JP2010256727A - 光記録媒体及び光記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】記録膜の特性を損ねずに、フォトンモードにて初期化フォーマットを行うことができる光記録媒体及びこの光記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】消去型マイクロリフレクター光記録媒体10は、ガラス基板14と、フォトンモードにより記録可能なホログラム記録膜からなる情報記録層12と、透明光学フィルム16と、UVカバー層18とを有し、ホログラム記録膜は厚さが150μm以上250μm以下とされていて、透明光学フィルム16は可視光域の透過率が95%以上とされ、厚さが50μm以上100μm以下とされている。
【選択図】図1
【解決手段】消去型マイクロリフレクター光記録媒体10は、ガラス基板14と、フォトンモードにより記録可能なホログラム記録膜からなる情報記録層12と、透明光学フィルム16と、UVカバー層18とを有し、ホログラム記録膜は厚さが150μm以上250μm以下とされていて、透明光学フィルム16は可視光域の透過率が95%以上とされ、厚さが50μm以上100μm以下とされている。
【選択図】図1
Description
この発明は、記録膜の特性を損なわずに初期化フォーマットを行うことが可能な光記録媒体及びこの光記録媒体の製造方法に関する。
特許文献1には、記録媒体にフォーマットホログラム(反射型ホログラム)を形成した後に、該フォーマットホログラムを局所的に変性することによって、反射率を変化させてビットバイビット記録をするデータ書き込みのシステム及び方法が開示されている。
特許文献1に記載の発明は、光記録媒体又は高分子積層体における記録再生時の層間でのクロストークの発生の防止を目的としている。
一方、ポリマー表面の改質や、有機無機ハイブリッド膜などへの利用として、ゾルゲル膜の利用が広がっている。なかでも、Tiアルコキシドは屈折率が高く光学的に有利であり、また、触媒作用を持つことからも表面改質用に利用される。一方、ZrアルコキシドもTiに次ぐ屈折率で光学的に有利な材料である。
これらの金属アルコキシドにSiアルコキシドを混合させて低温形成のゾルゲル膜とすることが、マイクロリフレクター記録媒体において検討されている。しかし、フォトンモードにて初期化フォーマットを行う際に、記録膜の特性を損ねてしまうという問題があった。
この発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであり、特許文献1に記載のような光記録媒体の記録膜の特性を損なわずに、フォトンモードにて初期化フォーマットを行うことができる光記録媒体及びこの光記録媒体の製造方法を提供することを課題とする。
本発明者等は、鋭意研究の結果、遷移金属アルコキシドにSiアルコキシドを結合させた複合体を用いる消去型マイクロリフレクター記録媒体において、記録膜の消衰係数kが10E−4であり、多層記録を行う媒体構成をなしうるとき、初期化フォーマットとして反射型ホログラムを形成する際に透明光学フィルムを記録膜の空気界面側に設けて行い、その後UV樹脂にてカバー層を形成させるようにすることで、記録膜の特性を損ねずに、フォトンモードにて初期化フォーマットを行うことができることを見出した。
即ち、以下の実施例により上記課題を解決することができる。
(1)フォトンモードにより記録可能な記録膜を有する光記録媒体であって、前記記録膜は、ホログラム記録膜であり、前記記録膜の光入射面側に透明な光学フィルムを有し、かつ、最も光入射面側にUVカバー層を有することを特徴とする光記録媒体。
(2)前記記録膜は、厚さが150μm以上250μm以下とされていることを特徴とする(1)に記載の光記録媒体。
(3)前記光学フィルムは可視光域の透過率が95%以上とされ、厚さが50μm以上100μm以下とされていることを特徴とする(1)または(2)に記載の光記録媒体。
(4)(1)乃至(3)のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法であって、支持基板へ前記記録膜を直接形成する形成工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
