼 또는 액정용 원판에 광을 조사해서 패턴 제작하지만, 이 경우에 이용하는 노광원판에 먼지가 부착되어 있으면, 이 먼지가 광을 흡수하거나 광이 반사되게 하기 때문에, 전사한 패턴이 변형되거나 에지가 거칠어지는 것으로 되는 것 외에 하지가 검게 더러워지거나 해서 치수, 품질, 외관 등이 손상된다는 문제가 있었다. 또한, 본 발명에 있어서 「노광원판」이란 리소그래피용 마스크 및 레티클의 총칭이다.

이들 작업은 통상 클린룸에서 행해지고 있지만, 이 클린룸 내에서도 노광원판을 항상 청정하게 유지하는 것이 어려우므로, 노광원판의 표면에 먼지막이를 위한 노광용 광을 잘 통과시키는 펠리클을 점착하는 방법이 취해지고 있다.

이 경우, 먼지는 노광원판의 표면 상에는 직접 부착되지 않고, 펠리클 막 위에 부착되기 때문에, 리소그래피시에 초점을 노광원판의 패턴 상에 맞춰 두면, 펠 리클 막 상의 먼지는 전사에 무관계로 된다.

펠리클의 기본적인 구성은 펠리클 프레임 및 이것에 펼쳐 설치한 펠리클 막으로 이루어진다. 펠리클 막은 노광에 이용하는 광(g선, i선, 248㎚, 193㎚, 157㎚ 등)을 잘 투과시키는 니트로셀룰로오스, 초산셀룰로오스, 불소계 폴리머 등으로 이루어진다. 펠리클 프레임은 흑색 알루마이트 처리 등을 실시한 A7075, A6061, A5052 등의 알루미늄합금, 스테인레스, 폴리에틸렌 등으로 이루어진다. 펠리클 프레임의 상부에 펠리클 막의 양용매를 도포하고, 펠리클 막을 바람 건조해서 접착하거나(특허문헌1 참조), 아크릴수지, 에폭시 수지나 불소 수지 등의 접착제로 접착한다(특허문헌2 참조). 또한, 펠리클 프레임의 하부에는 노광원판이 장착되기 때문에, 폴리브텐 수지, 폴리초산비닐수지, 아크릴수지 또는 실리콘수지 등으로 이루어지는 점착층, 및 점착층의 보호를 목적으로 한 레티클 점착제 보호용 라이너를 설치한다.

펠리클은 노광원판의 표면에 형성된 패턴 영역을 둘러싸도록 설치된다. 펠리클은 노광원판 상에 먼지가 부착되는 것을 방지하기 위해서 설치되는 것이므로, 이 패턴 영역과 펠리클 외부는 펠리클 외부의 진애가 패턴면에 부착되지 않도록 격리되어 있다.

최근, LSI의 디자인 룰은 서브 쿼터 미크론(sub quarter micron)으로 미세화가 진행되고 있고, 그것에 따라 노광 광원의 단파장화가 진행되고 있다, 즉, 지금까지 주류였던 수은 램프에 의한 g선(436㎚), i선(365㎚)으로부터 KrF 엑시머 레이 저(248㎚), ArF 엑시머 레이저(193㎚), F₂ 레이저(157㎚) 등으로 이행되고 있다. 노광의 단파장화가 진행되어 노광 해상도가 높아지면, 지금까지는 문제가 안되었던 패턴의 왜곡이나 변형까지도 수율에 영향을 미치는 것이 우려되고 있다. 패턴의 왜곡이나 변형은 노광원판 자체의 왜곡이나 변형에 따르는 경우가 크다. 상기 문제점의 주원인으로 펠리클 부착에 따른 왜곡 변형을 들 수 있다.

펠리클 부착에 따른 노광원판으로의 악영향은 펠리클 자체의 변형이나 왜곡이 영향을 주는 것을 알 수 있다.

