JP2011005415A - 流動層装置 - Google Patents

Abstract

【課題】集塵用フィルタのメンテナンス作業を良好な作業環境にて容易に行うことができ、装置占有面積を小さく抑え得る流動層装置を提供する。
【解決手段】流動層装置１では、流動ケーシングユニット６は水平方向にスウィング移動可能に支持台３に取り付けられる。フィルタケーシングユニット５は、セット位置Ｘとメンテナンス位置Ｙとの間を上下移動可能なように支持台３に取り付けられる。流動ケーシングユニット５を水平方向にスウィング移動させ、フィルタケーシングユニット５をメンテナンス位置Ｙに配したとき、カートリッジフィルタ１５が給気ユニット８の給気室２７内に進入した状態となる。給気室２７内にてフィルタ１５を取り外すと、フィルタ１５はフィルタ受け１１５上に載置される。その後、フィルタケーシング５を上昇させ、給気ユニット８内のカートリッジフィルタ１５を運び出して交換等を行う。
【選択図】図１７

Description

本発明は、粉粒体の造粒、コーティング等に使用される流動層装置に関し、特に、集塵用フィルタのメンテナンス作業が容易な流動層装置に関する。

医薬品や化粧品、食品などの分野では、粉末や顆粒等の粉粒体を気体流によって流動化し、造粒、コーティング、混合、撹拌、乾燥等の処理を行う流動層装置が広く使用されている。一般に、流動層装置では、円筒状の処理容器内に粉末等の被処理物を投入し、処理容器内に流動気体を供給して粉粒体を流動化させる。流動化された粉粒体にはバインダ液やコーティング液等がスプレーノズルにて供給され、造粒やコーティング等の処理が実施される。その際、処理中に発生した粉塵は、装置外に排出しないように、集塵用フィルタによって粉塵と空気に分離されている。

このような集塵用フィルタとしては、バグフィルタやカートリッジフィルタが多く用いられているが、濾過効率や洗浄性の面から、近年、カートリッジフィルタの利用が増加している。カートリッジフィルタは、フィルタケーシングの上端部に設置される天板に支持固定され、天板からケーシング内に吊設される形で配置される。カートリッジフィルタの交換や洗浄は、フィルタを支持天板ごとフィルタケーシングから分離・下降させ、作業員の手の届く位置までフィルタを降ろした状態で行われる。

また、フィルタの交換・洗浄を容易にするため、フィルタケーシングを支持部材に対し回転可能に配した装置も提案されている。例えば、特許文献１の装置では、フィルタケーシングは、ライザに取り付けられた支持部材により回転自在に取り付けられており、上方を排気室のカバー、下方を粉粒体が収容されたバスケットに挟まれた状態でセッティングされる。フィルタケーシングは、側部支柱によって支持部材に回転自在に支持されている。当該装置では、粉粒体処理が終了し、フィルタの交換・洗浄を行う場合には、フィルタケーシングを上下反転させて下降させる。このようにフィルタケーシングを反転・下降させることにより、ケーシング上端部に取り付けられたフィルタが作業がし易い位置まで降ろされ、フィルタ交換等の作業を行うことが可能となる。

特表2005-530601号公報 特表平08-508931号公報

しかしながら、従来の一般的な流動層装置のように、フィルタを装置下部に降ろして交換等の作業を行う装置では、作業者がフィルタの粉塵捕集面と直接対面する形で作業が行われる。このため、フィルタメンテナンス時に作業者が粉まみれになる場合があり、作業環境が良くないという問題があった。これに対し、特許文献１の装置では、フィルタケーシングが反転・下降された状態でフィルタ交換等の作業が行われるため、フィルタの二次側面（粉塵捕集面に対して下流側の面）から作業を行うことができ、従来の装置に比して作業環境的には好ましい状態と言える。ところが、特許文献１の装置では、フィルタケーシングが回転しつつ下降するため、ケーシングが回転可能なスペースを装置周囲に確保する必要があり、その分、装置の占有面積が大きくなってしまうという問題があった。

本発明の目的は、集塵用フィルタのメンテナンス作業を良好な作業環境にて容易に行うことができ、しかも、装置占有面積を小さく抑え得る流動層装置を提供することにある。

本発明の流動層装置は、気体供給源から処理気体が供給される給気室を内部に備えた給気ユニットと、前記給気ユニットの上方に配置され、被処理物が収容される原料容器コンテナと、前記原料容器コンテナの上方に配置され、前記被処理物が処理気体により浮遊流動する流動ケーシングユニットと、前記流動ケーシングユニットの上方に配置され、処理気体濾過用のフィルタが配置されたフィルタケーシングユニットと、前記流動ケーシングユニット及び前記フィルタケーシングユニットを支持する支持台と、を有する流動層装置であって、前記流動ケーシングユニットは、水平方向にスウィング移動可能なように前記支持台に取り付けられ、前記フィルタケーシングユニットは、前記被処理物の処理を行う上方位置と、前記フィルタのメンテナンス作業を行う下方位置との間を上下移動可能なように前記支持台に取り付けられ、前記流動ケーシングユニットを水平方向にスウィング移動させることにより上下方向に移動可能となり、前記フィルタは、前記フィルタケーシングユニットを前記下方位置に配したとき、前記給気室内に進入した状態となることを特徴とする。

本発明の流動層装置にあっては、フィルタメンテナンス作業時にフィルタケーシングユニットを下方位置に移動させると、フィルタが給気ユニットの給気室内に進入した状態となり、そこでフィルタの取り外しを行うことができる。このため、フィルタを低位置でメンテナンスでき、高位置での作業に比して作業性が大幅に改善される。また、作業者は、二次側からフィルタを取り外すことができるため、フィルタ取り外し時に作業者が受ける粉塵量が抑えられる。さらに、フィルタケーシングを反転させずに下降させるため、装置の占有面積を小さく抑えることができ、粉塵飛散やスプレーノズルの液だれなどのケーシング反転に伴う諸問題も生じない。

