JP2010530644A5 - - Google Patents
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Claims (7)
- プリント配線板を含むデバイスであって、
前記プリント配線板が、
面積と、
複数のアクティブな電力およびグランド端子と、
複数の信号端子と、
を含む集積回路を支持し、
前記プリント配線板が、複数のノーングッド(known good)単一化キャパシタを含み、
各ノーングッド単一化キャパシタが、電力電極およびグランド電極を有し、かつノーングッド薄膜箔上焼成キャパシタから形成され、
前記ノーングッド薄膜箔上焼成キャパシタが、第1および第2の電極を含み、
前記第2の電極がフットプリントを有し、
各ノーングッド単一化キャパシタが、前記ノーングッド薄膜箔上焼成キャパシタの前記第2の電極のフットプリント内に形成され、かつ前記プリント配線板のビルドアップ層に埋め込まれ、
各ノーングッド単一化キャパシタが、前記ICの真下かつその面積内に前記複数の単一化キャパシタが位置するようなサイズおよびピッチであり、
前記ICの各アクティブな電力およびグランド端子が、ノーングッド単一化キャパシタの対応する電力およびグランド電極にそれぞれ直接接続され、
前記ICの各信号端子が、前記単一化キャパシタから分離されているが、前記ノーングッド箔上焼成キャパシタから同時に形成された信号パッドに直接接続されることを特徴とする、デバイス。 - プリント配線板を含むデバイスを作製する方法であって、
該方法は、
2つの側面を有する少なくとも1つの箔構造を提供する工程であって、該箔構造がノウングッド薄膜箔上焼成キャパシタを含み、該キャパシタが、誘電体層と、フットプリントを有する第2の電極層と、を含むものである工程と、
前記第2の電極を含む前記箔構造の側面に金属を施す工程と、
前記第2の電極を含まない前記箔構造の側面をパターニングし、それによって、複数の第1の電極を形成する工程と、
前記箔構造の前記パターニングされた側面をプリント配線板のビルドアップ層に積層する工程と、
前記箔上焼成キャパシタの前記第2の電極を含む前記箔構造の側面をパターニングし、それによって、前記第2の電極層の前記フットプリント内に複数の第2の電極を形成する工程と、を含み、
もって、前記複数の第1の電極および前記複数の第2の電極の形成により、各単一化電極がICの端子に直接装着されるようなサイズおよびピッチの複数の単一化キャパシタが形成され、前記複数の単一化キャパシタが、前記集積回路の真下かつその面積内に直接位置するものであることを特徴とする、方法。 - プリント配線板を含むデバイスを作製する方法であって、
該方法は、2つの側面を有する少なくとも1つの箔構造を提供する工程であって、該箔構造がノーングッド薄膜箔上焼成キャパシタを含み、該キャパシタが、誘電体層と、フットプリントを有する第2の電極層と、を含むものである工程と、
前記第2の電極を含む前記箔構造の側面に金属を施す工程と、
前記第2の電極を含まない前記箔構造の側面をパターニングし、それによって、複数の第1の電極を形成する工程と、
前記箔構造をダイシングして、ノーングッドのダイシングされたコンポーネントを形成する工程であって、前記ノーングッドのダイシングされたコンポーネントが、少なくとも1つの箔上焼成キャパシタを含むものである工程と、
前記コンポーネントの前記パターニングされた側面がビルドアップ層と接触するように、少なくとも1つのダイシングされたコンポーネントを、前記プリント配線板の前記ビルドアップ層上にピック・アンド・プレースする工程と、
少なくとも1つのノーングッドのダイシングされたコンポーネントを前記ビルドアップ層に積層する工程と、
前記箔上焼成キャパシタの前記第2の電極を含む前記箔構造の側面をパターニングし、それによって、前記第2の電極層の前記フットプリント内に複数の第2の電極を形成する工程と、を含み、
もって、前記複数の第1の電極および前記複数の第2の電極の形成により、各単一化電極がICの端子に直接装着されるようなサイズおよびピッチの複数の単一化キャパシタが形成され、
前記複数の単一化キャパシタが、前記集積回路の真下かつその面積内に直接位置することを特徴とする、方法。 - 請求項2に記載の方法によって作製されたことを特徴とするプリント配線板。
- 請求項3に記載の方法によって作製されたことを特徴とするプリント配線板。
- 請求項2に記載の方法を含むことを特徴とする、単一化キャパシタをプリント配線板のビルドアップ層に組み込む方法。
- 請求項3に記載の方法を含むことを特徴とする、単一化キャパシタをプリント配線板のビルドアップ層に組み込む方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/765,113 US7841075B2 (en) | 2007-06-19 | 2007-06-19 | Methods for integration of thin-film capacitors into the build-up layers of a PWB |
US11/765,113 | 2007-06-19 | ||
PCT/US2008/067177 WO2008157524A2 (en) | 2007-06-19 | 2008-06-17 | Methods for integration of thin-film capacitors into the build-up layers of a printed wiring board |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010530644A JP2010530644A (ja) | 2010-09-09 |
JP2010530644A5 true JP2010530644A5 (ja) | 2011-07-28 |
JP5351149B2 JP5351149B2 (ja) | 2013-11-27 |
Family
ID=39938355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010513353A Expired - Fee Related JP5351149B2 (ja) | 2007-06-19 | 2008-06-17 | プリント配線板のビルドアップ層への薄膜キャパシタの統合方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7841075B2 (ja) |
EP (1) | EP2158797A2 (ja) |
JP (1) | JP5351149B2 (ja) |
KR (1) | KR101096900B1 (ja) |
TW (1) | TWI418267B (ja) |
WO (1) | WO2008157524A2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7632708B2 (en) * | 2005-12-27 | 2009-12-15 | Tessera, Inc. | Microelectronic component with photo-imageable substrate |
US8875363B2 (en) * | 2008-09-25 | 2014-11-04 | Cda Processing Limited Liability Company | Thin film capacitors on metal foils and methods of manufacturing same |
US20100270646A1 (en) * | 2009-04-28 | 2010-10-28 | Georgia Tech Research Corporation | Thin-film capacitor structures embedded in semiconductor packages and methods of making |
US8409963B2 (en) * | 2009-04-28 | 2013-04-02 | CDA Procesing Limited Liability Company | Methods of embedding thin-film capacitors into semiconductor packages using temporary carrier layers |
US8391017B2 (en) * | 2009-04-28 | 2013-03-05 | Georgia Tech Research Corporation | Thin-film capacitor structures embedded in semiconductor packages and methods of making |
US10186458B2 (en) * | 2012-07-05 | 2019-01-22 | Infineon Technologies Ag | Component and method of manufacturing a component using an ultrathin carrier |