[특허문헌1] 일본 특허 공개 소58-219023호 공보

[특허문헌2] 미국 특허 제4861402호 명세서

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것이다. 즉, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 변형이나 왜곡을 저감한 리소그래피용 펠리클을 제공하는 것이다.

상기 과제는 이하의 (1)에 기재된 수단에 의해 해결되었다. 본 발명의 바람직한 실시형태인 (2)~(7)과 함께 이하에 열기한다.

(1) 직사각형의 펠리클 프레임의 두 장변의 양단 근방에 형성되어 있는 적어도 2개의 지그 구멍이 모두 각 장변 중 어느 하나의 단부로부터 10㎜ 이내에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클,

(2) (1)에 있어서, 상기 펠리클 프레임의 장변의 길이가 140㎜ 이상 300㎜ 이하인 리소그래피용 펠리클,

(3) (1) 또는 (2)에 있어서, 상기 펠리클 프레임의 장변의 길이가 140㎜ 이상 230㎜ 이하인 리소그래피용 펠리클,

(4) (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 있어서, 상기 펠리클 프레임의 두 장변의 양단 근방에 형성되어 있는 복수개의 지그 구멍의 마주 대하는 1쌍의 지그 구멍이 프레임 장변 방향으로 연장된 긴 구멍으로 되어 있는 리소그래피용 펠리클,

(5) (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 있어서, 상기 펠리클 프레임이 흑색 알루마이트 피막을 갖는 알루미늄합금제 펠리클 프레임인 리소그래피용 펠리클,

(6) (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 있어서, 상기 펠리클 프레임이 폴리머의 전착 도장막을 갖는 알루미늄합금제 펠리클 프레임인 리소그래피용 펠리클,

(7) (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 있어서, 상기 펠리클 프레임의 높이가 5㎜ 이하인 리소그래피용 펠리클.

<발명의 효과>

직사각형의 펠리클 프레임의 두 장변의 양단 근방에 형성되어 있는 적어도 2개의 지그 구멍이 모두 각 장변 중 어느 하나의 단부로부터 10㎜ 이내에 형성되어 있음으로써 펠리클 제조용 지그로 펠리클 프레임을 고정할 때에 생기는 프레임의 왜곡과 변형을 종래와 비교해서 저감하는 것이 가능하게 되었다.

본 발명의 리소그래피용 펠리클(이하, 단지 「펠리클」이라고도 한다.)은 직사각형의 펠리클 프레임(이하, 단지 「프레임」이라고도 한다.)의 두 장변의 양단 근방에 형성되어 있는 적어도 2개의 지그 구멍이 모두 각 장변 중 어느 하나의 단부로부터 10㎜ 이내에 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.

즉, 본 발명의 리소그래피용 펠리클은 직사각형의 펠리클 프레임의 일단면에 펠리클 막 접착제를 통해서 펠리클 막을 펼쳐 설치하고, 타단면에 노광원판 접착제를 형성한 리소그래피용 펠리클로서, 상기 펠리클 프레임의 2개의 장변의 양단 근방에 각각 설치되어 있다, 각 장변당 적어도 2개의 지그 구멍이 각 장변 중 어느 하나의 단부로부터 10㎜ 이내에 형성되어 있는 것을 특징으로 한다. 상기 지그 구멍은 펠리클의 제조 및 그 후에 노광원판에 부착되거나 박리되거나 하는 핸들링에 유효하게 사용할 수 있다. 지그 구멍은 각 장변 중 어느 하나의 단부로부터 등거리에 있는 것이 바람직하고, 2~10㎜의 위치에 형성되어 있는 것이 바람직하다.

또한, 지그 구멍이 장변의 단부로부터 10㎜ 이내에 형성되어 있다는 것은 원형 지그 구멍의 중심, 또는, 긴 구멍 지그 구멍의 장변 방향의 중앙부가 10㎜ 이하에 형성되어 있는 것을 의미하고, 지그 구멍 전체가 10㎜ 이내에 형성되어 있지 않아도 된다.

