JP2010267722A - 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents

荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 Download PDF

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Abstract

【目的】検証しながら効率の優れたデータ処理を行なうことが可能な描画装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置100は、設計データファイルを順次転送処理する転送処理回路214と、複数のカバレッジポイントが組み込まれたデータ変換プログラムで設計データを描画データに変換する第1番目のデータ処理と、通過したカバレッジポイントについて更新処理を行なう第1番目のデータ処理回路222aと、更新処理で書き換えが行なわれた場合に当該描画データを検証するデータ処理回路222cと、第n番目(n≧2)のデータ処理を行なう第n番目のデータ処理回路222nと、第n番目のデータ処理が行なわれた各データに基づいて制御された電子ビームを用いてパターンを描画する描画部150と、を備え、転送処理と第1番目のデータ処理と検証処理と第n番目のデータ処理とがパイプライン処理になるように行なうことを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法に係り、特に、パターンレイアウトが定義された設計データを変換して電子ビーム描画装置で使用されるデータを生成する手法及びその装置に関する。
半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、LSIの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン(レチクル或いはマスクともいう。)が必要となる。ここで、電子線(電子ビーム)描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。
図14は、従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
可変成形型電子線(EB:Electron beam)描画装置は、以下のように動作する。第1のアパーチャ410には、電子線330を成形するための矩形例えば長方形の開口411が形成されている。また、第2のアパーチャ420には、第1のアパーチャ410の開口411を通過した電子線330を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口421が形成されている。荷電粒子ソース430から照射され、第1のアパーチャ410の開口411を通過した電子線330は、偏向器により偏向され、第2のアパーチャ420の可変成形開口421の一部を通過して、所定の一方向(例えば、X方向とする)に連続的に移動するステージ上に搭載された試料に照射される。すなわち、第1のアパーチャ410の開口411と第2のアパーチャ420の可変成形開口421との両方を通過できる矩形形状が、X方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料340の描画領域に描画される。第1のアパーチャ410の開口411と第2のアパーチャ420の可変成形開口421との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という。
かかる電子ビーム描画を行なうにあたり、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、パターンレイアウトが定義されたレイアウトデータ(設計データ)が生成される。そして、従来は、外部装置でかかるレイアウトデータが変換され、電子線描画装置に入力可能な描画データが生成される。そして、描画データを電子線描画装置に一括転送入力して、電子線描画装置内で、描画データに基づいて、さらに、複数段の変換処理の末に電子線描画装置内のフォーマットのデータに変換されて描画される。
しかしながら、LSIの高集積化に伴って電子ビーム描画装置が処理するデータ量が膨大なものとなってきた。そのため、電子ビーム描画装置とオフラインになる外部装置で生成する描画データの生成時間や、生成された描画データを電子ビーム描画装置へと一括転送する際の転送時間が増大し、全体としての描画時間を増大させてしまうといった問題があった。そして、これは同時に描画されるマスクの製造コストが大きくなる原因にもなっている。そのため、発明者は、複数の設計データファイルを描画装置内に順次転送処理し、転送処理から続く複数段の各データ処理がパイプライン処理になるようにデータ処理を行ない、データ処理が行なわれた各データに基づいてパターンを描画するといった技術を開発した(例えば、特許文献1参照)。これにより転送時間やデータ処理時間を短縮できるようになった。
特開2008−034439号公報
ここで、データ変換処理機能に不具合が内在する可能性がある場合に、変換された描画データが正しく変換できているかどうかを検証することが望ましい。データ変換処理をオフラインで行う場合には、変換後のデータを検証した後で描画装置内に転送することができるが、これでは描画装置へ一括転送する際の転送時間が増大し、全体としての描画時間を増大させてしまうといった問題が残ってしまう。一方、描画装置内でデータ変換処理を行う場合には変換前のデータを入力するのでデータ入力前にデータ検証を行なうことができない。描画装置内でデータ変換処理を行った後にオフラインでデータ検証を行なうことは可能であるが、それでは、せっかくパイプライン処理にて効率化を図った意味が無くなってしまう。
以上のように、描画装置内のデータ変換処理機能に不具合が内在する可能性がある場合に、変換された描画データが正しく変換されているかどうかを検証することが望ましい。しかし、従来、効率よく変換された描画データが正しく変換されているかどうかを検証する手法が確立されていなかった。
本発明は、かかる問題点を克服し、変換された描画データが正しく変換されているかどうかを検証しながら効率の優れたデータ処理を行なうことが可能な描画装置および方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画装置は、
第1と第2の記憶装置と、
複数のカバレッジポイントと各カバレッジポイントの通過の有無を示す情報とが定義されたカバレッジポイント情報ファイルを記憶する第3の記憶装置と、
パターンレイアウトが定義された所定の領域毎の複数の設計データファイルを外部から第1の記憶装置に順次転送処理する転送処理部と、
各設計データファイルを第1の記憶装置から順次読み出し、上述した複数のカバレッジポイントが組み込まれたデータ変換プログラムを用いて各設計データファイル内の設計データを所定のフォーマットの描画データに変換する第1番目のデータ処理を上述した転送処理とパイプライン処理になるように行ない、第1番目のデータ処理後の描画データを第2の記憶装置に記憶させ、第1番目のデータ処理をおこなった際に通過したカバレッジポイントについて第3の記憶装置に記憶されたカバレッジポイント情報ファイルでは未通過を示している場合に通過を示す情報に書き換える更新処理を行なう第1番目のデータ処理部と、
