JP2010502832A - 酸化亜鉛被覆物品の作成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の方法は、基材上に酸化亜鉛コーティングを堆積させるための化学気相堆積方法であって、亜鉛含有化合物を含む第1の前駆体気体流と水を含む第2の前駆体気体流とを基材の表面に送達し、前記基材の表面上で前記第1及び第2の前駆体気体流を、酸化亜鉛コーティングが前記表面上に5nm/秒よりも速い堆積速度で形成されるための十分に短い時間で混合させることを特徴とする。
【選択図】なし
Description
R1R2Zn又はR1R2Zn−[R3R4N(CHR5)n(CH2)m(CHR6)nNR7R8]
ただし、R1−8は、同一又は異なるアルキル基又はアリール基(例えばメチル、エチル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、フェニル又は置換フェニルなど)であり得、1つ以上のフッ素含有置換基を含み得る。
R5及びR6は、H又はアルキル基若しくはアリール基で有り得る。
nは、0又は1であり得る。
mは、nが0の場合は1〜6であり得、nが1の場合は0〜6であり得る。
Claims (13)
- 基材上に酸化亜鉛コーティングを堆積させるための化学気相堆積方法であって、
(a)亜鉛含有化合物を含む第1の前駆体気体流を生成するステップと、
(b)水を含む第2の前駆体気体流を生成するステップと、
(c)前記第1及び第2の前駆体気体流を、被覆されるガラス基材の表面の近傍の位置に送達するステップと、
(d)前記第1及び第2の前駆体気体流を互いに混合して前駆体混合物を生成し、該前駆体混合物を、前記亜鉛含有化合物と前記水との間の反応を行わせるのに十分な温度にある前記基材の表面に接触させるステップとを含み、
前記第1及び第2の前駆体気体流が、酸化亜鉛コーティングが前記表面上に5nm/秒よりも速い堆積速度で形成されるための十分に短い時間で混合されることを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記ガラス基材が、400℃以上の温度に加熱されることを特徴とする方法。 - 請求項2に記載の方法であって、
前記ガラス基材が、500〜700℃の温度に加熱されることを特徴とする方法。 - 請求項2に記載の方法であって、
前記亜鉛含有化合物が次の化学式で表されることを特徴とする方法。
R1R2Zn又はR1R2Zn−[R3R4N(CHR5)n(CH2)m(CHR6)nNR7R8]
ただし、R1−8は、同一又は異なる、例えばメチル、エチル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、フェニル又は置換フェニルなどのアルキル基又はアリール基であり得、1つ以上のフッ素含有置換基を含み得る。
R5及びR6は、H又はアルキル基若しくはアリール基であり得る。
nは、0又は1であり得る。
mは、nが0の場合は1〜6であり得、nが1の場合は0〜6であり得る。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記亜鉛含有化合物及び水が、1秒未満の時間で混合されることを特徴とする方法。 - 請求項5に記載の方法であって、
前記亜鉛含有化合物及び水が、0.5秒未満の時間で混合されることを特徴とする方法。 - 請求項6に記載の方法であって、
前記亜鉛含有化合物及び水が、70〜100ミリ秒の時間で混合されることを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記酸化亜鉛コーティングの堆積速度が、20nm/秒よりも速いことを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記前駆体混合物のモルパーセント(mol%)が、3〜14mol%であることを特徴とする方法。 - 請求項4に記載の方法であって、
前記亜鉛含有化合物が、Me2Zn、Me2Zn−TMPDA[TMPDA=N,N,N´,N´−テトラメチル−1,3−プロパンジアミン]、Me2Zn−TEEDA[TEEDA=N,N,N´,N´−テトラエチルエチレンジアミン]、Me2Zn−TMEDA[TMEDA=N,N,N´,N´−テトラメチルエチレンジアミン]、Et2Zn、Et2Zn−TEEDA、Et2Zn−TMPDA、及びEt2Zn−TMEDAから成る群より選択される1つを含むことを特徴とする方法。 - 基材上に酸化亜鉛コーティングを堆積させるための化学気相堆積方法であって、
(a)亜鉛含有化合物を含む第1の前駆体気体流を生成するステップと、
(b)水含有酸素源を含む第2の前駆体気体流を生成するステップと、
(c)前記第1及び第2の前駆体気体流を、被覆されるガラス基材の表面の近傍の位置に送達するステップと、
(d)前記第1及び第2の前駆体気体流を互いに混合して前駆体混合物を生成し、該前駆体混合物を、前記亜鉛含有化合物と前記水との間の反応を行わせるのに十分な温度にある前記基材の表面に接触させるステップとを含み、
前記第1及び第2の前駆体気体流が、酸化亜鉛コーティングが前記表面上に5nm/秒よりも速い堆積速度で形成されるための十分に短い時間で混合されることを特徴とする方法。 - 請求項11に記載の方法であって、
前記水含有酸素源が、所定量の水を含むアルコールであることを特徴とする方法。 - 請求項12に記載の方法であって、
前記アルコールが2−ブタノールであり、前記水の所定量が1〜10mol%であることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US84091406P | 2006-08-29 | 2006-08-29 | |
PCT/US2007/010669 WO2008027087A1 (en) | 2006-08-29 | 2007-05-03 | Method of forming a zinc oxide coated article |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012276582A Division JP6039402B2 (ja) | 2006-08-29 | 2012-12-19 | 酸化亜鉛被覆物品の作成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010502832A true JP2010502832A (ja) | 2010-01-28 |
Family
ID=38577550
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009526591A Pending JP2010502832A (ja) | 2006-08-29 | 2007-05-03 | 酸化亜鉛被覆物品の作成方法 |