(5)(1)乃至(3)のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法であって、前記光学フィルム上に前記記録膜を形成する形成工程と、前記光学フィルムの、前記記録膜を形成した面を支持基板へ接着する接着工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
(6)前記記録膜の前記支持基板と反対側から光を照射して初期化を行う初期化工程とを含むことを特徴とする(4)または(5)に記載の光記録媒体の製造方法。
本発明によれば、記録膜の特性を損ねずに、フォトンモードにて初期化フォーマットを行うことができる光記録媒体及びこの光記録媒体の製造方法を提供することができる。
以下、図1を参照して、本発明の実施例1に係る消去型マイクロリフレクター光記録媒体10について詳細に説明する。
消去型マイクロリフレクター光記録媒体10は、光学デバイスの一種である透過型ホログラム記録媒体であり、情報記録層(ホログラム記録材料層)12が、支持基材としてのガラス基板14に支持されて構成されている。情報記録層12の図1において上側面(光入射面側)には透明光学フィルム16が形成され、透明光学フィルム16の図1において上側面、及び情報記録層12と透明光学フィルム16の側面にはUVカバー層18が形成されている。
情報記録層12は、有機金属マトリックス材料を含むゾル溶液と光重合性化合物とを混合して加水分解及び縮合反応を完結させたホログラム記録材料溶液をガラス基板14に塗布して得られたホログラム記録膜である。この記録膜の厚さは、150μm以上250μm以下とされている。情報記録層12には、フォーマット信号となる反射型ホログラムが形成される。
ガラス基板14は、情報記録層12を保持する支持基材であり、光が透過するようにされている。
透明光学フィルム16は、可視光域の透過率が95%以上とされ、厚さが50μm以上100μm以下とされている。
UVカバー層18は、UV樹脂膜からなり、情報記録層12を外部の環境から保護し、記録特性を損なわないようにされている。
消去型マイクロリフレクター光記録媒体10は、以下の方法で作製した。
テトラブトキシチタン〔Ti(OBu)4、 高純度化学製〕7.3gと、2−メチルペンタン−2,4−ジオール(東京化成製)5.04gとをn−ブタノール溶媒2mL中で室温にて混合し、10分間撹拌し、Ti(OBu)4/2−メチルペンタン−2,4−ジオール=1/2(モル比)の反応液を得た。この反応液にジフェニルジメトキシシラン〔Ph2Si(OMe)2 信越化学製〕5.2gを加え、Ti/Si=1/1(モル比)の金属アルコキシド溶液とした。
次に、水0.4mL、2N塩酸水溶液0.16mL及び溶媒エタノール2mLからなる溶液を、金属アルコキシド溶液に撹拌しながら室温で滴下し、30分撹拌を続け、加水分解反応および縮合反応を行い、ゾル溶液を得た。
次に、光重合性化合物としてポリエチレングリコールモノアクリレート(共栄社化学製:130A)100重量部に、光重合開始剤としてIRG−907(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)3重量部と、光増感剤として2,4−ジエチル−9H−チオキサンテン−9−オン 0.3重量部とを加え、光重合性化合物を含む混合物とした。
次に、不揮発分としてのマトリックス材料の割合が75重量部、光重合性化合物の割合が25重量部となるように、ゾル溶液と光重合性化合物の混合物とを室温にて混合し、遮光した状態で更に1時間、ゾル−ゲル反応を十分に進行させ、ホログラム記録材料溶液を得た。得られた溶液を遮光状態で80℃で過熱濃縮し、塗布用の溶液とした。
この溶液を、遮光状態のまま、図2(A)に示されるガラス基板14上へスピンコーターで塗布後、80℃オーブンで20時間乾燥して、記録膜厚40μmのホログラム記録材料層11を有する記録媒体を得た(図2(B))。