各描画データを第2の記憶装置から順次読み出し、当該第1番目のデータ処理時に第3の記憶装置に記憶されたカバレッジポイント情報ファイルの更新処理で上述した書き換えが行なわれた場合に当該第1番目のデータ処理が行なわれた描画データを検証する検証処理を転送処理と第1番目のデータ処理と検証処理とがパイプライン処理になるように行なう検証部と、
各描画データを前記第2の記憶装置から順次読み出し、第1番目のデータ処理とは異なる第n番目(n≧2)のデータ処理を、転送処理と第1番目のデータ処理と検証処理と第n番目のデータ処理とがパイプライン処理になるように行なう第n番目のデータ処理部と、
第1番目から第n番目のデータ処理と検証処理とが行なわれた各データを第2の記憶装置から読み出し、読み出された各データに基づいて制御された荷電粒子ビームを用いて試料に所定のパターンを描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする。
かかる構成により、転送時間と描画データへの変換時間と検証処理時間とその後のデータ処理時間とを重ねることができる。さらに、変換された描画データが正しく変換されているかどうかを検証できる。さらに、カバレッジポイント情報ファイルの更新処理で書き換えが行なわれた場合に検証する。
また、検証部は、更新処理で書き換えが行なわれなかった第1番目のデータ処理後の描画データに対して検証処理を行なわないように構成すると好適である。
また、検証部は、更新処理で書き換えが行なわれた第1番目のデータ処理後の描画データに対して当該第1番目のデータ処理前の設計データを用いて検証処理を行なうと好適である。
或いは、転送処理部は、さらに、既に描画に使用された使用済み描画データを外部から前記第1の記憶装置に転送処理し、
検証部は、更新処理で書き換えが行なわれた第1番目のデータ処理後の描画データに対して使用済み描画データを用いて検証処理を行なうように構成しても好適である。
本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画方法は、
パターンレイアウトが定義された所定の領域毎の複数の設計データファイルを外部から第1の記憶装置に順次転送処理する工程と、
各設計データファイルを第1の記憶装置から順次読み出し、複数のカバレッジポイントが組み込まれたデータ変換プログラムを用いて各設計データファイル内の設計データを所定のフォーマットの描画データに変換する第1番目のデータ処理を転送処理とパイプライン処理になるように行ない、第1番目のデータ処理後の描画データを第2の記憶装置に記憶させ、第1番目のデータ処理をおこなった際に通過したカバレッジポイントについて、複数のカバレッジポイントと各カバレッジポイントの通過の有無を示す情報とが定義されたカバレッジポイント情報ファイルを記憶する第3の記憶装置に記憶されたカバレッジポイント情報ファイルでは未通過を示している場合に通過を示す情報に書き換える更新処理を行なう工程と、
各描画データを第2の記憶装置から順次読み出し、当該第1番目のデータ処理時に第3の記憶装置に記憶されたカバレッジポイント情報ファイルの更新処理で上述した書き換えが行なわれた場合に当該第1番目のデータ処理が行なわれた描画データを検証する検証処理を転送処理と第1番目のデータ処理と検証処理とがパイプライン処理になるように行なう工程と、
各描画データを第2の記憶装置から順次読み出し、第1番目のデータ処理とは異なる第n番目(n≧2)のデータ処理を、転送処理と第1番目のデータ処理と検証処理と第n番目のデータ処理とがパイプライン処理になるように行なう工程と、
第1番目から第n番目のデータ処理と検証処理とが行なわれた各データを第2の記憶装置から読み出し、読み出された各データに基づいて制御された荷電粒子ビームを用いて試料に所定のパターンを描画する工程と、
を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、転送時間と描画データへの変換時間と検証処理時間とその後のデータ処理時間とを重ねることができるので、効率の優れたデータ処理を行なうことができる。よって、変換された描画データが正しく変換されているかどうかを検証しながら効率の優れたデータ処理を行なうことができる。その結果、大幅に描画時間を短縮させることができる。
実施の形態1における描画装置の構成を示す概念図である。 実施の形態1における電子ビーム描画方法の要部工程を示すフローチャート図である。 実施の形態1におけるカバレッジポイントを組み込む手法とカバレッジポイントが組み込まれる前後のデータ変換プログラムの一部の一例とカバレッジポイント情報ファイルの一例とを示す図である。 実施の形態1におけるデータ処理の流れを示す概念図である。 実施の形態1における制御回路の処理フローの一例を示す図である。 実施の形態1における制御回路と転送処理回路とデータ処理回路との間での信号送受信の様子を説明するための概念図である。 実施の形態1における転送処理回路の処理フローの一例を示す図である。 実施の形態1におけるデータ処理回路の処理フローの一例を示す図である。 実施の形態1におけるカバレッジポイント情報の更新を説明するための概念図である。 実施の形態1におけるカバレッジポイント情報ファイルの更新の様子を説明するための図である。 実施の形態1におけるパイプライン処理を説明するためのフロー図である。 実施の形態2におけるデータ処理の流れを示す概念図である。 実施の形態3におけるデータ処理の流れを示す概念図である。 従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
以下、実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の荷電粒子を用いたビームでも構わない。また、荷電粒子ビーム装置の一例として、荷電粒子ビーム描画装置、特に、可変成形型の電子ビーム描画装置について説明する。
図1は、実施の形態1における描画装置の構成を示す概念図である。図1において、描画装置100は、描画部150と制御部160を備えている。描画装置100は、電子ビーム描画装置の一例である。描画部150は、描画室103と描画室103の上部に配置された電子鏡筒102を備えている。電子鏡筒102内には、電子銃201、照明レンズ202、第1のアパーチャ203、投影レンズ204、偏向器205、第2のアパーチャ206、対物レンズ207、及び偏向器208を有している。そして、描画室103内には、XYステージ105が配置され、XYステージ105上に描画対象となる試料101が配置される。制御部160は、制御ユニット112と制御ユニット212を有している。制御ユニット112は、制御回路110、複数のデータ処理回路122から構成されるデータ処理回路群120、ハードディスク装置等の記憶装置124、及び同じくハードディスク装置等の記憶装置126を備えている。そして、制御回路110と複数のデータ処理回路122と記憶装置124と記憶装置126とは、図示していないバスにより互いに接続されている。そして、制御ユニット112内の制御回路110は、複数のデータ処理回路122a、データ処理回路122b、・・・データ処理回路122nから構成されるデータ処理回路群120の処理状況を管理する。また、制御ユニット212は、制御回路210、転送処理回路214、複数のデータ処理回路222から構成されるデータ処理回路群220、ハードディスク装置等の記憶装置224、同じくハードディスク装置等の記憶装置225、及び同じくハードディスク装置等の記憶装置226を備えている。そして、制御回路210と転送処理回路214と複数のデータ処理回路222と記憶装置224と記憶装置225と記憶装置226とは、図示していないバスにより互いに接続されている。そして、制御ユニット212内の制御回路210は、転送処理回路214、複数のデータ処理回路222a、データ処理回路222b、データ処理回路222c、・・・データ処理回路222nから構成されるデータ処理回路群220の処理状況を管理する。また、ここでは、各処理回路として、一例として、プログラムを実行させるCPU等の計算機を用いる。或いは、電気回路で処理内容を一部或いは全て回路構成した回路基板等を用いても構わない。図1では、本実施の形態1を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。描画装置100にとって、通常、必要なその他の構成が含まれることは言うまでもない。