또한, 마주 대하는 1쌍의 지그 구멍이 장변 방향으로 긴 구멍의 구조인 것이 바람직하다. 마주 대하는 2쌍의 지그 구멍의 1쌍은 원형의 지그 구멍이고 다른 1쌍이 긴 구멍의 구조를 갖는 것이 보다 바람직하다.

원형 및 긴 구멍 중 어느 지그 구멍도 관통 구멍이 아니다. 원형의 지그 구멍은 원기둥의 앞에 원추가 접속된 오목부인 것이 바람직하다.

본 발명의 펠리클에 있어서 상기 펠리클 프레임은 장변의 길이가 140㎜ 이상 300㎜ 이하인 것이 바람직하고, 140㎜ 이상 230㎜ 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 펠리클 프레임의 높이는 5㎜ 이하인 것이 특히 바람직하다. 본 발명에 있어서 이들 펠리클에 대해서 지그 구멍을 적용함으로써 종래와 비교해서 비약적으로 왜곡, 변형이 적은 펠리클을 제공할 수 있었다.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명을 상세하게 설명한다.

도 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 리소그래피용 펠리클(10)은 펠리클 프레임(3)의 상단면에 펠리클 막 부착용 접착층(2)을 통해서 펠리클 막(1)을 펼쳐 설치한 것으로, 이 경우, 펠리클(10)을 노광원판(마스크 기판 또는 레티클)(5)에 점착시키기 위한 접착용 점착층(4)이 통상 펠리클 프레임(3)의 하단면에 형성되고, 상기 레티클 접착용 점착층(4)의 하단면에 라이너(도면에 나타내지 않음)를 박리 가능하게 점착하여 이루어지는 것이다. 또한, 펠리클 프레임(3)에 기압 조정용 구멍(통기구)(6)이 형성되어 있고, 또한 미립자 제거를 목적으로 제진용 필터(7)가 설치되어 있어도 된다.

이 경우, 이들 펠리클 구성 부재의 크기는 통상의 펠리클, 예컨대 반도체 리소그래피용 펠리클, 대형 액정 표시판 제조 리소그래피 공정용 펠리클 등과 같고, 또한, 그 재질도 상술한 바와 같은 공지의 재질로 할 수 있다.

펠리클 막의 종류에 대해서는 특별히 제한은 없고, 예컨대 종래 엑시머 레이저용으로 사용되고 있는 비정질 불소 폴리머 등이 이용된다. 비정질 불소 폴리머의 예로서는 사이톱(아사히 가라스(주) 제작 상품명), 테플론(등록상표)AF(듀퐁사 제작 상품명) 등을 들 수 있다. 이들 폴리머는 그 펠리클 막 제작시에 필요에 따라서 용매에 용해해서 사용해도 되고, 예컨대 불소계 용매 등으로 적절히 용해할 수 있다.

본 발명에 있어서 사용되는 펠리클 프레임의 모재에 관해서는 종래 사용되고 있는 알루미늄합금재, 바람직하게는 JIS A7075, JIS A6061, JIS A5052재 등이 이용되지만, 알루미늄합금재이면 펠리클 프레임으로서의 강도가 확보되는 한 특별히 제한은 없다. 펠리클 프레임 표면은 폴리머 피막을 형성하기 전에 샌드블라스트나 화학 연마에 의해 조화(粗化)하는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서 이 프레임 표면의 조화의 방법에 대해서는 종래 공지의 방법을 채용할 수 있다. 알루미늄합금재에 대해서 스테인레스, 카보란덤(carborundum), 그라스비드 등에 의해 표면을 블라스트 처리하고, 또한 NaOH 등에 의해 화학 연마를 행하고, 표면을 조화하는 방법이 바람직하다.