次に、図2(C)のように、得られた記録媒体のホログラム記録材料層11側の表面にポリカーボネートの透明光学フィルム16(t=100μm)を圧着させた。この後、図2(D)において矢印で示されるレーザー光(波長405nm)を、ホログラム記録材料層11のガラス基板14側からと、ホログラム記録材料層11のガラス基板14と反対側とから照射して干渉させ、情報記録層12を形成した(図2(E))。
次に、媒体全体を405nmのLEDでポストキュア(後露光)したのちに、図2(F)のようにUVカバー層18をスピンコートで成膜し、消去型マイクロリフレクター光記録媒体10を得た。
消去型マイクロリフレクター光記録媒体10のフォーマット信号形成を行なうための反射型ホログラム記録光学系80について、図3を参照して説明する。
この反射型ホログラム記録光学系80は、レーザー光を出射する外部共振型LD(以下ECLD)82と、このECLD82から出射されたレーザー光を略円形にビーム整形するアナモリフィックプリズム83と、光アイソレータ84と、光シャッター85と、光シャッター85を通過したレーザー光のビームプロファイルを改良するための、レンズ対86A、86B、その間のピンホール86Cからなる空間フィルタ86と、ミラー87と、このミラー87によって反射されたレーザビームの位相をシフトして、s偏光とする1/2波長板(以下HWP)88と、このS偏光ビームを2光束に分割するビームスプリッタ(以下BS)89と、BS89を透過したS偏光ビームをサンプルホルダー90に保持された消去型マイクロリフレクター光記録媒体(以下、フォーマット信号形成前の消去型マイクロリフレクター光記録媒体をサンプルと称する)10に向けて反射するミラー91Aと、BS89における反射光を、サンプルホルダー90のサンプル10に向けて前記と反対方向から入射するように反射するミラー91Bと、サンプルホルダー90とミラー91A及び91Bそれぞれの間に配置された2つのアパーチャ93A、93Bと、を備えて構成されている。
BS89とミラー91A、91Bとは、BS89から分割された2つの偏光ビームの、サンプルホルダー90までの光路長が等しく、且つ、2つの偏光ビームが情報記録層12内を相互に反対方向から貫通するように設定されている。
ECLD82から出射された楕円状レーザー光(波長405nm)は、アナモリフィックプリズム83を通して、略円状にビーム整形され、光アイソレータ84を通るようにされている。光アイソレータ84は、反射光がECLD82に戻り、レーザー発振が不安定になるのを防ぐために設けられている。
光アイソレータ84の通過光は、光シャッター85及び空間フィルタ86によりビームプロファイルを改良すると共に、ビーム径を広げ、約10φのビームとするようにされている。
ビームは、ミラー87により光路を曲げた後、HWP88により、偏光方向をS偏光とするようにされ、S偏光ビームは、BS89により2光束に分割するようにされている。
2光束は、それぞれ、ミラー91A、91Bで光路を曲げた後、アパーチャ93A、93Bで約4φのビーム径に絞り、媒体中でお互いに干渉することで反射型ホログラムを形成するようにされている。
ホログラム記録後、残留する未反応成分を反応させるため、波長400nmの青色LEDで十分な光を照射する。この際、照射光がコヒーレント性をもたないよう、透過率80%のアクリル樹脂製拡散版を介して露光した(これを、ポストキュアと呼ぶ)。
次に、消去型マイクロリフレクター光記録媒体10のフォーマット信号の再生を行なうための反射型ホログラム再生光学系100について、図4を参照して説明する。
この反射型ホログラム再生光学系100は、図3に示される反射型ホログラム記録光学系80に、一対の光検出器95A、95B、一対の偏光BS96A、96B、一対の1/4波長板97A、97B、及び、遮蔽板98を加え、且つ、ミラー91Aを除外したものと同等である。
他の構成は反射型ホログラム記録光学系80の構成と同一であるので、同一構成部分には図3と同一符号を付することにより説明を省略するものとする。
この反射型ホログラム再生光学系100においては、ミラー91Aとアパーチャ93Aとの間に、偏光BS96A、1/4波長板97Aがこの順で配置され、また、ミラー91Bとアパーチャ93Bとの間に、偏光BS96Bと1/4波長板97Bがこの順で配置され、光検出器95Aは、サンプル10を通過した光がサンプルホルダー90方向からアパーチャ93Aを通って偏光BS96Aに入射し、ここで反射されたレーザー光を受光するようにされている。
