JP2011002805A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011002805A5 JP2011002805A5 JP2009281055A JP2009281055A JP2011002805A5 JP 2011002805 A5 JP2011002805 A5 JP 2011002805A5 JP 2009281055 A JP2009281055 A JP 2009281055A JP 2009281055 A JP2009281055 A JP 2009281055A JP 2011002805 A5 JP2011002805 A5 JP 2011002805A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sensitive
- radiation
- resin composition
- actinic ray
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 27
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 20
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 20
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 13
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- -1 carboxylic acid thioester Chemical class 0.000 claims 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 claims 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 claims 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 claims 1
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000035807 sensation Effects 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009281055A JP5530712B2 (ja) | 2008-12-12 | 2009-12-10 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008317752 | 2008-12-12 | ||
JP2008317754 | 2008-12-12 | ||
JP2008317752 | 2008-12-12 | ||
JP2008317754 | 2008-12-12 | ||
JP2009122470 | 2009-05-20 | ||
JP2009122470 | 2009-05-20 | ||
JP2009281055A JP5530712B2 (ja) | 2008-12-12 | 2009-12-10 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011002805A JP2011002805A (ja) | 2011-01-06 |
JP2011002805A5 true JP2011002805A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2012-08-16 |
JP5530712B2 JP5530712B2 (ja) | 2014-06-25 |
Family
ID=43560768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009281055A Active JP5530712B2 (ja) | 2008-12-12 | 2009-12-10 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5530712B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
TW (1) | TWI477898B (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5523854B2 (ja) * | 2009-02-06 | 2014-06-18 | 住友化学株式会社 | 化学増幅型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 |
US20120076996A1 (en) * | 2010-09-28 | 2012-03-29 | Fujifilm Corporation | Resist composition, resist film therefrom and method of forming pattern therewith |
JP5728883B2 (ja) * | 2010-10-20 | 2015-06-03 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
JP5924071B2 (ja) * | 2011-04-20 | 2016-05-25 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5873250B2 (ja) * | 2011-04-27 | 2016-03-01 | 東京応化工業株式会社 | レジストパターン形成方法 |
KR102210616B1 (ko) | 2016-08-26 | 2021-02-02 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 감활성광선성 또는 감방사선성막, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 화합물, 및 수지 |
WO2018066247A1 (ja) * | 2016-10-04 | 2018-04-12 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 |
JP7292194B2 (ja) * | 2019-12-03 | 2023-06-16 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
JP7433033B2 (ja) * | 2019-12-11 | 2024-02-19 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
JP7546353B2 (ja) * | 2019-12-11 | 2024-09-06 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
TW202346262A (zh) * | 2022-05-23 | 2023-12-01 | 日商Jsr 股份有限公司 | 感放射線性樹脂組成物及圖案形成方法 |
TW202346264A (zh) * | 2022-05-23 | 2023-12-01 | 日商Jsr股份有限公司 | 感放射線性樹脂組成物及圖案形成方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4186054B2 (ja) * | 2002-04-05 | 2008-11-26 | 信越化学工業株式会社 | レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP4533660B2 (ja) * | 2004-05-14 | 2010-09-01 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP5428159B2 (ja) * | 2005-05-11 | 2014-02-26 | Jsr株式会社 | 新規化合物および重合体、ならびに感放射線性樹脂組成物 |
JP4861767B2 (ja) * | 2005-07-26 | 2012-01-25 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
JP4861781B2 (ja) * | 2005-09-13 | 2012-01-25 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP4881687B2 (ja) * | 2005-12-09 | 2012-02-22 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP4871718B2 (ja) * | 2005-12-27 | 2012-02-08 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
JP4539865B2 (ja) * | 2006-01-06 | 2010-09-08 | 信越化学工業株式会社 | ラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
TWI440978B (zh) * | 2006-02-15 | 2014-06-11 | Sumitomo Chemical Co | 化學增幅正型阻劑組合物 |
JP4905772B2 (ja) * | 2006-06-06 | 2012-03-28 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたターン形成方法 |
JP4858714B2 (ja) * | 2006-10-04 | 2012-01-18 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 |
JP5398248B2 (ja) * | 2008-02-06 | 2014-01-29 | 東京応化工業株式会社 | 液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 |
-
2009
- 2009-12-10 JP JP2009281055A patent/JP5530712B2/ja active Active
- 2009-12-11 TW TW098142467A patent/TWI477898B/zh active