上述したように、電子ビーム描画を行なうにあたっては、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、パターンレイアウトが定義されたレイアウトデータ(設計データ)が生成される。また、レイアウトデータは、通常、分散処理を行なうため、1チップの領域を所定の領域、例えば、短冊状或いはブロック状に仮想分割した領域毎にまとめられ、1つのデータファイル、すなわちレイアウトデータファイルを構成する。ここで、従来は、描画装置100ではなく、外部装置でかかるレイアウトデータが電子ビーム描画装置に入力可能なフォーマットの描画データに変換されていた。そして出来上がった描画データを電子ビーム描画装置に一括転送入力して、電子ビーム描画装置内で描画データに基づいてさらに複数段の変換処理の末に電子ビーム描画装置内のフォーマットのデータに変換されて描画されていた。
しかしながら、実施の形態1では、外部装置でレイアウトデータを描画データに変換せずに、描画装置100に外部の記憶装置300に格納されているレイアウトデータを直接入力して、その後のデータ処理を展開していく構成としている。また、データ処理を展開していく中でデータ変換された描画データの検証も必要に応じて行なう構成としている。以下、そのフローに沿って実施の形態1における描画方法を説明する。
図2は、実施の形態1における電子ビーム描画方法の要部工程を示すフローチャート図である。図2において、電子ビーム描画方法は、制御ユニット212内で行なう処理として、レイアウトデータを転送する転送処理工程(S102)、描画データ変換処理工程(S104)、フォーマットチェック処理工程(S106)、更新フラグ判定工程(S108)、検証工程(S110)、その他の第nのデータ処理工程(S112)、そして、制御ユニット112内で行なう処理として、その後の第n+1のデータ処理工程(S120)、その後の第n+kのデータ処理工程(S122)、そして、描画工程(S126)という一連の工程を実施する。
ここで、記憶装置(第3の記憶装置)には、複数のカバレッジポイントと各カバレッジポイントの通過の有無を示す情報とが定義されたカバレッジポイント情報ファイル12と、カバレッジポイント情報ファイル12が更新されたかどうかを示す更新フラグ情報ファイル16とが記憶されている。実施の形態1では、レイアウトデータを描画データに変換するデータ変換プログラムに、予め、かかる複数のカバレッジポイントを組み込んでおく。
図3は、実施の形態1におけるカバレッジポイントを組み込む手法とカバレッジポイントが組み込まれる前後のデータ変換プログラムの一部の一例とカバレッジポイント情報ファイルの一例とを示す図である。カバレッジポイントの組み込みは、レイアウトデータを描画データに変換するデータ変換プログラムが新規に作成された場合やプログラムの一部が更新された場合等が生じたときに行なう。その際、カバレッジポイントを組み込んだデータ変換プログラム14を作成するだけでなく、組み込んだカバレッジポイントに関するカバレッジポイント情報ファイル12を作成する。
カバレッジポイントが組み込まれる前のデータ変換プログラム11に対して、例えば、以下の場所にカバレッジポイントを組み込む。例えば、関数の先頭或いは最後に組み込む。データ変換プログラム14では、”COVERAGE POINTn”で示されている。また、”if”や”swich”が付いた文等のプログラムの分岐部に組み込む。データ変換プログラム14では、”COVERAGE POINTn+1”で示されている。また、ソースコードの任意行に組み込んでもよい。データ変換プログラム14では、”COVERAGE POINTn+2”で示されている。その他、ある変数の値が指定値或いは指定範囲になった場合にカバレッジポイントを更新するように組み込んでも好適である。以上のように、データ変換プログラム14には、複数のカバレッジポイントが組み込まれる。図3の例では、3つのカバレッジポイントを示しているが、実際のデータ変換プログラム14では、多数のカバレッジポイントが組み込まれる。かかるカバレッジポイント抽出設定処理は、ユーザーが確認しながら手作業でおこなってもよいし、或いは、設定項目を予め決めておき、例えば、カバレッジポイント抽出設定処理回路10によって、かかる設定項目に該当する箇所に自動的にカバレッジポイントが設定されるように構成してもよい。
また、組み込まれた複数のカバレッジポイントは、カバレッジポイント情報ファイル12に定義される。カバレッジポイント情報ファイル12には、各カバレッジポイントについて、組み込まれた箇所のデータ変換プログラム14内の関数名と行番号と通過フラグとが定義される。通過フラグは、カバレッジポイントの通過の有無を示す情報となり、最初は”0”に設定される。そして、一度通過すると”1”に更新されることになる。すなわち、”0”では当該カバレッジポイントは通過していないことを示し、”1”では当該カバレッジポイントは通過したことを示す。
図4は、実施の形態1におけるデータ処理の流れを示す概念図である。図4において、データ転送処理とデータ変換処理とデータ検査処理とデータ検証処理と、・・・データ転送処理とが行われることを示している。
図2のS102において、転送処理工程として、転送処理回路214は、所定の領域毎の複数のレイアウトデータファイルを外部から描画装置100内の記憶装置224(第1の記憶装置)に順次転送し、記憶させる。
ここで、レイアウトデータファイルの転送に先立って、まず、制御ユニット212内の制御回路210の処理フローが実行される。
図5は、実施の形態1における制御回路の処理フローの一例を示す図である。図5のS202において、転送対象データ均一化処理として、制御ユニット212内の制御回路210は、転送対象となるレイアウトデータファイル群を転送するにあたり、後述するパイプライン処理1回当たりのデータ転送単位のデータサイズがパイプライン処理に適したサイズとなるようにレイアウトデータファイルをグループ化する。すなわち、複数のレイアウトデータファイルを1回の転送に対して1つずつ転送するのではなく、パイプライン処理に適したサイズとなるように少なくとも1つのレイアウトデータファイルを含む所定のデータサイズのファイル群でグループ化する。各レイアウトデータファイルのファイルサイズの情報は、予め入力しておけばよい。このようにグループ化することで、データ処理の負荷を均一化し、一方で処理が終了したが他方では処理が終了せずにパイプライン処理が停滞してしまうといった後述するパイプライン処理に支障をきたさないようにすることができる。
図5のS204において、各処理回路の状況判定工程として、制御回路210は、レイアウトデータファイルの転送に先立って、まず、制御ユニット212内の各処理回路への処理要求が出せる状況か、言い換えれば、処理時間に空きがあるかどうかを判定する。空きがなければ、空きができまでS204を繰り返す。空きがあればS206に進む。