前記流動層装置において、前記給気ユニットの前記給気室内に前記フィルタを載置可能なフィルタ受け部材を設け、前記下方位置にある前記フィルタケーシングユニットから前記フィルタを取り外したとき、前記フィルタを前記フィルタ受け部材上に載置するようにしても良い。このフィルタ受け部材により、フィルタケーシングユニットから取り外されたフィルタは、床面まで落下することなく、給気ユニット内にて立った状態で支持される。

また、前記支持台に取り付けられた昇降機構によって前記フィルタケーシングユニットを上下移動可能に設置し、この昇降機構に、モータによって上下方向に駆動され、前記支持台に形成された上下方向に延びる開口に臨んで前記支持台の内部側に配置される昇降板と、前記支持台の外部側に配置され、前記開口部を介して前記昇降板と接続されたシールスライダと、前記シールスライダと前記フィルタケーシングユニットとの間を接続するブラケットアームと、前記開口部を覆うように取り付けられ、前記シールスライダ内を通って上下方向に延びるシートカバーと、を設けても良い。これにより、昇降機構の設置に伴って生じる開口部をシートカバーにて塞ぐことができ、開口部から洗浄水や粉粒体が装置内に進入するのを防止できる。

さらに、前記流動ケーシングユニットが、前記被処理物に対し液体を噴霧するスプレー装置が配置されたスプレーケーシングユニットであっても良い。

本発明の流動層装置によれば、給気ユニットと原料容器コンテナ、流動ケーシングユニット、フィルタケーシングユニット及び支持台を有する流動層装置にて、フィルタケーシングユニットを上方位置と下方位置との間にて上下方向に移動可能に取り付け、フィルタケーシングユニットを下方位置に配したとき、フィルタが給気ユニットの給気室内に進入した状態となるようにしたので、フィルタメンテナンス作業の際、フィルタを下方位置に移動させ、そこでフィルタの取り外しを行うことができる。このため、フィルタを低位置でメンテナンスでき、高位置での作業に比して作業性を大幅に改善することが可能となる。また、作業者が二次側からフィルタを取り外すことができるため、フィルタ取り外し時に作業者が受ける粉塵量が抑えられ、作業環境の改善を図ることが可能となる。さらに、フィルタケーシングを反転させずに下降させるため、装置の占有面積を小さく抑えることができ、粉塵飛散やスプレーノズルの液だれなどのケーシング反転に伴う諸問題も防止することが可能となる。

本発明の一実施例である流動層装置の外観を示す正面図である。 図１の流動層装置の側面図である。 ロック金具の構成を示す説明図である。 ロック金具による締結部の構成を示す説明図である。 粉塵爆発時におけるシール部材の状態を示す説明図である。 昇降機構の構成を示す側面図である。 昇降機構の正面図である。 昇降機構の平面図である。 シールスライダの構成を示す正面図である。 シールスライダの側面図である。 シールスライダの下面図である。 図９のＡ−Ａ線に沿った断面図である。 図９のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 エンドブロックの構成を示す図面であり、（ａ）はその正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は（ａ）のＣ−Ｃ線に沿った断面図である。 開口部におけるシートカバーの取付状態を示す説明図である。 目皿板ホルダの構成を示す説明図である。 カートリッジフィルタのメンテナンス作業（交換・洗浄）の過程を示す説明図である。 カートリッジフィルタが給気ユニット内に収容された状態を示す説明図である。

以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明の一実施例である流動層装置の外観を示す正面図、図２は、図１の流動層装置の側面図である。図１の流動層装置１は、例えば、顆粒状の医薬品や食品等の製造に使用され、装置内では、処理気体によって流動化された粉粒体にバインダ液やコーティング液が噴霧される。

流動層装置１には、原料材となる粉粒体が収容され、所望の造粒コーティング処理等が行われる円筒状の処理容器２が設けられている。処理容器２はステンレス鋼にて形成されており、図１,２に示すように、支持台３によって支持されている。流動層装置１の処理容器２は、上から順に、カバーユニット４、フィルタケーシングユニット５、流動ケーシングユニット６、原料容器コンテナユニット７及び給気ユニット８の各ユニットを重ねて配置した構成となっている。粉粒体処理時には、カバーユニット４とフィルタケーシングユニット（以下、フィルタケーシングと略記する）５間など各ユニット間は、ロック金具３１ａ〜３１ｄを用いて締結される。各ユニット間には、リング状のシール部材が介設されており、気密状態で接続される。

カバーユニット４は、カバーブラケット１１によって支持台３に固定支持されている。カバーユニット４の側面には、排気口１２が形成されている。この排気口１２には、図示しない排気ダクトが接続される。カバーユニット４の下面側には、フィルタケーシング５が取り付けられる。フィルタケーシング５は、流動ケーシングユニット（以下、流動ケーシングと略記する）６とは別に形成されている。カバーユニット４とフィルタケーシング５との間は、駆動装置（アクチュエータ）付のロック金具３１ａによって締結される。図３は、ロック金具３１ａの構成を示す説明図である。図３に示すように、ロック金具３１ａは、ロータリーアクチュエータ３２によって、ロック状態のセットと解除が行えるようになっている。これにより、作業員の手が届かない装置上部に位置するロック金具３１が遠隔操作可能となり、作業の効率化が図られる。