また、光検出器95Bは、サンプル10で反射した光がサンプルホルダー90方向からアパーチャ93Bを通って、偏光BS96Bに入射し、ここで反射されたレーザー光を受光するようにされている。
HWP88までの光路は、ホログラム形成時と同様である。
再生時には、HWP88で偏光方向をP偏光とするようにされ、また、BS89で分割した光の一方のみを使用するようにされている。他方の光路は、遮蔽板98のようなシャッタを用いて遮断される。
P偏光のBS89通過光は、偏光BS96Bを通過し、1/4波長板97Bを通ることで偏光方向を円偏光に変え、反射型ホログラムの形成された媒体へ照射するようにされている。照射光は、媒体法線方向から入射し、反射型ホログラムにより、反射光と透過光へ分離するようにされており、反射光、透過光共に、1/4波長板97B、97Aを再度通過することで、S偏光となるようにされている。
S偏光ビームは、偏光BS96B、96Aにより全て90°方向へ反射され、反射された光は、光検出器95B、95Aにより、それぞれの強度が検出される。透過光と反射光の和に対する、反射光の比を算出することで、形成された反射型ホログラムの反射率(回折効率)を求めることができる。
実施例1と同様に得られた記録材料の過熱濃縮溶液を、ポリカーボネートの透明光学フィルム(t=100μm)上に、バーコーターを用いて塗布し、80℃オーブンで20時間乾燥後40μmの記録膜を得た。
得られた膜を、打ち抜き、ガラス基板へ、UV硬化ではない接着層を介して記録膜を張り合わせホログラム記録材料層を有する記録媒体を得た。この記録媒体に反射型ホログラムを形成し、記録媒体全体を405nmのLEDでポストキュア(後露光)したのちにUVカバー層をスピンコートで成膜し、消去型マイクロリフレクター光記録媒体を得た。
光重合性化合物をポリエチレングリコールアクリルアミドとしたこと以外は、実施例1と同様にしてホログラム記録材料層を有する記録媒体を得た。この記録媒体に反射型ホログラムを形成し、記録媒体全体を405nmのLEDでポストキュア(後露光)したのちにUVカバー層をスピンコートで成膜し、消去型マイクロリフレクター光記録媒体を得た。
光重合性化合物をポリエチレングリコールアクリルアミドとしたこと以外は、実施例2と同様にホログラム記録材料層を有する記録媒体を得た。この記録媒体に反射型ホログラムを形成し、記録媒体全体を405nmのLEDでポストキュア(後露光)したのちにUVカバー層をスピンコートで成膜した、消去型マイクロリフレクター光記録媒体を得た。
[比較例1]
スピンコート膜上にポリカーボネートの光学フィルムを圧着しなかった以外は、実施例1と同様にホログラム記録材料層を有する記録媒体を形成し、反射型ホログラムを記録したところ、回折効率の小さい記録しか行えなかった。また、その記録媒体を405nmのLEDでポストキュア(後露光)したのちにUVカバー層をスピンコートで成膜すると、回折効率が大きく低下してしまった。
スピンコート膜上にポリカーボネートの光学フィルムを圧着しなかった以外は、実施例1と同様にホログラム記録材料層を有する記録媒体を形成し、反射型ホログラムを記録したところ、回折効率の小さい記録しか行えなかった。また、その記録媒体を405nmのLEDでポストキュア(後露光)したのちにUVカバー層をスピンコートで成膜すると、回折効率が大きく低下してしまった。
[比較例2]
反射型ホログラム形成後、405nmのLEDでポストキュアしたのちにUVカバー層を設けなかった以外は実施例1と同様に記録媒体を得た。
反射型ホログラム形成後、405nmのLEDでポストキュアしたのちにUVカバー層を設けなかった以外は実施例1と同様に記録媒体を得た。
実施例1乃至4、比較例1及び2の各記録媒体の初期の反射型ホログラムと、ポストキュア後の反射型ホログラムの変動(収縮要因)と、これらの記録媒体を80℃で50時間保存した後の反射型ホログラムを確認した結果を表1に示す。また、各項目の判断基準を表2乃至表4に示す。