図5のS206において、処理要求送信工程として、制御回路210は、制御ユニット212内の各処理回路への処理要求信号を送信する。
図6は、実施の形態1における制御回路と転送処理回路とデータ処理回路との間での信号送受信の様子を説明するための概念図である。図6に示すように、制御回路210は、制御ユニット212内の転送処理回路214や各データ処理回路222への処理要求信号を送信する。そして、処理要求信号を受けた各処理回路は、自身の負荷情報や処理の終了情報といった実行計算機情報を制御回路210に返信する。このように返信を受けることで制御回路210は、制御ユニット212内の各処理回路の処理情報を把握することができる。よって、これらの各処理回路を管理することができる。
図5のS208において、処理状況の判定工程として、制御回路210は、全データの処理が終了したかどうかを判定する。終了していなければS204に戻る。終了していればフローを終了する。
そして、上述した処理要求信号を受けた転送処理回路214側でも処理フローが実行される。
図7は、実施の形態1における転送処理回路の処理フローの一例を示す図である。図7のS302において、転送データ有無の判定工程として、転送処理回路214は、外部の記憶装置300に転送すべきレイアウトデータファイルのグループが有るかどうかを判定する。なければフローを終了する。あればS304に進む。
図7のS304において、記憶領域判定工程として、転送処理回路214は、転送先となる記憶装置224の記憶領域にまだ転送データを受け入れるだけの空きがあるかどうかを判定する。空きがある場合にはS308に進む。空きがない場合にはS306に進む。
図7のS306において、待機工程として、転送処理回路214は、転送先となる記憶装置224の記憶領域に転送データを受け入れるだけの空きができるまで処理フローを待機させる。そして、予め設定した所定の待機時間が経過しても記憶領域に空きができなない場合には処理フローを終了させる。
図7のS308において、データ転送処理工程として、転送処理回路214は、グループ化されたレイアウトデータ群を記憶装置224に転送する。
図7のS310において、転送エラー判定工程として、転送処理回路214は、転送処理にエラーが生じたかどうかを判定する。そして、エラーが生じた場合には、リトライするためにS312に進む。エラーが生じなかった場合にはS314に進む。
図7のS312において、リトライ回数判定工程として、転送処理回路214は、リトライ回数を判定する。そして、リトライ回数が予め設定した規定回数kmaxを超えていない場合には、S308に進み、データ転送処理を再度実行する。そして、予め設定した規定回数kmaxを超えている場合には処理フローを終了させる。
図7のS314において、登録工程として、転送処理回路214は、転送済みのデータ情報を変換キューへ登録する。以上のように、各転送処理に対して上述した図5の各ステップを実行しながら、順次、レイアウトデータファイルの各グループの転送処理を実行していく。
図2のS104において、描画データ変換工程(第1のデータ処理工程)として、第1のデータ処理回路の一例となるデータ処理回路222aは、各レイアウトデータファイルを記憶装置224から順次読み出す。そして、読み出した各レイアウトデータファイル内のレイアウトデータに対して上述した複数のカバレッジポイントが組み込まれたデータ変換プログラムを用いて所定のフォーマットの描画データに変換する第1番目のデータ処理を描画装置100内で上述した転送処理とパイプライン処理になるように行なう。そして、処理後の描画データを描画装置100内の記憶装置226(第2の記憶装置)に記憶させる。さらに、データ処理回路222aは、第1番目のデータ処理をおこなった際に通過したカバレッジポイントについて記憶装置225に記憶されたカバレッジポイント情報ファイル12では通過フラグが未通過”0”を示している場合に通過を示すフラグ”1”(通過を示す情報)に書き換える更新処理を行なう。さらに、データ処理回路222aは、更新処理を行なう場合には、更新フラグ情報ファイル16に”1”を書き込み、更新処理を行なわない場合には、”0”を書き込む。具体的には、以下のような処理フローが実行される。
図8は、実施の形態1におけるデータ処理回路の処理フローの一例を示す図である。図8のS402において、変換キュー有無の判定工程として、第1番目のデータ処理を行なうデータ処理回路222aは、変換キューの有無を判定する。制御回路210から処理要求信号を受けておらず変換キューの登録が無い場合には処理フローを終了する。制御回路210から処理要求信号を受けて変換キューが登録されている場合(すなわち、変換キュー有りの場合)にはS404に進む。ここでは、データ処理回路222aが判定しているが、データ処理回路群220を管理する図示しない別のCPU等を設けて、そこで判定処理を実行させてもよい。或いは、データ処理回路群220を管理する制御回路210が判定してもよい。
図8のS403において、判定工程として、第1番目のデータ処理を実行する例えばデータ処理回路222aは、処理内容がデータ変換かどうかを判定する。そして、いずれかの場合にはS404に進み、いずれでもない場合、例えば、データ検査処理或いはデータ検証処理等の場合にはS408へスキップする。
図8のS404において、記憶領域判定工程として、第1番目のデータ処理を実行する例えばデータ処理回路222aは、処理後の格納先となる出力領域(ここでは記憶装置226の記憶領域)に処理後のデータを受け入れるだけの空きがあるかどうかを判定する。空きがある場合にはS408に進む。空きがない場合にはS406に進む。
図8のS406において、待機工程として、第1番目のデータ処理を実行する例えばデータ処理回路222aは、転送先となる記憶装置226の記憶領域に処理後のデータを受け入れるだけの空きができるまで処理フローを待機させる。そして、予め設定した所定の待機時間が経過しても記憶領域に空きができなない場合には処理フローを終了させる。
図8のS408において、データ処理工程として、第1番目のデータ処理を実行する例えばデータ処理回路222aは、各レイアウトデータファイルを記憶装置224から順次読み出す。そして、読み出した各レイアウトデータファイル内のレイアウトデータに対して描画装置100用のフォーマットの描画データに変換する。データ処理回路222aは、さらに、以下のようなカバレッジポイントの更新と更新フラグの書き換えを行なう。
図9は、実施の形態1におけるカバレッジポイント情報の更新を説明するための概念図である。例えば、図9(a)に示すように、カバレッジポイント情報ファイル12では、最初、すべてのカバレッジポイント通過フラグに”0”が定義されている。すなわち、ファイル作成時にはすべて”0”に初期化される。そして、パイプライン処理に適したサイズとしてグループ化されたファイル群のレイアウトデータについて、データ変換処理を行った結果、カバレッジポイントnとカバレッジポイントn+1とを通過したとする。かかる場合、データ処理回路222aは、図9(b)に示すように、通過したカバレッジポイントnとカバレッジポイントn+1について、カバレッジポイント情報ファイル12の通過フラグに”1”を書き込むことで更新処理を行なう。図9(b)の例では、関数「func1」の行番号「3」に配置されたカバレッジポイントnのカバレッジポイント通過フラグに”1”が書き込まれる。また、関数「func1」の行番号「5」に配置されたカバレッジポイントn+1のカバレッジポイント通過フラグに”1”が書き込まれる。また、データ処理回路222aは、更新有無のチェック処理として、例えば、書き込み先の通過フラグとの間で排他的論理和演算(XOR演算)を行うなどして、カバレッジポイント情報ファイル12の複数の通過フラグの中に”0”から”1”に変わったものがあるかどうかをチェックする。そして、データ処理回路222aは、更新フラグ情報16への書き換え処理として、通過フラグの中に”0”から”1”に変わったものが1つ以上あった場合には、更新フラグ情報16に”1”を書き込む。また、通過フラグの中に”0”から”1”に変わったものがまったく無い場合には、更新フラグ情報16に”0”を書き込む。或いは、まず、更新フラグ情報16を”0”に初期化した後、通過フラグの中に”0”から”1”に変わったものが1つ以上あった場合にだけ、更新フラグ情報16に”1”を書き込むようにしてもよい。