도 2는 펠리클 프레임의 1개의 장변을 그 정면으로부터 바라본 것이다. 도 2에 나타내어져 있는 4개의 지그 구멍은 외측의 2개의 지그 구멍(11,11A)이 본 발명에 의한 지그 구멍이고, 내측의 2개의 지그 구멍(12,12)이 종래부터 형성되어 있는 것이다. 도 2의 가장 우측의 지그 구멍(11A)은 장변 방향으로 긴 구멍 형상으로 되어 있지만, 마주 대하는 1쌍의 지그 구멍이 장변 형상이면, 좌우 중 어디에 형성되어 있어도 된다. 장변 형상은 직사각형의 양단에 반원이 접합한 형상인 것이 바람직하다.

지그 구멍의 깊이 방향의 형상은 특정되지 않고, 관통도 되지 않으면, 원기둥의 앞에 테이퍼를 갖는 오목부이어도 좋다.

도 3은 제조 지그에 고정된 펠리클 프레임을 나타낸 것이다. 제조 지그(13)는 4개의 핀(14,15)에 의해 펠리클 프레임(3)을 고정하는 구조로 되어 있다. 제조 지그의 핀 선단은 3㎜φ의 원기둥으로부터 45°의 테이퍼 형상으로 되어 있다. 또한, 바람직하게는 한쪽의 장변에 형성된 2개의 지그 구멍(11,11A)은 고정 핀(14)에 의해 제조 지그(13)에 고정되고, 다른 장변에 형성된 2개의 지그 구멍(11,11A)은 스프링 기구를 갖는 고정 핀(15)에 의해 제조 지그(13)에 고정된다. 어느 고정 핀도 선단에 테이퍼 형상을 갖는 테이퍼 핀인 것이 바람직하다. 스프링 기구를 갖는 핀은 펠리클 프레임의 지그 구멍의 삽입 방향으로 가해지는 힘이 최소한으로 되는 설계로 되어 있다. 펠리클 프레임이 가열 등에 의해 팽창되었을 경우, 단변 방향으로 팽창하는 요소에 대해서는 상기 핀의 스프링 구조에 의해 도피하는 것이 가능하 고, 장변 방향의 팽창에 관해서는 프레임에 형성된 마주 대하는 1쌍의 긴 구멍 내에서 테이퍼 핀의 선단이 펠리클 프레임에 대해서 상대적으로 이동 가능하게 함으로써 펠리클 프레임에 여분의 힘을 가해지지 않고 펠리클 프레임을 제조 지그의 내부에서 그 양측으로부터 계속해서 협지할 수 있게 된다.

본 발명의 펠리클은 채용이 증가되고 있는 장변이 140㎜ 이상이고, 프레임 높이가 5㎜ 이하의 박형 펠리클에 대해서 특히 우위성을 발휘할 수 있다. 프레임 높이는 바람직하게는 1~5㎜, 보다 바람직하게는 2~5㎜이다. 펠리클 프레임의 장변의 상한에 특별히 제한은 없지만, 상술한 바와 같이, 300㎜ 이하인 것이 바람직하고, 230㎜ 이하인 것이 보다 바람직하다. 펠리클 프레임의 단변은 장변과 동일한 길이 이하이면 특별히 제약은 없다. 이들 펠리클 프레임은 매우 변형되기 쉬운 구조이므로, 핸들링을 위한 지그 구멍을 코너 부근에 형성함으로써, 조금이라도 강도가 높은 부분에서 프레임을 파지하는 것이 가능하게 된다. 또한, 프레임 장변의 길이가 길게 될수록 가열시 등의 프레임 팽창이 커지므로, 프레임 장변 방향의 길이 변화를 흡수하는 회피부를 확보하는 것이 중요해진다.