表1に示されるように、実施例1の消去型マイクロリフレクター光記録媒体10及び実施例2の消去型マイクロリフレクター光記録媒体は、初期の回折効率は10%以上であり、ポストキュア後の回折効率は、初期の50%以上であり、80℃で50時間保存した後の回折効率は、保存開始時の80%以上であった。
実施例3及び実施例4の消去型マイクロリフレクター光記録媒体は、初期の回折効率は10%以上であり、ポストキュア後の回折効率は、初期の100%以上であり、80℃で50時間保存した後の回折効率は、保存開始時の80%以上であった。
これらに対して、比較例1の消去型マイクロリフレクター光記録媒体は、初期の回折効率は5%以上10%未満であり、ポストキュア後の回折効率は、初期の25%以上50%未満であり、80℃で50時間保存した後の回折効率は、保存開始時の50%以下であった。
比較例2の消去型マイクロリフレクター光記録媒体は、初期の回折効率は10%以上であり、ポストキュア後の回折効率は、初期の50%以上であったものの、80℃で50時間保存した後の回折効率は、保存開始時の50%以下であった。
以上の結果より、実施例1乃至4の、消去型マイクロリフレクター光記録媒体は、初期化フォーマット後にUV樹脂でUVカバー層が形成されることにより、信頼性が高くなっていることが分かった。
なお、消去型マイクロリフレクター光記録媒体10のUVカバー層18は、図5に示されるように、ガラス基板14の側面の少なくとも一部にも形成されるようにしてもよい。
また、消去型マイクロリフレクター光記録媒体の製造方法は、実施例記載の方法に限られない。例えば、図6に示されるようにしてもよい。
具体的には、図6(A)に示される透明光学フィルム16上に記録膜からなるホログラム記録材料層11を形成し(図6(B))、透明光学フィルム16の、ホログラム記録材料層11を形成した面をガラス基板14へ接着するようにしてもよい(図6(C))。この後、反射型ホログラムを形成し(図6(E))、媒体全体を405nmのLEDでポストキュア(後露光)したのちに、図6(F)のようにUVカバー層18をスピンコートで成膜し、消去型マイクロリフレクター光記録媒体10を得るようにしてもよい。
本発明は、例えば、消去型マイクロリフレクター光記録媒体等の光記録媒体に利用することができる。
10…消去型マイクロリフレクター光記録媒体
11…ホログラム記録材料層
12…情報記録層
14…ガラス基板
16…透明光学フィルム
18…UVカバー層
80…反射型ホログラム記録光学系
100…反射型ホログラム再生光学系
11…ホログラム記録材料層
12…情報記録層
14…ガラス基板
16…透明光学フィルム
18…UVカバー層
80…反射型ホログラム記録光学系
100…反射型ホログラム再生光学系
Claims (6)
- フォトンモードにより記録可能な記録膜を有する光記録媒体であって、
前記記録膜は、ホログラム記録膜であり、
前記記録膜の光入射面側に透明な光学フィルムを有し、かつ、最も光入射面側にUVカバー層を有することを特徴とする光記録媒体。 - 請求項1において、
前記記録膜は、厚さが150μm以上250μm以下とされていることを特徴とする光記録媒体。 - 請求項1または2において、
前記光学フィルムは可視光域の透過率が95%以上とされ、厚さが50μm以上100μm以下とされていることを特徴とする光記録媒体。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法であって、
支持基板へ前記記録膜を直接形成する形成工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法であって、
前記光学フィルム上に前記記録膜を形成する形成工程と、
前記光学フィルムの、前記記録膜を形成した面を支持基板へ接着する接着工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 請求項4または5において、
前記記録膜の前記支持基板と反対側から光を照射して初期化を行う初期化工程とを含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
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