ロック金具３１ａは、周方向に沿って４個配置されている。ロック金具３１ａには、略Ｃ字形に形成されたロック爪３３ａが設けられている。ロック爪３３ａの上端部には、回転軸３４の下端部が固定されている。回転軸３４の上端部はエンドブロック３５が固定されており、エンドブロック３５は、ロータリーアクチュエータ３２のロータリーテーブル３６に固定されている。ロータリーアクチュエータ３２は、空気圧ポート３７から供給される圧縮空気にて駆動される。空気圧ポート３７は２個設けられており、各ポートから供給される空気圧によって、ロータリーテーブル３６が９０°正逆回転する。ロータリーアクチュエータ３２は金属製のケース３８に収容固定されており、ケース３８は、カバーユニット４に設けられたアクチュエータ取付部３９にボルト４１によって固定されている。

このようなロック金具３１ａでは、ロータリーアクチュエータ３２を作動させるとロータリーテーブル３６が回転し、ロック爪３３ａが作動する。すなわち、図示しないコンプレッサ等からロータリーアクチュエータ３２の一方の空気圧ポート３７に対し気体を供給すると、回転軸３４が回り（正転方向）、ロック爪３３ａが回転軸３４を中心に回転する。これにより、ロック爪３３ａは図３の状態となり、カバーユニット４下端部のフランジ部４２とフィルタケーシング５上端部のフランジ部４３を挟み込む位置で回転が停止する。すなわち、ロック金具３１ａはロック可能状態となり、カバーユニット４とフィルタケーシング５がロック金具３１ａによって締結可能な状態となる。一方、ロータリーアクチュエータ３２の他方の空気圧ポート３７に対し気体を供給すると、回転軸３４が先程とは逆方向に回転する（逆転方向）。これにより、ロック爪３３ａがフランジ部４２,４３から外れ、ロック金具３１ａはロック解除状態となる。

なお、他のロック金具３１ｂ,３１ｃ,３１ｄも、ロック金具３１ａと同様に、周方向に沿って４個配置されており、ロック爪３３ｂ,３３ｃ,３３ｄを備えている。ロック爪３３ｂ,３３ｃ,３３ｄはそれぞれ、フィルタケーシング５や流動ケーシング６や原料容器コンテナユニット（以下、原料容器コンテナと略記する）７に回転自在に取り付けられている。また、流動ケーシング６や原料容器コンテナ７や給気ユニット８の上端にはそれぞれ、フランジ部４４,４５,４９が設けられている。ロック金具３１ｂ,３１ｃ,３１ｄにはエアシリンダ等のアクチュエータは接続されておらず、作業員が手動によりロック爪３３ｂ,３３ｃ,３３ｄをフランジ部４４,４５,４９に係合させる。これにより、フィルタケーシング５と流動ケーシング６、流動ケーシング６と原料容器コンテナ７が、原料容器コンテナ７と給気ユニット８が、それぞれ上下方向に分離しないように締結可能な状態となる。なお、ロック爪３３ｂ,３３ｃ,３３ｄは流動ケーシング６、原料容器コンテナ７の回転あるいは移動の妨げにならない位置に固定して取り付けることもできる。

図４は、ロック金具３１ａによる締結部の構成を示す説明図である。なお、他のロック金具３１ｂ,３１ｃ,３３ｄによる締結部もこれと同様の構成となっている。図４に示すように、カバーユニット４とフィルタケーシング５の間には、シリコンゴムにて形成されたリング状のシール部材４６が介設されている。フィルタケーシング５側のフランジ部４３には、シール溝４７が形成されており、シール溝４７内にはシール部材４６が収容される。シール部材４６の上端面４６ａは凹凸状に形成されている。また、シール部材４６の下部側には、Ｕ字溝４６ｂが形成されている。Ｕ字溝４６ｂの両側には、側壁部４６ｃ,４６ｄが設けられている。シール溝４７の下面には、気体供給孔４８が設けられている。この気体供給孔４８からシール溝４７内に気体を供給すると、シール部材４６が上方に押し上げられる。これにより、シール部材４６の上端面４６ａがフランジ部４２の下面４２ａに圧接され、カバーユニット４とフィルタケーシング５の間が気密状態となる。

ロック金具３１ａのロック爪３３ａは、若干の遊び（５ｍｍ程度）を有した状態でフランジ部４３と係合する。この状態で、例えば、処理容器２内にて粉塵爆発などが生じると、カバーユニット４がフィルタケーシング５から分離する方向に力が働く。しかしながら、カバーユニット４は、若干上方に移動したところでロック爪３３ａに保持される。このため、爆発時にカバーユニット４がフィルタケーシング５から吹き飛ばされるような事態を防止できる。また、ロック爪３３ａの遊びは、シール部材４６の圧縮量（伸び代）よりも小さく設定されている。このため、カバーユニット４が遊び分だけ上方に移動しても、圧接状態にあるシール部材４６が上下方向に延び、カバーユニット４とフィルタケーシング５の間の気密状態が維持される。従って、処理容器２内で爆発が生じても、カバーユニット４がフィルタケーシング５から分離することがなく、また、処理容器内の粉体が外部に漏れ出ることもない。従って、作業の安全性が確保されると共に、作業環境の向上が図られる。

なお、爆発時には、シール部材４６の側壁部４６ｃ（第１側壁）は、図５に示すように、爆圧により外側に押され、Ｕ字溝４６ｂ内に爆圧が回り込む。すると、外側に位置する側壁部４６ｃ（第２側壁）がこの爆圧によってシール溝４７の内壁４７ａに押し付けられ、爆圧が装置外部に漏れることを阻止する。すなわち、シール部材４６には、爆発時におけるセルフシール性が備わっており、爆発時のシール性が確保される。この場合、例えば、側壁部４６ｃを側壁部４６ｄよりも薄く形成し、側壁部４６ｃの剛性を低くして爆圧の回り込みを容易にする一方、側壁部４６ｄの剛性を高くして耐爆圧性を向上させても良い。