지그 구멍의 직경은 적절히 선택할 수 있지만, 바람직하게는 1~2㎜이고, 긴 구멍으로 할 경우에는 1~2㎜ 횡으로 길게 하는 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서 펠리클 프레임이 흑색 알루마이트 피막 및/또는 폴리머 피막을 갖는 것이 바람직하고, 폴리머의 전착 도장막을 갖는 것이 보다 바람직하다. 또한, 펠리클 프레임은 알루미늄합금제 펠리클 프레임인 것이 바람직하고, 흑색 알루마이트 피막 및/또는 폴리머의 전착 도장막을 갖는 알루미늄합금제 펠리클 프레 임인 것이 특히 바람직하다.

펠리클 프레임 표면의 흑색 알루마이트 피막의 형성 방법으로서는 일반적으로 NaOH 등의 알칼리 처리 욕에서 수십초 처리한 후, 희황산 수용액 중에서 양극 산화를 행하고, 다음으로 흑색 염색, 봉공(封孔) 처리함으로써 표면에 흑색의 산화 피막을 형성할 수 있다.

또한, 폴리머 피막(폴리머 코팅)은 여러가지 방법에 의해 형성할 수 있지만, 일반적으로 스프레이 도장, 정전 도장, 전착 도장 등을 들 수 있다. 본 발명에서는 전착 도장에 의해 폴리머 피막을 형성하는 것이 바람직하다.

전착 도장에 대해서는 열경화형 수지나 자외선 경화형 수지 모두 사용가능하다. 또한, 각각에 대해서 음이온 전착 도장, 양이온 전착 도장 모두 사용가능하다. 본 발명에서는 내자외선 성능도 요구되기 때문에, 열경화형 수지의 음이온 전착 도장이 코팅의 안정성, 외관, 강도의 점으로부터 바람직하다.

전착 도장한 폴리머 피막의 두께는 5~30㎛인 것이 바람직하고, 5~20㎛인 것이 보다 바람직하다.

이들의 목적으로 사용하는 도장 장치나 전착 도장용 도료는 몇개의 일본 회사로부터 시판품으로서 구입해 사용할 수 있다. 예컨대, (주)시미즈로부터 에레코트의 상품명으로 시판되고 있는 전착 도료를 예시할 수 있다. 「에레코트 프로스티 W-2」나 「에레코트 프로스티 ST 사티나」는 윤기 제거 타입의 열경화형 음이온 타입의 전착 도료이며, 본 발명에 바람직하게 사용할 수 있다.

폴리머 피막이 흑색 윤기 제거 전착 도장막일 경우, 그 방사율이 0.80~0.99 인 것이 바람직하다. 여기서, 「방사율」이란 흑체(그 표면에 입사하는 모든 파장을 흡수하고, 반사도 투과도 하지 않는 이상의 물체)를 기준으로 한 전방사 에너지(P)와 물체가 방사하는 에너지(P1)의 비율로 구해지는 것(P1/P)을 의미하고, 재팬 센서(주) 제작의 방사 측정기 TSS-5X에 의해 측정한 값이다.

[실시예]

이하에 실시예에 의해 구체적으로 본 발명을 예시해서 설명한다. 또한, 실시예 및 비교예에 있어서의 「마스크」는 「노광원판」의 예로서 기재한 것이며, 레티클에 대해서도 마찬가지로 적용할 수 있는 것은 말할 필요도 없다.

(실시예1)

펠리클 프레임으로서 프레임 외측 치수 150㎜×122㎜×3.5㎜, 프레임 두께 2㎜의 흑색 알루마이트를 실시한 프레임을 준비했다. 프레임 장변에 핸들링용 지그 구멍의 중심을 프레임 장변 센터 경계에서 135㎜ 피치, 막 접착제 도포 끝면으로부터 1.75㎜가 되는 위치에 펠리클 프레임 외측으로부터 구멍지름 1.6㎜φ, 깊이 1.2㎜의 지그 구멍을 형성했다(장변 양단부로부터 7.5㎜). 또한, 마주 대하는 1쌍의 지그 구멍의 가로방향 양측을 0.8㎜씩 확대하고, 3.2㎜×1.6㎜의 긴 구멍으로 했다. 이 프레임의 평탄도를 (주) 미쯔토요 제작의 3차원 측정기 BH506으로 측정한 결과 6㎛이었다. 135피치의 지그 구멍에 대응하는 제조 지그에 상기 프레임을 세트하고, 종래의 펠리클 제조 공정에 따라 마스크 접착제를 도포해서 60분 정치(靜置) 후, 고주파 유도 가열 장치로 가열을 행하였다. 막 접착제를 도포 건조 후, 펠리클 막을 맞붙여서 펠리클을 완성시켰다. 완성 후의 펠리클로부터 마스크 접착제를 박 리해서 (주) 미쯔토요 제작의 3차원 측정기 BH506을 사용해서 평탄도를 측정한 결과 9㎛이었다.