図10は、実施の形態1におけるカバレッジポイント情報ファイルの更新の様子を説明するための図である。まず、データ変換処理が一度も行なわれていないカバレッジポイント情報ファイル12aでは、通過フラグがすべて”0”に初期化されている。そして、データ処理回路222aは、例えば、記憶装置224からレイアウトデータファイル1,2のグループを処理単位として読み出し、データ変換処理を行なう。そして、変換後の描画データは記憶装置226に格納される。その際、関数「func1」の行番号「3」に配置されたカバレッジポイントnを通過した場合に、カバレッジポイント情報ファイル12bで示すように、かかるカバレッジポイント通過フラグに”1”が書き込まれる。次に、データ処理回路222aは、例えば、記憶装置224からレイアウトデータファイル3のグループを処理単位として読み出し、データ変換処理を行なう。そして、変換後の描画データは記憶装置226に格納される。その際、新たなカバレッジポイントを通過しなかった場合、カバレッジポイント情報ファイル12cで示すように、更新処理において通過フラグへの書き込みは行なわれない。続いて、データ処理回路222aは、例えば、記憶装置224からレイアウトデータファイル4,5のグループを処理単位として読み出し、データ変換処理を行なう。そして、変換後の描画データは記憶装置226に格納される。その際、関数「func1」の行番号「7」に配置されたカバレッジポイントn+2を通過した場合に、カバレッジポイント情報ファイル12dで示すように、かかるカバレッジポイント通過フラグに”1”が書き込まれる。
カバレッジポイント情報ファイル12の更新処理と、更新有無のチェック処理と、更新フラグ情報16への書き換え処理は、パイプライン処理に適したサイズとしてグループ化されたファイル群がデータ変換処理される毎に行なう。カバレッジポイント情報ファイル12の更新処理はデータ変換処理をおこなった結果必要がある場合に行なってもよい。また、更新フラグ情報16は、パイプライン処理に適したサイズとしてグループ化されたファイル群毎に設けられる。これにより、各グループの処理を並列に行なった際に他のグループでの書き換え処理時に上書きされてしまうことを防げる。よって、各グループの処理を並列に行なうことができる。
図11は、実施の形態1におけるパイプライン処理を説明するためのフロー図である。実施の形態1では、レイアウトデータ群の各グループに対して上述した転送処理から後述する第n番目のデータ処理までパイプライン処理になるように行なう。図11では、レイアウトデータファイル1,2からなるレイアウトデータ群の処理データグループを転送処理(データ転送)から第1番目のデータ処理(プロセス1:描画データ変換)、第2番目のデータ処理(プロセス2:フォーマット検査)、データ検証(プロセス3)と続き、・・・そして第n番目のデータ処理(プロセスn)までがパイプライン構成されている。ここで、データ検証処理は、描画データ変換後であれば、第2番目のデータ処理のフォーマット検査を含む第n番目までのデータ処理のいずれの前或いは後で行なうようにしても構わない。
図11の例では、転送処理回路214は、レイアウトデータファイル1,2からなるレイアウトデータ群の処理データグループの転送処理となるデータ転送(1)に続き、次の処理データグループの転送処理となるデータ転送(2)、データ転送(3)、・・・と順次転送処理を行なう。また、第1番目のデータ処理を行なう例えばデータ処理回路222aは、データ転送(1)が終わったレイアウトデータファイル1,2からなるレイアウトデータ群の処理データグループのデータ変換処理となるデータ変換(1)に続き、次の処理データグループのデータ変換処理となるデータ変換(2)、データ変換(3)、・・・と順次データ変換処理を行なう。そして、第2番目のデータ処理を行なう例えばデータ処理回路222bは、データ変換(1)が終わったレイアウトデータファイル1,2からなるレイアウトデータ群の処理データグループのフォーマット検査処理となるフォーマット検査(1)に続き、次の処理データグループのフォーマット検査処理となるフォーマット検査(2)、フォーマット検査(3)、・・・と順次フォーマット検査処理を行なう。そして、例えばデータ処理回路222cは、フォーマット検査(1)が終わったレイアウトデータファイル1,2からなるレイアウトデータ群の処理データグループのデータ検証処理となるデータ検証(1)に続き、次の処理データグループのデータ検証処理となるデータ検証(2)、データ検証(3)、・・・と順次、後述する判定工程(S108)の結果に応じてデータ検証処理を行なう。このように、パイプライン処理で進めることで、転送時間と第1のデータ処理となる描画データ変換処理にかかる時間と検証時間とその他のデータ処理にかかる時間とが重なり合うため大幅な時間短縮を図ることができる。そして、第1番目のデータ処理以降の処理後の描画データは描画装置100内の記憶装置226(第2の記憶装置)に記憶される。
以上のようにパイプライン処理で進めるにあたって、上述したように、転送処理の際に転送に失敗した場合でもS310及びS312でリトライを続ける処理を実行することで、パイプライン処理をやり直さなくても済むようにすることができる。さらに、転送処理の際にS304で記憶装置224の領域の空きを待ち、記憶領域が不足していた場合に、スペースができるまで処理を中断し、スペースができた時点で再開するように処理することで、同様にパイプライン処理をやり直さなくても済むようにすることができる。同様に、S404で記憶装置226の領域の空きを待ち、記憶領域が不足していた場合に、スペースができるまで処理を中断し、スペースができた時点で再開するように処理することで、同様にパイプライン処理をやり直さなくても済むようにすることができる。
図8のS410において、登録工程として、データ処理回路222aは、データ処理済みのデータ情報を変換キューへ登録する。
図8のS412において、判定工程として、最終段のデータ処理回路222nによるデータ処理でない場合、すなわち、データ処理されたプロセスmが第n番目のプロセスnでない場合には、S402に戻る。データ処理回路222nによるデータ処理が終了した場合にはS414に進む。
図8のS402に戻って、変換キュー有無の判定工程として、今度は第2番目のデータ処理を行なうデータ処理回路222bが変換キューの有無を判定する。ここでは、データ処理回路222bが判定しているが、データ処理回路群220を管理する図示しない別のCPU等を設けて、そこで判定処理を実行させてもよい。或いは、データ処理回路群220を管理する制御回路210が判定してもよい点は同様である。そして、図8のS403において、判定工程として、第2番目のデータ処理を実行する例えばデータ処理回路222bは、処理内容がデータ変換かどうかを判定する。そして、いずれかの場合にはS404に進み、いずれでもない場合、例えば、データ検査処理(フォーマットチェック処理)或いはデータ検証処理等の場合にはS408へスキップする。ここでは、フォーマットチェック処理を行なう第2番目のデータ処理を想定しているので、S408へスキップすることになる。