フィルタケーシング５の上端部には、円板状の天板１４が固定されている。天板１４には、カートリッジフィルタ１５が取り付けられている。天板１４は、フィルタケーシング５の内周に隙間なく溶接固定されており、流動層装置１では、ケーシング−天板間から粉漏れが生じないようになっている。流動層装置１のカートリッジフィルタ１５には、ポリエステル製の不織布を用いたフィルタ材１６が使用される。フィルタ材１６の中央には、ステンレス製のリテーナ１７が挿通される。リテーナ１７の上端は、天板１４に固定される。リテーナ１７の下端には、エンドキャップ１８とフィルタ固定ノブ１９が取り付けられる。フィルタ材１６は、フィルタ固定ノブ１９を締め込むことにより、リテーナ１７をガイドにして天板１４に固定される。

流動層装置１では、フィルタケーシング５は、支持台３に組み込まれた昇降機構１３によって、上下方向に移動可能に設けられている。図６は昇降機構１３の構成を示す側面図、図７は昇降機構１３の正面図、図８は昇降機構１３の平面図である。図６〜８に示すように、昇降機構１３は、モータ５１によって上下方向に駆動される昇降板５２を備えている。昇降板５２は、支持台３に取り付けられたフレーム５３に、上下方向に移動自在に取り付けられており、支持台３の内部側に配置される。支持台３の両側部には、開口部１０２が上下方向に沿って形成されており、昇降板５２は、その両端部５２ａが各開口部１０２に臨むように配置される。

フレーム５３は平板状となっており、支持台３に固定された垂直アングル材５４に、固定ボルト５５によって固定・支持されている。フレーム５３の上端部には、モータ取付用ブラケット５６が取り付けられている。モータ取付用ブラケット５６には、モータ５１に接続されたギヤボックス５７が固定される。ギヤボックス５７にはボールスクリュー軸６１が取り付けられており、ボールスクリュー軸６１はモータ５１によって回転駆動される。フレーム５３の上下端部にはベアリングホルダ６２ａ,６２ｂに取り付けられており、ボールスクリュー軸６１は、このベアリングホルダ６２ａ,６２ｂに収容されたベアリング６３ａ,６３ｂによって回転自在に支持されている。

ボールスクリュー軸６１には、スクリューナットを備えたボールスライダ６４が取り付けられている。ボールスクリュー軸６１の回転に伴い、ボールスライダ６４は、ボールスクリュー軸６１上を上下方向に移動する。ボールスライダ６４は、フレーム５３の前面に配された平板状の昇降板５２に固定されている。一方、フレーム５３には、先端部にガイドレール６５が取り付けられたガイドプレート６６が設けられている。ガイドレール６５は、フレーム５３に沿って上下方向に延びており、昇降板５２に取り付けられたガイドホルダ６７に係合している。ガイドレール６５とガイドホルダ６７の間は遊嵌状態となっており、ガイドホルダ６７はガイドレール６５に沿って上下方向に移動自在となっている。

このような昇降機構１３では、モータ５１の作動に伴い、その回転がギヤボックス５７を介してボールスクリュー軸６１に伝わり、ボールスクリュー軸６１が回転する。ボールスクリュー軸６１が回転すると、ボールスライダ６４がボールスクリュー軸６１に沿って上下方向に移動する。前述のように、ボールスライダ６４には昇降板５２が固定されている。従って、モータ５１を駆動されると、昇降板５２は、ガイドレール６５に案内されつつ、フレーム５３の前面にて上下方向に移動する。

一方、昇降板５２の両端部５２ａにはそれぞれ、シールスライダ（サイドシール部材）６８が取り付けられている。シールスライダ６８は、開口部１０２を介して昇降板５２と接続されており、支持台３の外部側に配置される。昇降板５２の両端面には、雌ネジ孔６９が形成されている。シールスライダ６８は、この雌ネジ孔６９と固定ボルト７１によって昇降板５２に固定される。また、シールスライダ６８は、ブラケットアーム７２を介してフィルタケーシング５と接続されている。従って、流動層装置１では、昇降板５２が上下動すると、それと共にシールスライダ６８が作動してフィルタケーシング５が上下方向に移動するようになっている。

図９はシールスライダ６８の構成を示す正面図、図１０はその側面図、図１１は下面図、図１２は図９のＡ−Ａ線に沿った断面図、図１３は同Ｂ−Ｂ線に沿った断面図である。シールスライダ６８は略Ｃ字形断面のスライダブロック７３に、ローラ７４ａ,７４ｂを２個ずつ取り付けた構成となっている。スライダブロック７３は、側壁部７５とガイドブロック部７６とから構成されており、側壁部７５とガイドブロック部７６は一体に形成されている。スライダブロック７３には、ローラ７４ａ,７４ｂを取り付けるためのローラ取付部７７ａ,７７ｂが各２箇所設けられている。

図１２に示すように、ローラ７４ａには軸孔７８が設けられており、ローラ軸７９とエンドブロック８０によって、ローラ取付部７７ａに回転自在に取り付けられる。ローラ取付部７７ａでは、側壁部７５に、ローラ軸７９を取り付けるための軸孔８１が設けられている。軸孔８１の外側には、エンドブロック８０を取り付けるためのエンドブロック取付孔８２が形成されている。エンドブロック取付孔８２は、角穴部８２ａと丸穴部８２ｂを有した段付構造となっている。また、ガイドブロック部７６には、ローラ７４ａを取り付けるためのローラ収容部８３が半円筒状に切欠形成されている。