US9027226B2 (en) * | 2013-03-27 | 2015-05-12 | Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. | Method for implementing prompt dose mitigating capacitor |
US9370103B2 (en) * | 2013-09-06 | 2016-06-14 | Qualcomm Incorported | Low package parasitic inductance using a thru-substrate interposer |
US9955568B2 (en) * | 2014-01-24 | 2018-04-24 | Dell Products, Lp | Structure to dampen barrel resonance of unused portion of printed circuit board via |
WO2016143087A1 (ja) * | 2015-03-11 | 2016-09-15 | 株式会社野田スクリーン | 薄膜キャパシタの製造方法、集積回路搭載基板、及び当該基板を備えた半導体装置 |
US10062838B2 (en) | 2015-03-31 | 2018-08-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Co-fired passive integrated circuit devices |
US10796212B2 (en) * | 2018-10-02 | 2020-10-06 | Xerox Corporation | Orientation-agnostic method to interface to printed memory label |
TWI688073B (zh) * | 2019-05-22 | 2020-03-11 | 穩懋半導體股份有限公司 | 半導體積體電路及其電路佈局方法 |
KR20230012639A (ko) * | 2020-09-02 | 2023-01-26 | 양쯔 메모리 테크놀로지스 씨오., 엘티디. | 반도체 디바이스의 온칩 커패시터 구조 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5161086A (en) | 1989-08-23 | 1992-11-03 | Zycon Corporation | Capacitor laminate for use in capacitive printed circuit boards and methods of manufacture |
US5428499A (en) * | 1993-01-28 | 1995-06-27 | Storage Technology Corporation | Printed circuit board having integrated decoupling capacitive core with discrete elements |
JP3154594B2 (ja) * | 1993-07-13 | 2001-04-09 | 日本特殊陶業株式会社 | キャパシタ内蔵多層配線基板とその製造方法 |
US6611419B1 (en) | 2000-07-31 | 2003-08-26 | Intel Corporation | Electronic assembly comprising substrate with embedded capacitors |
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US6388207B1 (en) | 2000-12-29 | 2002-05-14 | Intel Corporation | Electronic assembly with trench structures and methods of manufacture |
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US6818469B2 (en) * | 2002-05-27 | 2004-11-16 | Nec Corporation | Thin film capacitor, method for manufacturing the same and printed circuit board incorporating the same |
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JP2005252141A (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Murata Mfg Co Ltd | 電子部品及びその製造方法 |
US20050204864A1 (en) | 2004-03-16 | 2005-09-22 | Borland William J | Thick-film dielectric and conductive compositions |
CN101019476A (zh) * | 2004-08-11 | 2007-08-15 | 三井金属矿业株式会社 | 介电层构成材料的制造方法及由该制造方法获得的介电层构成材料、用介电层构成材料制造电容器电路形成部件的方法及由该制造方法获得的电容器电路形成部件、以及用该介电层构成材料或 /及电容器电路形成部件获得的多层印刷电路板 |
US20060158828A1 (en) | 2004-12-21 | 2006-07-20 | Amey Daniel I Jr | Power core devices and methods of making thereof |
US7613007B2 (en) | 2004-12-21 | 2009-11-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Power core devices |
EP1777745A3 (en) * | 2005-10-21 | 2010-05-05 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Power core device including a capacitor and method of making thereof |
US7701052B2 (en) | 2005-10-21 | 2010-04-20 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Power core devices |
JP2007142089A (ja) * | 2005-11-17 | 2007-06-07 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 誘電体積層構造体とその製造方法、及びコンデンサ |
JP2007149730A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 薄膜キャパシタ、実装基板、実装基板の製造方法、半導体装置、および半導体装置の製造方法 |
US20080158828A1 (en) * | 2006-12-27 | 2008-07-03 | Inventec Corporation | Heatsink structure and assembly fixture thereof |
-
2007
- 2007-06-19 US US11/765,113 patent/US7841075B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-06-17 KR KR1020107001113A patent/KR101096900B1/ko active IP Right Grant
- 2008-06-17 JP JP2010513353A patent/JP5351149B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-06-17 EP EP08771233A patent/EP2158797A2/en not_active Withdrawn
- 2008-06-17 WO PCT/US2008/067177 patent/WO2008157524A2/en active Application Filing
- 2008-06-18 TW TW097122744A patent/TWI418267B/zh not_active IP Right Cessation
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