図2のS106(第2回目の図8のS408でもある)において、フォーマットチェック処理工程(第2のデータ処理工程)として、第2のデータ処理回路の一例となるデータ処理回路222bは、各描画データを記憶装置226から順次読み出し、各描画データに対してそれぞれフォーマットチェック処理を行なう第2番目のデータ処理を行なう。データ処理結果は制御回路210或いは制御ユニット212内の回路が接続可能な図示しないメモリ等に出力される。
そして、図8のS410において、登録工程として、データ処理回路222bは、データ処理済みのデータ情報を変換キューへ登録する。そして、図8のS412でデータ処理回路222nによるデータ処理が終了したかどうかを判定する。そして、終了していない場合には、第3回目のS402からS412までを実行する。
図8のS402に戻って、変換キュー有無の判定工程として、今度は第3番目のデータ処理となるデータ検証処理を行なうデータ処理回路222cが変換キューの有無を判定する。ここでは、データ処理回路222cが判定しているが、データ処理回路群220を管理する図示しない別のCPU等を設けて、そこで判定処理を実行させてもよい。或いは、データ処理回路群220を管理する制御回路210が判定してもよい点は同様である。そして、データ検証処理時は、描画データを別のデータにデータ処理するためのプロセスではないので、処理後のデータを記憶装置226に格納する必要はない。よって、図8のS403において、判定工程として、例えばデータ処理回路222cは、処理内容がデータ変換かどうかを判定する。そして、いずれでもない場合、例えば、データ検査処理(フォーマットチェック処理)或いはデータ検証処理等の場合にはS408へスキップする。ここでは、データ検証処理を想定しているので、図8のS404とS406は省略して、図8のS408に進む。
図2のS108(第3回目の図8のS408の一部でもある)において、フラグ判定工程(第3番目のデータ処理の一部)として、検証部の一例となるデータ処理回路222cは、記憶装置225から更新フラグ情報ファイル16を読み出し、更新フラグ情報ファイル16に”1”が書き込まれているかどうかを判定する。言い換えれば、当該第1番目のデータ処理時に記憶装置225に記憶されたカバレッジポイント情報ファイル12の更新処理でいずれかの通過フラグに”0”から”1”への書き換えが行なわれたかどうかを判定する。更新フラグ情報ファイル16に”1”が書き込まれているか場合には検証を行ない、更新フラグ情報ファイル16に”0”が書き込まれているか場合には検証を行なわず検証工程をスキップ(省略)する。言い換えれば、データ処理回路222cは、更新処理で通過フラグへの書き換えが行なわれなかった第1番目のデータ処理後の描画データに対して検証処理を行なわないように構成する。各グループのデータ変換処理を順次行なっていくうちに、同じカバレッジポイントを通過する場合が生じる。その際には、更新処理で通過フラグへの書き換えが行なわれないが、既に通過フラグが”1”となっている箇所は以前に検証が済んでいるのでここでは検証を行なわずに済ませて構わない。このように、既に1回検証が終わっているデータ変換プログラムの該当箇所については、検証しないことにすることで、すべてのデータを検証する場合に比べて検証時間を大幅に短縮することができる。
図2のS110(第3回目の図8のS408の残りの一部でもある)において、データ検証工程(第3番目のデータ処理の残りの一部)として、検証部の一例となるデータ処理回路222cは、各描画データを記憶装置226から順次読み出し、当該第1番目のデータ処理時に記憶装置225に記憶されたカバレッジポイント情報ファイルの更新処理が行なわれた場合に当該第1番目のデータ処理が行なわれた描画データを検証する。また、検証処理は、転送処理と第1番目のデータ処理と検証処理とがパイプライン処理になるように行なわれる。検証方法は、例えば、XOR演算を行なう。
実施の形態1では、さらに、各レイアウトデータファイルを記憶装置224から順次読み出し、当該第1番目のデータ処理前のレイアウトデータを用いて検証処理を行なう。すなわち、データ変換後の描画データがデータ変換前のレイアウトデータと同様の図形を示すデータに正確に変換できているかどうかを検証する。そして、検証結果は、記憶装置225に格納する。また、検証の結果、正確にデータ変換できていない場合には、エラーとして、図2で示したフローチャートに沿ったデータ処理全体を停止させ、検証結果を制御回路210或いは制御ユニット212内の回路が接続可能な図示しないメモリや図示しないモニタ等に出力する。検証の結果、正確にデータ変換できている場合には、以降のデータ処理へと進む。もちろん、検証の結果、正確にデータ変換できている場合でも検証結果を制御回路210或いは制御ユニット212内の回路が接続可能な図示しないメモリや図示しないモニタ等に出力しても構わないことは言うまでもない。
そして、図8のS410において、登録工程として、データ処理回路222cは、データ処理済みのデータ情報を変換キューへ登録する。そして、図8のS412でデータ処理回路222nによるデータ処理が終了したかどうかを判定する。そして、終了していない場合には、第4回目のS402からS412までを実行する。
そして、図2のS108(第n回目の図6のS408でもある)において、第n番目のデータ処理工程として、第n番目のデータ処理部となるデータ処理回路222nは、各描画データを記憶装置226から順次読み出し、第1番目のデータ処理とは異なる第n番目(n≧2)のデータ処理を、転送処理と第1番目のデータ処理と検証処理と第n番目のデータ処理とがパイプライン処理になるように行ない、処理内容がデータ変換を伴った場合には第n番目のデータ処理後のデータを第2の記憶装置に記憶させる。処理内容がフォーマット検査或いはデータ検証である場合には、その結果は制御回路210或いは制御ユニット212内の回路が接続可能な図示しないメモリや図示しないモニタ等に出力される。ここでは、第n番目のデータ処理は、第3番目のデータ処理より後の処理を示しているが、第2番目或いは第3番目のデータ処理であっても構わない。例えば、検証工程の後にフォーマット検査工程を行ない、かかるフォーマット検査工程が最終段のデータ処理工程であってもよい。すなわち、データ検証処理を除けば、n≧2であればよい。或いは、上述したように、例えば、フォーマット検査工程の後に検証工程を行ない、かかる検証工程が最終段のデータ処理工程であってもよい。すなわち、データ検証処理を含めれば、n≧3であればよい。
そして、図8のS410において、登録工程として、データ処理回路222cは、データ処理済みのデータ情報を変換キューへ登録する。そして、図8のS412でデータ処理回路222nによるデータ処理が終了したかどうかを判定する。
そして、S414において、データ転送処理工程として、データ処理回路222nは、第n番目までの処理が終了したレイアウトデータ群のグループを記憶装置226から制御ユニット112の記憶装置124に転送する。