図１４はエンドブロック８０の構成を示す図面であり、（ａ）はその正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は（ａ）のＣ−Ｃ線に沿った断面図である。図１４に示すように、エンドブロック８０は、略長方形状に形成されたプレート部８４と、プレート部８４から突設された円柱形状の嵌合部８５とを備えている。嵌合部８５は、エンドブロック取付孔８２の丸穴部８２ｂと嵌合する。また、プレート部８４は、角穴部８２ａに若干の遊びを持って取り付けられる。プレート部８４には、側壁部７５に設けられた雌ネジ孔に対応してボルト孔８６が４個形成されている。嵌合部８５の中央には、ローラ軸７９が挿入される軸穴８７が形成されている。軸穴８７は行き止まり形状となっており、エンドブロック取付孔８２にエンドブロック８０を取り付けると、この軸穴８７により、ローラ軸７９の軸方向への移動が規制される。

ローラ取付部７７ａでは、ローラ収容部８３にローラ７４ａを配した状態で、ローラ軸７９を側壁部７５の外側から挿通させる。このときローラ軸７９は、軸孔７８,８１に挿通された状態となり、ローラ７４ａはローラ軸７９にて支持された状態となる。次に、側壁部７５の両側にエンドブロック８０を取り付け、ローラ軸７９を抜け止め保持する。この際、エンドブロック８０は、軸穴８７にローラ軸７９を挿入させつつ、嵌合部８５を丸穴部８２ｂに嵌め合わせる形で取り付けられる。そして、プレート部８４を角穴部８２ａに取り付け、ボルト孔８６を介して、ボルト８８を雌ネジ孔にねじ込む。これにより、ローラ７４ａがローラ軸７９に回転自在に支持された状態で、スライダブロック７３に取り付けられる。

ローラ７４ｂにもローラ７４ａと同様に軸孔９１が設けられており、ローラ軸９２によって、ローラ取付部７７ｂに回転自在に取り付けられる。ローラ取付部７７ｂでは、側壁部７５に軸孔９３が設けられており、ローラ軸９２はこの軸孔９３に挿通される。また、ローラ軸９２には雌ネジ孔９４が形成されており、側壁部７５の端部には、この雌ネジ孔９４に対応してネジ挿通孔９５が設けられている。ローラ取付部７７ｂでは、まず、両側壁部７５の間にローラ７４ｂを挿入し、側壁部７５の外側から、軸孔９３を介して、ローラ軸９２を軸孔９１に挿通させる。そして、ローラ軸９２の雌ネジ孔９４に対し、ネジ挿通孔９５を介して固定ネジ９６をねじ込む。これにより、ローラ７４ｂがローラ軸９２に回転自在に支持された状態で、スライダブロック７３に取り付けられる。

一方、シールスライダ６８は、シリコンゴム製のシートカバー１０１を介在させた形で支持台３に取り付けられている。当該流動層装置１では、支持台３に昇降機構１３を設けた関係上、支持台３の側部に、昇降板５２やシールスライダ６８を上下動させるための開口部１０２が形成される。流動層装置１においては、装置洗浄時には洗浄水が供給され、粉粒体処理時には周囲に粉体が飛散する場合があり、開口部１０２をそのままの状態とすると、装置内に洗浄水や粉体が入り込むおそれがあり、好ましくない。そこで、流動層装置１の昇降機構１３では、開口部１０２をシートカバー１０１にて覆い、開口部１０２から洗浄水や粉粒体が装置内に進入するのを防止している。

図２に示すように、支持台３には昇降機構１３用の開口部１０２が形成されている。シートカバー１０１は、厚さ約０.１ｍｍ程度に形成されており、この開口部１０２を覆うように取り付けられている。図１５は、開口部１０２におけるシートカバー１０１の取付状態を示す説明図であり、図８のＡ部の構成を示している。図１５に示すように、支持台３には、昇降機構１３を覆う形でフレームカバー１０３が取り付けられており、開口部１０２はフレームカバー１０３の側方に形成されている。フレームカバー１０３の内側には、開口部１０２に臨んでカバーガイド１０４が取り付けられている。カバーガイド１０４の先端部には、上下方向に延びるガイド壁１０５が設けられている。ガイド壁１０５と開口部１０２の側壁との間には、溝状のガイド部１０６が上下方向に沿って形成される。

シートカバー１０１は、シート部１０１ａと突起部１０１ｂから構成されている。突起部１０１ｂは、シート部１０１ａの同じ面に２個設けられており、シートカバー１０１は、突起部１０１ｂをガイド部１０６に係合させる形で開口部１０２の外側に配される。シートカバー１０１の上端部は、スプリング１０７に取り付けられている（図７参照）。スプリング１０７は、カバーブラケット１０８によって、フレーム５３の上端部に取り付けられている。一方、シートカバー１０１の下端部は、図示しないシールホルダによって、フレーム５３の下端部に取り付けられている。なお、シートカバー１０１は、図示しないテンションローラによっても支持されており、スプリング１０７によってシートカバー１０１には上下方向に張力が付与されている。

シートカバー１０１の突起部１０１ｂに対応して、ガイドブロック部７６の上面にはガイド溝１０９が２本設けられている。また、ローラ７４ａの外周にも、突起部１０１ｂに対応して、ガイド溝１１０が２本設けられている。シートカバー１０１は、その突起部１０１ｂを各ガイド溝１０９,１１０に合わせる形でシールスライダ６８内に装着される。その際、シートカバー１０１は、一端側のローラ７４ｂからシールスライダ６８内に進入し、ガイドブロック部７６やローラ７４ａに案内される形で外方に押し上げられる。その後、他端側に至り、ローラ７４ｂにて押し下げられて元の位置に戻り、シールスライダ６８外に出て行く。シートカバー１０１は、シールスライダ６８内を上下に通した後、フレーム５３に取り付けられる。