또한, 상기의 「평탄도」란 펠리클 프레임 가상 평면으로부터의 요철의 Max, Min 차를 더한 것에 의해 정의되는 크기이다.

(실시예2)

펠리클 프레임으로서 프레임 외측 치수 149㎜×115㎜×3.5㎜, 프레임 두께 2㎜의 전착 폴리머 코트를 실시한 프레임을 준비했다. 프레임 장변에 실시예 1과 마찬가지로 핸들링용 지그 구멍을 형성했다. 이 프레임의 평탄도를 (주) 미쯔토요 제작의 3차원 측정기 BH506으로 측정한 결과 8㎛이었다. 135피치의 지그 구멍에 대응하는 제조 지그에 상기 프레임을 세트하고, 종래의 펠리클 제조 공정에 따라 마스크 접착제를 도포해서 60분 정치 후, 고주파 유도 가열 장치로 가열을 행하였다. 막 접착제를 도포 건조 후, 펠리클 막을 맞붙여서 펠리클을 완성시켰다. 완성 후의 펠리클로부터 마스크 접착제를 박리하여 (주) 미쯔토요 제작의 3차원 측정기 BH506을 사용해서 평탄도를 측정한 결과 9㎛이었다.

(실시예3)

펠리클 프레임으로서 프레임 외측 치수 149㎜×113㎜×4.5㎜, 프레임 두께 2㎜의 흑색 알루마이트를 실시한 프레임을 준비했다. 프레임 장변에 실시예 1과 마찬가지로 핸들링용 지그 구멍을 형성했다. 이 프레임의 평탄도를 (주) 미쯔토요 제작의 3차원 측정기 BH506으로 측정한 결과 6㎛이었다. 135피치의 지그 구멍에 대응하는 제조 지그에 상기 프레임을 세트하고, 종래의 펠리클 제조 공정에 따라 마스 크 접착제를 도포해서 60분 정치 후, 고주파 유도 가열 장치로 가열을 행하였다. 막 접착제를 도포 건조 후, 펠리클 막을 맞붙여서 펠리클을 완성시켰다. 완성 후의 펠리클로부터 마스크 접착제를 박리하여 (주) 미쯔토요 제작의 3차원 측정기 BH506을 사용해서 평탄도를 측정한 결과 6㎛이었다.

(비교예1)

펠리클 프레임으로서 프레임 외측 치수 150㎜×122㎜×3.5㎜, 프레임 두께 2㎜의 흑색 알루마이트를 실시한 프레임을 준비했다. 프레임 장변에 핸들링용 지그 구멍의 중심을 프레임 장변 센터 경계에서 135피치, 막 접착제 도포 끝면으로부터 1.75㎜가 되는 위치에 구멍지름 1.6φ, 깊이 1.2의 지그 구멍을 형성했다. 이 프레임의 평탄도를 (주) 미쯔토요 제작의 3차원 측정기 BH506으로 측정한 결과 6㎛이었다. 135피치의 지그 구멍에 대응하는 제조 지그에 상기 프레임을 세트하고, 종래의 펠리클 제조 공정에 따라 마스크 접착제를 도포해서 60분 정치 후, 고주파 유도 가열 장치로 가열을 행하였다. 막 접착제를 도포 건조 후, 펠리클 막을 맞붙여서 펠리클을 완성시켰다. 완성 후의 펠리클로부터 마스크 접착제를 박리하여 (주) 미쯔토요 제작의 3차원 측정기 BH506을 사용해서 평탄도를 측정한 결과 25㎛이었다.