また、最終段のデータ処理回路222nは、第n番目までの処理が終了した各データ変換済みデータの情報を削除する。ここでは、例えばデータ処理回路222nが代表して削除しているが、各データ処理回路222が削除してもよい。或いは、データ処理回路群220を管理する図示しない別のCPU等を設けて、そこで削除処理を実行させてもよい。或いは、データ処理回路群220を管理する制御回路210が削除処理を実行してもよい。
そして、データ処理回路222nは、第n番目までの処理が終了したレイアウトデータ群のグループを記憶装置224から削除する。第n番目までの処理が終了したデータを順次削除していくことで、記憶装置224の記憶領域を空けることができ、後段の転送データを順次記憶することができる。
さらに、データ処理回路222nは、第n番目までの処理が終了したレイアウトデータ群のグループを記憶装置226から削除する。第n番目までの処理が終了したデータを順次削除していくことで、記憶装置226の記憶領域を空けることができ、後段のデータ処理される各グループのデータを順次記憶することができる。
図8では、S402からS414まで進んだ後に、またS402に戻って繰り返す図になっているが、1つのグループがS402からS414まで終了した後に次のグループの処理を行なうのではなく、以上の各ステップをレイアウトデータ群の各グループについてパイプライン処理になるように実行していく。
そして、次に制御ユニット112にて描画するまでに必要な残ったデータ処理を実行していく。
図2のS120において、第n+1番目のデータ処理工程として、第n+1のデータ処理回路の一例となるデータ処理回路122aは、制御ユニット212でデータ処理された各描画データを記憶装置124から順次読み出し、各描画データに対してそれぞれ所定のデータ処理の第n+1番目のデータ処理を行なう。そして処理後のデータを記憶装置126に記憶させる。
そして、第n+1番目から第n+k番目のデータ処理を順に行なっていき、描画するための最終データ、例えばショットデータを作成する。
すなわち、図2のS122において、第n+k番目のデータ処理工程として、第n+kのデータ処理回路の一例となるデータ処理回路122kは、各描画データを記憶装置126から順次読み出し、各描画データに対してそれぞれ所定のデータ処理の第n+k番目のデータ処理を行なう。そして処理後のデータを記憶装置126に記憶させる。
以上のように、記憶装置226から第n番目のデータ処理が行なわれた各データを読み出し、読み出された各データに基づいて、制御ユニット112でさらにデータ処理される。そして、図2のS126において、描画工程として、描画部150は、最終段の描画装置内フォーマットデータで制御された電子ビーム200を用いて試料101に所定のパターンを描画する。言い換えれば、描画に用いる電子ビーム200は、第n番目のデータ処理が行なわれた各データに基づいて制御されている。描画部150の具体的な動作について以下に説明する。
電子銃201から出た荷電粒子線の一例となる電子ビーム200は、照明レンズ202により矩形、例えば長方形の穴を持つ第1のアパーチャ203全体を照明する。ここで、電子ビーム200をまず矩形、例えば長方形に成形する。そして、第1のアパーチャ203を通過した第1のアパーチャ像の電子ビーム200は、投影レンズ204により第2のアパーチャ206上に投影される。かかる第2のアパーチャ206上での第1のアパーチャ像の位置は、偏向器205によって制御され、ビーム形状と寸法を変化させることができる。そして、第2のアパーチャ206を通過した第2のアパーチャ像の電子ビーム200は、対物レンズ207により焦点を合わせ、偏向器208により偏向されて、移動可能に配置されたXYステージ105上の試料101の所望する位置に照射される。
以上のように、実施の形態1では、転送時間と描画データへの変換時間と検証時間とその後のデータ処理時間とを重ねることができる。さらに、変換された描画データが正しく変換されているかどうかを検証できる。さらに、データ変換処理時にカバレッジポイント情報を自動的に更新するので、既に検証したカバレッジポイント箇所の検証を省くことができる。これにより、必要以上に検証に時間をかけることを回避することができ、検証時間を短縮することができる。よって、効率の優れたデータ処理を行なうことができる。よって、変換された描画データが正しく変換されているかどうかを検証しながら効率の優れたデータ処理を行なうことができる。その結果、大幅に描画時間を短縮させることができる。
実施の形態2.
実施の形態1では、検証工程(S110)において変換前のレイアウトデータと変換後の描画データとを用いて検証を行なっていたが、これに限るものではない。実施の形態2では、描画工程(S126)で既に少なくとも一回使用された描画データ(使用済み描画データ)と、今回データ変換された描画データとを比較することで今回データ変換された描画データの検証を行なう場合について説明する。例えば、データ変換用プログラムのバージョンアップ(更新)が行なわれた場合に特に有効である。
図12は、実施の形態2におけるデータ処理の流れを示す概念図である。図12において、転送工程(S102)において、転送処理回路214が、既に少なくとも一回使用された描画データとなる旧変換データを外部の記憶装置302から入力し、記憶装置224に格納する点以外は図4と同様である。また、実施の形態2において、装置構成は図1と同様である。但し、外部の記憶装置302の図示は省略している。また、実施の形態2における電子ビーム描画方法の要部工程は、転送工程(S102)の内容と検証工程(S110)の内容とを除き図2と同様である。その他、特に記載しない内容は実施の形態1と同様である。
図2のS102において、転送処理工程として、転送処理回路214は、所定の領域毎の複数のレイアウトデータファイルを外部の記憶装置300から描画装置100内の記憶装置224(第1の記憶装置)に順次転送し、記憶させる。また、転送処理回路214は、所定の領域毎に対応する、既に少なくとも一回使用された描画データとなる旧変換データ(使用済み描画データ)を外部の記憶装置302から描画装置100内の記憶装置224(第1の記憶装置)に順次転送し、記憶させる。そして、描画データ変換処理工程(S104)から更新フラグ判定工程(S108)までの各工程を実施の形態1と同様に実施する。
図2のS110において、データ検証工程として、検証部の一例となるデータ処理回路222cは、各描画データを記憶装置226から順次読み出し、当該第1番目のデータ処理時に記憶装置225に記憶されたカバレッジポイント情報ファイルの更新処理が行なわれた場合に当該第1番目のデータ処理が行なわれた描画データを検証する。また、検証処理は、転送処理と第1番目のデータ処理と検証処理とがパイプライン処理になるように行なわれる。検証方法は、例えば、XOR演算を行なう。
実施の形態2では、各旧変換データを記憶装置224から順次読み出し、当該第1番目のデータ処理で問題なしとして描画に用いられた旧変換データを用いて検証処理を行なう。すなわち、データ変換後の描画データが以前に問題が起こらなかった旧変換データとなる描画データと同様の図形を示すデータに正確に変換できているかどうかを検証する。そして、検証結果は、記憶装置225に格納する。
例えば、データ変換用プログラムのバージョンアップ(更新)が行なわれた場合に、更新箇所以外は、既に前回の描画の際に正確にデータ変換が行なわれたはずである。そのため、旧変換データは、更新箇所以外は正しくデータ変換されているはずである。よって、旧変換データを用いて検証することで、レイアウトデータと比較するよりもより検証精度が向上することが期待できる。
実施の形態3.