このように、流動層装置１では、昇降機構１３にシートカバー１０１を設けると共に、このシートカバー１０１を介在させた形で上下方向に移動可能なシールスライダ６８を備えている。従って、昇降機構設置に伴って生じる開口部１０２をシートカバー１０１にて塞ぐことができ、開口部１０２から洗浄水や粉粒体が装置内に進入するのを防止することが可能となる。このため、浸水等に伴う装置故障を防止することができ、装置寿命や信頼性の向上が図られる。また、洗浄時や粉粒体処理後のメンテナンス作業が削減され、製品コストの低減を図ることも可能となる。

流動ケーシング６内には、粉粒体にバインダ液やコーティング液を噴霧するためのスプレーノズル（スプレー装置）２１が設けられている。つまり、当該流動層装置１では、流動ケーシング６は、スプレーケーシングユニットとしても機能している。流動ケーシング６は、スウィングブラケット２２にて支持台３に取り付けられており、水平方向にスウィング移動可能に設けられている。スウィングブラケット２２は、水平方向へのスウィング移動の他に、流動ケーシング６に下から力が作用した際に流動ケーシング６が上方に移動可能なスライド機構を有している。流動ケーシング６内には、流動室２３が形成されている。流動室２３内には、スプレーノズル２１が配置されている。スプレーノズル２１には、図示しないチューブによって、装置外に設けられたポンプからバインダ液やコーティング液が供給される。

流動ケーシング６の下方には、原料容器コンテナユニット（以下、原料容器コンテナと略記する）７が配置される。原料容器コンテナ７内には、被処理物となる粉粒体が投入される。原料容器コンテナ７は、下方に向けて小径となった逆円錐台形状の円筒となっている。原料容器コンテナ７には、コンテナが床面上を自在に移動可能なように台車２４が取り付けられている。原料容器コンテナ７の内部には、原料収容室２５が形成されている。原料容器コンテナ７の下部、すなわち、原料収容室２５の底部には、通気性を有する目皿板２６が設けられている。原料収容室２５内に投入された粉粒体はこの目皿板２６上にて支持される。

原料容器コンテナ７の台車２４には、目皿板２６を仮置きするための目皿板ホルダ１１１,１１２が設けられている。図１に示すように、目皿板ホルダ１１１,１１２は、流動層装置１の側面に１個ずつ設けられている。図１６は、目皿板ホルダ１１１,１１２の構成を示す説明図である。目皿板ホルダ１１１,１１２は、三日月状をした折返しのある板状のケーシング構造をしており、台車２４のフレーム１１３に突設されている。目皿板ホルダ１１１,１１２には、上部の開口側から目皿板２６が挿入される。目皿板２６は、目皿板ホルダ１１１,１１２の折返し部にて受け止められ、両ホルダ１１１,１１２の協同により支持される。目皿板ホルダ１１１,１１２には、図１に二点鎖線にて示したように、上方から目皿板２６が差し込まれる。目皿板２６は、目皿板ホルダ１１１,１１２にて下方側が支持され、目皿板ホルダ１１１,１１２にて側方もが保持される形で原料容器コンテナ７に立て置きされる。このような目皿板ホルダ１１１,１１２を設けることにより、装置直近に目皿板２６を置くことが可能となり、メンテナンス時等における作業性が改善される。

原料容器コンテナ７の下方には、内部に給気室２７を有する給気ユニット８が据え付けられている。給気ユニット８は、給気室２７に連通する給気ダクト２８に接続されている。給気ダクト２８は、装置外に設けられた図示しない気体供給源に接続されている。給気室２７内には、この給気ダクト２８を介して、粉粒体を流動化するための処理気体（流動気体）が供給される。

このような流動層装置１では、給気ダクト２８から給気室２７に流動気体を供給すると、この気体が目皿板２６を通って原料収容室２５に流入する。これにより、原料収容室２５内の粉粒体が吹き上げられ、原料収容室２５や流動室２３内にて浮遊流動状態となる。この状態にて、スプレーノズル２１から、適宜、バインダ液やコーティング液をスプレー状に噴霧することにより、粉粒体の造粒処理やコーティング処理が実行される。その際、粉粒体を流動状態とした気体は、微細な固体粒子がカートリッジフィルタ１５によって除去されて清浄化される。カートリッジフィルタ１５を通った気体は、その後、排気ダクトを通って装置外へと排出される。

一方、造粒コーティング処理を行うに連れて、フィルタ材１６に微粉が付着して濾過効率が低下する。このため、粉粒体処理に際しては、カートリッジフィルタ１５は、適宜、交換・洗浄する必要がある。図１７は、カートリッジフィルタ１５のメンテナンス作業（交換・洗浄）の過程を示す説明図である。図１７（ａ）に示すように、ここではまず、台車２４を動かし原料容器コンテナ７を装置外に引き出す。次に、同図（ｂ）のように、流動ケーシング６を水平方向にスウィングさせ、フィルタケーシング５の下方を空ける。流動ケーシング６を側方に退避させた後、図１７（ｃ）に示すように、フィルタケーシング５をセット位置（上方位置）Ｘからメンテナンス位置（下方位置）Ｙに下降させる。なお、フィルタケーシング５の上昇・下降に際しては、警告灯９７が点滅し、警報機９８が鳴動する。

