JP5349880B2 - 描画方法 - Google Patents
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可変成形型電子線(EB:Electron beam)描画装置は、以下のように動作する。まず、第1のアパーチャ410には、電子線330を成形するための矩形例えば長方形の開口411が形成されている。また、第2のアパーチャ420には、開口411を通過した電子線330を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口421が形成されている。荷電粒子ソース430から照射され、開口411を通過した電子線330は、偏向器により偏向される。そして、可変成形開口421の一部を通過して、ステージ上に搭載されたレジスト材が塗布された試料に照射される。ステージは、描画中、所定の一方向(例えば、X方向とする)に連続的に移動している。このように、開口411と可変成形開口421との両方を通過できる矩形形状が、試料340の描画領域に描画される。開口411と可変成形開口421との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という。
描画データを外部から第1の記憶装置に転送すると共に、転送された描画データに対して第1のデータ処理を行ない、第1のデータ処理が終了した後に第1の記憶装置から描画データを読み出し、第2の記憶装置に転送するといった一連の転送処理を行なう工程と、
第2の記憶装置から描画データを読み出し、第2のデータ処理を行なうと共に、第2のデータ処理後のデータに基づいて、荷電粒子ビームを用いて試料にパターンを描画するといった一連の描画処理を行なう工程と、
描画データに対して、転送処理を実行するための転送処理予約を登録する工程と、
転送処理予約が登録された描画データとは異なる描画データに対して、転送処理と描画処理とを行うコマンドを登録する工程と、
を備え、
転送処理は、コマンドの登録と転送処理予約の登録との少なくとも一方に基づき行なわれ、
コマンドが登録された描画データに対する転送処理が行なわれていないときに、転送処理予約が登録された描画データに対して、前記転送処理が行なわれることを特徴とする。
図1は、実施の形態1における描画装置の構成を示す概念図である。
図1において、描画装置100は、描画部150、制御部160、搬出入口(I/F)120、ロードロックチャンバ130、ロボットチャンバ140、プリチャンバ146、及び真空ポンプ170を備えている。描画装置100は、荷電粒子ビーム描画装置の一例となる。そして、描画装置100は、試料101に所望するパターンを描画する。
搬出入口120に配置された試料101は、ゲートバルブ132を開けた後、搬送ロボット122によりロードロックチャンバ130内のステージに搬送される。そして、ゲートバルブ132を閉めた後、ゲートバルブ134を開けて、搬送ロボット143によりロボットチャンバ140を介してプリチャンバ146内のステージに搬送される。そして、プリチャンバ146内で試料101は待機され、その後、ゲートバルブ136を開けて、描画室103のXYステージ105上に搬送される。そして、ゲートバルブ136を閉めた後、XYステージ105上の試料101には所定のパターンが描画される。描画が終了すると、ゲートバルブ136を開けて、描画室103のXYステージ105から搬送ロボット143により試料101をロボットチャンバ140内に移動する。そして、ゲートバルブ136を閉めた後、ゲートバルブ134を開けて、搬送ロボット143により試料101はロードロックチャンバ130内のステージに搬送される。そして、ゲートバルブ134を閉めた後、ゲートバルブ132を開けて、搬送ロボット122により試料101は搬出入口120に搬出される。これらの動作の際、各チャンバ内の真空度が下がった場合にはその都度真空ポンプ170が作動し、真空度を維持する。或いは、バルブ172又はバルブ174が開閉し、作動中の真空ポンプ170によって真空引きされ、所望する真空度を維持する。
101,340 試料
102 電子鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
110 制御計算機
111 メモリ
112 転送処理部
114 データチェック部
116,124 データ処理部
120 搬出入口
122,143 搬送ロボット
126 描画制御部
130 ロードロックチャンバ
132,134,136 ゲートバルブ
140 ロボットチャンバ
141,142,144 磁気ディスク装置
146 プリチャンバ
150 描画部
160 制御部
170 真空ポンプ
172,174 バルブ
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203,410 第1のアパーチャ
204 投影レンズ
205,208 偏向器
206,420 第2のアパーチャ
207 対物レンズ
330 電子線
411 開口
421 可変成形開口
430 荷電粒子ソース
Claims (4)
- 描画データを外部から第1の記憶装置に転送すると共に、転送された描画データに対して第1のデータ処理を行ない、前記第1のデータ処理が終了した後に前記第1の記憶装置から描画データを読み出し、第2の記憶装置に転送するといった一連の転送処理を行なう工程と、
前記第2の記憶装置から描画データを読み出し、第2のデータ処理を行なうと共に、第2のデータ処理後のデータに基づいて、荷電粒子ビームを用いて試料にパターンを描画するといった一連の描画処理を行なう工程と、
描画データに対して、前記転送処理を実行するための転送処理予約を登録する工程と、
前記転送処理予約が登録された描画データとは異なる描画データに対して、前記転送処理と描画処理とを行うコマンドを登録する工程と、
を備え、
前記転送処理は、前記コマンドの登録と前記転送処理予約の登録との少なくとも一方に基づき行なわれ、
前記コマンドが登録された描画データに対する転送処理が行なわれていないときに、前記転送処理予約が登録された描画データに対して、前記転送処理が行なわれ、
前記転送処理予約は、前記描画処理にかかる時間よりも前記転送処理にかかる時間の方が長くかかる描画データに対して登録されることを特徴とする描画方法。 - 前記転送処理予約が登録された描画データに対して、前記転送処理が行なわれている間に、前記コマンドが登録された場合に、当該コマンドに基づく描画データに対する前記転送処理を優先して行なうことを特徴とする請求項1記載の描画方法。
- 前記転送処理予約は、複数の描画データに対して登録されることを特徴とする請求項1〜2いずれか記載の描画方法。
- 前記転送処理予約が登録された描画データに対する転送処理に基づいて前記第2の記憶装置に描画データが格納された結果、前記コマンドに基づく描画データを格納することができない場合に、前記第2の記憶装置に格納された前記転送処理予約に基づく描画データを削除することを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の描画方法。
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