JP2012276582A Active JP6039402B2 (ja) | 2006-08-29 | 2012-12-19 | 酸化亜鉛被覆物品の作成方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012276582A Active JP6039402B2 (ja) | 2006-08-29 | 2012-12-19 | 酸化亜鉛被覆物品の作成方法 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7732013B2 (ja) |
EP (1) | EP2059627B1 (ja) |
JP (2) | JP2010502832A (ja) |
KR (1) | KR101383946B1 (ja) |
CN (1) | CN101553601B (ja) |
AU (1) | AU2007290844B2 (ja) |
BR (1) | BRPI0716387A2 (ja) |
MX (1) | MX2009002181A (ja) |
MY (1) | MY147893A (ja) |
RU (1) | RU2447031C2 (ja) |
WO (1) | WO2008027087A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN102844463A (zh) * | 2010-04-20 | 2012-12-26 | Beneq有限公司 | 涂覆方法及装置 |
JP2015514663A (ja) * | 2012-03-16 | 2015-05-21 | ピルキントン グループ リミテッド | 酸化亜鉛コーティングを蒸着させるための化学蒸着過程、導電性ガラス物品を形成するための方法、およびそれによって生成されるコーティングされたガラス物品 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6071561A (en) * | 1997-08-13 | 2000-06-06 | President And Fellows Of Harvard College | Chemical vapor deposition of fluorine-doped zinc oxide |
JP2001023907A (ja) * | 1999-07-07 | 2001-01-26 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 成膜装置 |
US6858306B1 (en) * | 1999-08-10 | 2005-02-22 | Pilkington North America Inc. | Glass article having a solar control coating |
-
2007
- 2007-05-03 EP EP07776646.7A patent/EP2059627B1/en active Active
- 2007-05-03 CN CN200780031959XA patent/CN101553601B/zh active Active
- 2007-05-03 MX MX2009002181A patent/MX2009002181A/es active IP Right Grant
- 2007-05-03 AU AU2007290844A patent/AU2007290844B2/en not_active Ceased
- 2007-05-03 BR BRPI0716387-8A patent/BRPI0716387A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2007-05-03 RU RU2009111377/03A patent/RU2447031C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2007-05-03 US US11/800,043 patent/US7732013B2/en active Active
- 2007-05-03 JP JP2009526591A patent/JP2010502832A/ja active Pending
- 2007-05-03 KR KR1020097006351A patent/KR101383946B1/ko active IP Right Grant
- 2007-05-03 WO PCT/US2007/010669 patent/WO2008027087A1/en active Application Filing
- 2007-05-03 MY MYPI20090807A patent/MY147893A/en unknown
-
2012
- 2012-12-19 JP JP2012276582A patent/JP6039402B2/ja active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013053066A (ja) | 2013-03-21 |
BRPI0716387A2 (pt) | 2013-01-01 |
MX2009002181A (es) | 2009-04-22 |
JP6039402B2 (ja) | 2016-12-07 |
CN101553601B (zh) | 2012-12-12 |
MY147893A (en) | 2013-01-31 |
EP2059627A1 (en) | 2009-05-20 |
CN101553601A (zh) | 2009-10-07 |
EP2059627B1 (en) | 2015-08-05 |
AU2007290844A1 (en) | 2008-03-06 |
RU2447031C2 (ru) | 2012-04-10 |
US7732013B2 (en) | 2010-06-08 |
WO2008027087A1 (en) | 2008-03-06 |
AU2007290844B2 (en) | 2011-08-04 |
KR101383946B1 (ko) | 2014-04-10 |
US20080057200A1 (en) | 2008-03-06 |
RU2009111377A (ru) | 2010-10-10 |
KR20090061635A (ko) | 2009-06-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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