実施の形態1,2では、いずれも描画装置100内で転送処理工程(S102)からその他の第nのデータ処理工程(S112)までを行なっていたが、かかる工程をオフラインで行なうことを排除するものではない。実施の形態3では、かかる転送処理工程(S102)からその他の第nのデータ処理工程(S112)までをオフラインで行なう構成について説明する。
図13は、実施の形態3におけるデータ処理の流れを示す概念図である。図13において、描画装置100から制御ユニット212を取り出し、外部のデータ処理装置とした点以外は、図4と同様である。また、実施の形態3において、図1の制御ユニット212を外部のデータ処理装置とした点以外は図1と同様である。また、実施の形態3における電子ビーム描画方法の要部工程は、転送処理工程(S102)から第nのデータ処理工程(S112)までを描画装置100の外部で行なう点以外は、図2と同様である。
以上のように、転送処理工程(S102)から第nのデータ処理工程(S112)までをオフラインでおこなった場合でも、転送処理工程(S102)から第nのデータ処理工程(S112)までの処理時間を短縮できる点は実施の形態1と同様である。また、第nのデータ処理工程(S112)まで済んだ各データを描画装置100内の記憶装置124に順次転送すれば、実施の形態1と同様の効果を得ることができる。
以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。
また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、可変成形型EB描画装置100を制御する制御部構成については、記載を省略したが、必要とされる制御部構成を適宜選択して用いることは言うまでもない。
その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全ての荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子線描画データの作成方法、荷電粒子線描画データの変換方法、及びそれらの装置は、本発明の範囲に包含される。
10 カバレッジポイント抽出設定処理回路
12 カバレッジポイント情報ファイル
11,14 データ変換プログラム
16 更新フラグ情報ファイル
100 描画装置
101,340 試料
102 電子鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
110,210 制御回路
112,212 制御ユニット
120,220 データ処理回路群
122,222 データ処理回路
124,126,224,225,226,300,302 記憶装置
150 描画部
160 制御部
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203,410 第1のアパーチャ
206,420 第2のアパーチャ
204 投影レンズ
205,208 偏向器
207 対物レンズ
214 転送処理回路
330 電子線
411 開口
421 可変成形開口
430 荷電粒子ソース

Claims (5)

  1. 第1と第2の記憶装置と、
    複数のカバレッジポイントと各カバレッジポイントの通過の有無を示す情報とが定義されたカバレッジポイント情報ファイルを記憶する第3の記憶装置と、
    パターンレイアウトが定義された所定の領域毎の複数の設計データファイルを外部から前記第1の記憶装置に順次転送処理する転送処理部と、
    各設計データファイルを前記第1の記憶装置から順次読み出し、前記複数のカバレッジポイントが組み込まれたデータ変換プログラムを用いて各設計データファイル内の設計データを所定のフォーマットの描画データに変換する第1番目のデータ処理を前記転送処理とパイプライン処理になるように行ない、第1番目のデータ処理後の描画データを前記第2の記憶装置に記憶させ、前記第1番目のデータ処理をおこなった際に通過したカバレッジポイントについて前記第3の記憶装置に記憶された前記カバレッジポイント情報ファイルでは未通過を示している場合に通過を示す情報に書き換える更新処理を行なう第1番目のデータ処理部と、
    各描画データを前記第2の記憶装置から順次読み出し、当該第1番目のデータ処理時に前記第3の記憶装置に記憶された前記カバレッジポイント情報ファイルの更新処理で前記書き換えが行なわれた場合に当該第1番目のデータ処理が行なわれた描画データを検証する検証処理を前記転送処理と前記第1番目のデータ処理と前記検証処理とがパイプライン処理になるように行なう検証部と、
    各描画データを前記第2の記憶装置から順次読み出し、前記第1番目のデータ処理とは異なる第n番目(n≧2)のデータ処理を、前記転送処理と前記第1番目のデータ処理と前記検証処理と前記第n番目のデータ処理とがパイプライン処理になるように行なう第n番目のデータ処理部と、
    前記第1番目から第n番目のデータ処理と検証処理とが行なわれた各データを前記第2の記憶装置から読み出し、読み出された前記各データに基づいて制御された荷電粒子ビームを用いて試料に所定のパターンを描画する描画部と、
    を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
  2. 前記検証部は、前記更新処理で前記書き換えが行なわれなかった前記第1番目のデータ処理後の描画データに対して前記検証処理を行なわないことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。
  3. 前記検証部は、前記更新処理で前記書き換えが行なわれた前記第1番目のデータ処理後の描画データに対して当該第1番目のデータ処理前の設計データを用いて前記検証処理を行なうことを特徴とする請求項1又は2記載の荷電粒子ビーム描画装置。
  4. 前記転送処理部は、さらに、既に描画に使用された使用済み描画データを外部から前記第1の記憶装置に転送処理し、
    前記検証部は、前記更新処理で前記書き換えが行なわれた前記第1番目のデータ処理後の描画データに対して前記使用済み描画データを用いて前記検証処理を行なうことを特徴とする請求項1又は2記載の荷電粒子ビーム描画装置。
  5. パターンレイアウトが定義された所定の領域毎の複数の設計データファイルを外部から第1の記憶装置に順次転送処理する工程と、
    各設計データファイルを前記第1の記憶装置から順次読み出し、前記複数のカバレッジポイントが組み込まれたデータ変換プログラムを用いて各設計データファイル内の設計データを所定のフォーマットの描画データに変換する第1番目のデータ処理を前記転送処理とパイプライン処理になるように行ない、第1番目のデータ処理後の描画データを第2の記憶装置に記憶させ、前記第1番目のデータ処理をおこなった際に通過したカバレッジポイントについて、複数のカバレッジポイントと各カバレッジポイントの通過の有無を示す情報とが定義されたカバレッジポイント情報ファイルを記憶する第3の記憶装置に記憶された前記カバレッジポイント情報ファイルでは未通過を示している場合に通過を示す情報に書き換える更新処理を行なう工程と、
    各描画データを前記第2の記憶装置から順次読み出し、当該第1番目のデータ処理時に前記第3の記憶装置に記憶された前記カバレッジポイント情報ファイルの更新処理で前記書き換えが行なわれた場合に当該第1番目のデータ処理が行なわれた描画データを検証する検証処理を前記転送処理と前記第1番目のデータ処理と前記検証処理とがパイプライン処理になるように行なう工程と、
    各描画データを前記第2の記憶装置から順次読み出し、前記第1番目のデータ処理とは異なる第n番目(n≧2)のデータ処理を、前記転送処理と前記第1番目のデータ処理と前記検証処理と前記第n番目のデータ処理とがパイプライン処理になるように行なう工程と、
    前記第1番目から第n番目のデータ処理と検証処理とが行なわれた各データを前記第2の記憶装置から読み出し、読み出された前記各データに基づいて制御された荷電粒子ビームを用いて試料に所定のパターンを描画する工程と、
    を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001344302A (ja) * 2000-06-02 2001-12-14 Nec Corp 電子線露光装置用データの検証方法およびその検証装置
JP2006106865A (ja) * 2004-09-30 2006-04-20 Nec Corp 論理回路設計検証装置および方法、プログラム
JP2006190209A (ja) * 2005-01-07 2006-07-20 Fujitsu Ltd 検証支援プログラム、記録媒体、検証支援装置、および検証支援方法
JP2008034439A (ja) * 2006-07-26 2008-02-14 Nuflare Technology Inc 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001344302A (ja) * 2000-06-02 2001-12-14 Nec Corp 電子線露光装置用データの検証方法およびその検証装置
JP2006106865A (ja) * 2004-09-30 2006-04-20 Nec Corp 論理回路設計検証装置および方法、プログラム
JP2006190209A (ja) * 2005-01-07 2006-07-20 Fujitsu Ltd 検証支援プログラム、記録媒体、検証支援装置、および検証支援方法
JP2008034439A (ja) * 2006-07-26 2008-02-14 Nuflare Technology Inc 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法

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