メンテナンス位置Ｙにフィルタケーシング５を降ろすと、図１７（ｃ）のように、カートリッジフィルタ１５は給気ユニット８内に入り込んだ状態となる。図１７（ｃ）の状態では、天板１４は作業員の手の届く程度（あるいは、３０〜５０ｃｍ程の余り高くない踏み台に乗って届く程度）の高さまで降ろされている。そこで、作業員は、フィルタケーシング５をメンテナンス位置Ｙに降ろした後、天板１４の上方、すなわち、フィルタ２次側（排気側：図１において天板１４の上面側）から作業を行い、カートリッジフィルタ１５を天板１４から取り外す。この際、作業員は、カートリッジフィルタ１５の２次側の様子も容易に確認することができる。

ここで、給気ユニット８の給気室２７内には、カートリッジフィルタ１５を載せるためのフィルタ受け（フィルタ受け部材）１１５が設けられている。フィルタ受け１１５は、図１７（ｃ）の状態にあるカートリッジフィルタ１５の下方に設置される。図１８は、カートリッジフィルタが給気ユニット８内に収容された状態を示す説明図である。当該実施例では、フィルタ受け１１５として、金属製の皿状部材が使用されている。天板１４から取り外されたカートリッジフィルタ１５は、このフィルタ受け１１５上に載置され、給気ユニット８内にて立った状態で支持される。なお、フィルタ取り外しの際に、カートリッジフィルタ１５がフィルタ受け１１５に載るまでの落下距離は３０〜８０ｍｍ程度である。従って、カートリッジフィルタ１５には大きな衝撃は加わらず、また、衝撃にて粉塵が舞い上がることもない。但し、若干粉塵が落ちる場合はあるが、これも給気ユニット８の洗浄により洗い流すことが可能である。

天板１４からカートリッジフィルタ１５を取り外し、カートリッジフィルタ１５をフィルタ受け１１５上に載置した後、フィルタケーシング５を上昇させる。すると、給気ユニット８内には、図１７（ｄ）のように、カートリッジフィルタ１５が取り残される。フィルタケーシング５を上方に移動させた後、作業者は、この取り残されたカートリッジフィルタ１５を給気ユニット８から運び出し、フィルタの交換や洗浄を行う。なお、フィルタケーシング５の上昇は、フィルタ受け１１５上にカートリッジフィルタ１５を載せたときに生じる浮遊粉塵が落ち着いた後に行う方が好ましい。

このように、当該流動層装置１では、カートリッジフィルタ１５を装置下方のメンテナンス位置Ｙに移動させ、そこでフィルタの取り外しを行うので、フィルタを低位置でメンテナンスでき、高位置での作業に比して作業性が大幅に改善される。また、作業者は、二次側からカートリッジフィルタ１５を取り外すことができるため、フィルタ取り外し時に作業者が受ける粉塵量を抑えることができ、作業環境の改善が図られる。

さらに、特許文献１の装置のように、流動ケーシング６とフィルタケーシング５が一体となった構成では、装置の占有面積が大きくなる他、反転時にカートリッジフィルタ１５から粉塵が舞い上がり作業環境が悪化するおそれがある。また、ケーシング反転時にスプレーノズル２１から液だれが生じ、これがカートリッジフィルタ１５に付着するおそれもある。これに対し、当該流動層装置１では、流動ケーシング６を側方に退避させた状態でフィルタケーシング５を反転させずに下降させるため、装置の占有面積を小さく抑えることができる。また、粉塵飛散やスプレーノズルの液だれなどのケーシング反転に伴う諸問題も生じない。

カートリッジフィルタ１５の交換等を行った後、カートリッジフィルタ１５を改めてフィルタ受け１１５上に載置する。そして、フィルタケーシング５をメンテナンス位置Ｙまで下降させる。メンテナンス位置Ｙでは、フィルタケーシング５の上方からカートリッジフィルタ１５を持ち上げて天板１４に取り付ける。カートリッジフィルタ１５を天板１４に固定した後、フィルタケーシング５をメンテナンス位置Ｙからセット位置Ｘに上昇させる。フィルタケーシング５を所定のセット位置Ｘに設置した後、流動ケーシング６を水平方向にスウィングさせ、元の所定位置にセッティングする。

フィルタケーシング５や流動ケーシング６を所定位置にセットした後、台車２４に載った原料容器コンテナ７を流動ケーシング６の下方に配置する。そして、給気ユニット８内に設けられた図示しないリフト機構により、原料容器コンテナ７を上方に押し上げ、下方側から流動ケーシング６とフィルタケーシング５、カバーユニット４を互いに密接させる。そして、各ロック金具３１ａ〜３１ｄにより、各ユニットを係合状態にする。これにより、処理容器２が流動処理可能な状態となり、流動気体の供給やコーティング液の噴霧等を行うことにより、粉粒体の造粒コーティング処理が実施される。

本発明は前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
例えば、前述の実施例は、粉粒体にコーティング処理を施すための流動層装置を示したが、粉粒体を造粒する装置あるいは乾燥する装置にも本発明を適用することができる。また、前述の実施例では、スライダブロック７３にローラ７４ａ,７４ｂを２個ずつ取り付けた構成のシールスライダ６８を示したが、ローラ７４ａ,７４ｂに代えて、回転部分を有さない円柱状の軸部材を使用しても良い。さらに、前述の実施例では、フィルタ受け１１５を金属皿にて形成した構成を示したが、給気の妨げにならないようにフィルタ受け１１５を金網にて形成したり、アングル材を組んでフィルタ受けを形成したりしても良い。

本実施例では、シールスライダ６８を２個備えているが、フィルタケーシングユニット５が軽量であれば、シールスライダは片側に１個のみでも可能である。また、シールスライダの位置を、処理容器２の真後ろ（ボールスクリュー軸６１と処理容器２の中間部分）とし、そこに１個のみ設けても良い。さらに、シートカバー１０１は、ステンレス製の薄板でも良く、シート突起部１０１ｂは、シリコンゴム製で貼り合わせることにより設けても構わない。