(비교예2)

펠리클 프레임으로서 프레임 외측 치수 150㎜×122㎜×3.5㎜, 프레임 두께 2㎜의 흑색 알루마이트를 실시한 프레임을 준비했다. 프레임 장변에 핸들링용 지그 구멍의 중심을 프레임 장변 센터 경계에서 104피치, 막 접착제 도포 끝면으로부터 1.75㎜가 되는 위치에 구멍지름 1.6φ, 깊이 1.2의 지그 구멍을 형성했다. 이 프레 임의 평탄도를 (주) 미쯔토요 제작의 3차원 측정기 BH506으로 측정한 결과 7㎛이었다. 135피치의 지그 구멍에 대응하는 제조 지그에 상기 프레임을 세트하고, 종래의 펠리클 제조 공정에 따라 마스크 접착제를 도포해서 60분 정치 후, 고주파 유도 가열 장치로 가열을 행하였다. 막 접착제를 도포 건조 후, 펠리클 막을 맞붙여서 펠리클을 완성시켰다. 완성 후의 펠리클로부터 마스크 접착제를 박리하여 (주) 미쯔토요 제작의 3차원 측정기 BH506을 사용해서 평탄도를 측정한 결과 55㎛이었다.

도 1은 펠리클의 구성예를 나타내는 설명도이다.

도 2는 펠리클 프레임 장변과 지그 구멍을 나타낸 도면이다.

도 3은 펠리클 제조 지그에 파지된 펠리클 프레임을 나타낸 도면이다.

(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)

1: 펠리클 막 2: 접착층

3: 펠리클 프레임 4: 점착층

5: 노광원판 6: 기압 조정용 구멍(통기구)

7: 제진용 필터 10: 펠리클

11: 지그 구멍(원형)(본 발명) 11A: 지그 구멍(긴 구멍)(본 발명)

12: 지그 구멍(종래기술) 13: 제조 지그

14: 핀(고정식) 15: 핀(스프링 기구 부착)

Claims

직사각형의 펠리클 프레임의 두 장변의 양단 근방에 형성되어 있는 2개 이상의 지그 구멍은 모두 각 장변의 어느 하나의 단부로부터 10㎜ 이내에 형성되어 있으며,

상기 펠리클 프레임의 두 장변의 양단 근방에 형성되어 있는 복수개의 지그 구멍의 마주 대하는 1쌍의 지그 구멍은 프레임 장변 방향으로 연장된 구멍으로 되어 있는 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클.
제 1 항에 있어서, 상기 펠리클 프레임의 장변의 길이가 140㎜ 이상 300㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 펠리클 프레임의 장변의 길이가 140㎜ 이상 230㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클.
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 펠리클 프레임은 흑색 알루마이트 피막을 갖는 알루미늄합금제 펠리클 프레임인 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 펠리클 프레임은 폴리머의 전착 도장막을 갖는 알루미늄합금제 펠리클 프레임인 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 펠리클 프레임의 높이가 5㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클.
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제 3 항에 있어서, 상기 펠리클 프레임은 흑색 알루마이트 피막을 갖는 알루미늄합금제 펠리클 프레임인 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클.
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제 3 항에 있어서, 상기 펠리클 프레임은 폴리머의 전착 도장막을 갖는 알루미늄합금제 펠리클 프레임인 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클.
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제 3 항에 있어서, 상기 펠리클 프레임의 높이가 5㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클.
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제 5 항에 있어서, 상기 펠리클 프레임의 높이가 5㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클.
제 6 항에 있어서, 상기 펠리클 프레임의 높이가 5㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클.