JP2010287540A - 透明導電パターンの製造方法及び透明導電パターン付き基材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明基材1の表面に金属ナノフィラーを含む樹脂溶液を塗布して、金属ナノフィラーを含有させた透明導電膜2を形成する工程。この透明導電膜2の表面に、パターン状の開口部3が形成されたマスク4を配置する工程。このマスク4の透明導電膜2と反対側からプラズマ処理またはコロナ処理を行なって、マスク4の開口部3に対応する部分の透明導電膜2中の金属ナノフィラーを強制酸化することによって、酸化された金属ナノフィラーで透明導電膜2に非導通部5を形成すると共に酸化されていない金属ナノフィラーで導通部6を形成する工程。これらの工程を備えて透明導電パターンを作製する。
【選択図】図1
Description
光硬化性アクリル樹脂(新中村化学社製「A−DPH」)16.0質量部と、メチルエチルケトン124.8質量部およびメチルイソブチルケトン160.0質量部を混合し、アクリル樹脂を溶解させた混合物Aを調製した。また金属ナノフィラーとして銀ナノ粒子(DOWAエレクトロニクス社製:平均粒径17.6nm)を用い、この金属ナノフィラー63.96質量部をメチルエチルケトン34.44質量部に分散させた混合物Bを調製した。そして混合物Aと混合物Bをよく混合した後、これに光重合開始剤(チバガイギー社製「イルガキュア184」)0.8質量部を加えてよく混合し、さらに25℃の恒温雰囲気下で1時間撹拌混合することによって、金属ナノフィラーを含む樹脂溶液からなるコーティング材組成物を得た。
実施例1において、金属ナノフィラーとして銀ナノワイヤを用いた。この銀ナノワイヤは、公知論文「Materials Chemistry and Physics vol.114 p333-338 “Preparation ofAg nanorods with high yield by polyol process”」に準じて作製したものであり、平均直径150nm、平均長さ5μmである。そしてその他は実施例1と同様にした。
実施例1において、酸化パターン処理を大気圧プラズマ処理で行なった。大気圧プラズマ処理の条件は、O2濃度0.15%、プラズマ照射距離5mm、スキャン10cm/min×5回である。そしてその他は実施例1と同様にした。
透明導電膜としてITO膜を表面に形成したガラス基板を用い、ITO膜をパターン形状にエッチング加工することによって、ITO膜が残る部分が導通部、ITO膜を除去した部分が非導通部となった導電パターンを形成した。
2 透明導電膜
3 開口部
4 マスク
5 非導通部
6 導通部
Claims (4)
- 透明基材の表面に金属ナノフィラーを含む樹脂溶液を塗布して、金属ナノフィラーを含有させた透明導電膜を形成する工程と、この透明導電膜の表面に、パターン状の開口部が形成されたマスクを配置する工程と、このマスクの透明導電膜と反対側からプラズマ処理またはコロナ処理を行なって、マスクの開口部に対応する部分の透明導電膜中の金属ナノフィラーを強制酸化することによって、酸化された金属ナノフィラーで非導通部を形成すると共に酸化されていない金属ナノフィラーで導通部を形成する工程と、を備えることを特徴とする透明導電パターンの製造方法。
- 上記金属ナノフィラーが、金属ナノワイヤであることを特徴とする請求項1に記載の透明導電パターンの製造方法。
- 請求項1又は2に記載の方法で製造された、導通部と非導通部が同一面でパターン化された透明導電膜を透明基材の表面に備えて成ることを特徴とする透明導電パターン付き基材。
- 透明基材の表面に金属ナノフィラーを含有する透明導電膜を設け、透明導電膜の一部の部分に含有される金属ナノフィラーを酸化して非導通部を形成すると共に、透明導電膜の他の部分の酸化されていない金属ナノフィラーで導通部を形成して成ることを特徴とする透明導電パターン付き基材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009142546A JP5507898B2 (ja) | 2009-06-15 | 2009-06-15 | 透明導電パターンの製造方法及び透明導電パターン付き基材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009142546A JP5507898B2 (ja) | 2009-06-15 | 2009-06-15 | 透明導電パターンの製造方法及び透明導電パターン付き基材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010287540A true JP2010287540A (ja) | 2010-12-24 |
JP5507898B2 JP5507898B2 (ja) | 2014-05-28 |
Family
ID=43543082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2009142546A Expired - Fee Related JP5507898B2 (ja) | 2009-06-15 | 2009-06-15 | 透明導電パターンの製造方法及び透明導電パターン付き基材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5507898B2 (ja) |
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A711 | Notification of change in applicant |
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