１ 流動層装置
２ 処理容器
３ 支持台
４ カバーユニット
５ フィルタケーシングユニット
６ 流動ケーシングユニット
７ 原料容器コンテナユニット
８ 給気ユニット
１１ カバーブラケット
１２ 排気口
１３ 昇降機構
１４ 天板
１５ カートリッジフィルタ
１６ フィルタ材
１７ リテーナ
１８ エンドキャップ
１９ フィルタ固定ノブ
２１ スプレーノズル（スプレー装置）
２２ スウィングブラケット
２３ 流動室
２４ 台車
２５ 原料収容室
２６ 目皿板
２７ 給気室
２８ 給気ダクト
３１ ロック金具
３１ａ〜３１ｄ ロック金具
３２ ロータリーアクチュエータ
３３ａ〜３３ｄ ロック爪
３４ 回転軸
３５ エンドブロック
３６ ロータリーテーブル
３７ 空気圧ポート
３８ ケース
３９ アクチュエータ取付部
４１ ボルト
４２ フランジ部
４２ａ 下面
４３ フランジ部
４４ フランジ部
４５ フランジ部
４６ シール部材
４６ａ 上端面
４６ｂ Ｕ字溝
４６ｃ 側壁部
４６ｄ 側壁部
４７ シール溝
４７ａ 内壁
４８ 気体供給孔
４９ フランジ部
５１ モータ
５２ 昇降板
５２ａ 端部
５３ フレーム
５４ 垂直アングル材
５５ 固定ボルト
５６ モータ取付用ブラケット
５７ ギヤボックス
６１ ボールスクリュー軸
６２ａ,６２ｂ ベアリングホルダ
６３ａ,６３ｂ ベアリング
６４ ボールスライダ
６５ ガイドレール
６６ ガイドプレート
６７ ガイドホルダ
６８ シールスライダ
６９ 雌ネジ孔
７１ 固定ボルト
７２ ブラケットアーム
７３ スライダブロック
７４ａ,７４ｂ ローラ
７５ 側壁部
７６ ガイドブロック部
７７ａ,７７ｂ ローラ取付部
７８ 軸孔
７９ ローラ軸
８０ エンドブロック
８１ 軸孔
８２ エンドブロック取付孔
８２ａ 角穴部
８２ｂ 丸穴部
８３ ローラ収容部
８４ プレート部
８５ 嵌合部
８６ ボルト孔
８７ 軸穴
８８ ボルト
９１ 軸孔
９２ ローラ軸
９３ 軸孔
９４ 雌ネジ孔
９５ ネジ挿通孔
９６ 固定ネジ
９７ 警告灯
９８ 警報機
１０１ シートカバー
１０１ａ シート部
１０１ｂ 突起部
１０２ 開口部
１０３ フレームカバー
１０４ カバーガイド
１０５ ガイド壁
１０６ ガイド部
１０７ スプリング
１０８ カバーブラケット
１０９ ガイド溝
１１０ ガイド溝
１１１ 目皿板ホルダ
１１２ 目皿板ホルダ
１１３ フレーム
１１５ フィルタ受け（フィルタ受け部材）
Ｘ セット位置（上方位置）
Ｙ メンテナンス位置（下方位置）

Claims (4)

1. 気体供給源から処理気体が供給される給気室を内部に備えた給気ユニットと、
   前記給気ユニットの上方に配置され、被処理物が収容される原料容器コンテナと、
   前記原料容器コンテナの上方に配置され、前記被処理物が処理気体により浮遊流動する流動ケーシングユニットと、
   前記流動ケーシングユニットの上方に配置され、処理気体濾過用のフィルタが配置されたフィルタケーシングユニットと、
   前記流動ケーシングユニット及び前記フィルタケーシングユニットを支持する支持台と、を有する流動層装置であって、
   前記流動ケーシングユニットは、水平方向にスウィング移動可能なように前記支持台に取り付けられ、
   前記フィルタケーシングユニットは、前記被処理物の処理を行う上方位置と、前記フィルタのメンテナンス作業を行う下方位置との間を上下移動可能なように前記支持台に取り付けられ、前記流動ケーシングユニットを水平方向にスウィング移動させることにより上下方向に移動可能となり、
   前記フィルタは、前記フィルタケーシングユニットを前記下方位置に配したとき、前記給気室内に進入した状態となることを特徴とする流動層装置。
2. 請求項１記載の流動層装置において、前記給気ユニットは、前記給気室内に、前記フィルタを載置可能なフィルタ受け部材を備え、
   前記下方位置にある前記フィルタケーシングユニットから前記フィルタを取り外したとき、前記フィルタは、前記フィルタ受け部材上に載置されることを特徴とする流動層装置。
3. 請求項１又は２記載の流動層装置において、前記フィルタケーシングユニットは、前記支持台に取り付けられた昇降機構によって上下移動可能に設置され、該昇降機構は、
   モータによって上下方向に駆動され、前記支持台に形成された上下方向に延びる開口に臨んで前記支持台の内部側に配置される昇降板と、
   前記支持台の外部側に配置され、前記開口部を介して前記昇降板と接続されたシールスライダと、
   前記シールスライダと前記フィルタケーシングユニットとの間を接続するブラケットアームと、
   前記開口部を覆うように取り付けられ、前記シールスライダ内を通って上下方向に延びるシートカバーと、を有することを特徴とする流動層装置。
4. 請求項１〜３の何れか１項に記載の流動層装置において、前記流動ケーシングユニットが、前記被処理物に対し液体を噴霧するスプレー装置が配置されたスプレーケーシングユニットであることを特徴とする流動層装置。

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